輸出貿易管理令別表第一及び外国為替令別表の規定に基づき貨物又は技術を定める省令：見やすい法令データ

【法令番号：平成三年通商産業省令第四十九号】

【最終改正：令和7年11月14日経済産業省令第72号】

【xmlを表示】

【制定文】

輸出貿易管理令（昭和二十四年政令第三百七十八号）別表第一及び外国為替管理令（昭和五十五年政令第二百六十号）別表の規定に基づき、輸出貿易管理令別表第一及び外国為替管理令別表の規定に基づき貨物又は技術を定める省令を次のように制定する。

（輸出貿易管理令別表第一関係）

第一条輸出貿易管理令（以下「輸出令」という。）別表第一の二の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一核燃料物質又は核原料物質であって、次のいずれかに該当するもの

イウラン又はその化合物

ロトリウム又はその化合物

ハプルトニウム又はその化合物

ニイからハまでの貨物の一又は二以上を含むもの

二原子炉若しくはその部分品若しくは附属装置又は車両、船舶、航空機若しくは宇宙空間用若しくは打ち上げ用の飛しょう体の原子炉用に設計した発電若しくは推進のための装置

三重水素又は重水素化合物であって、重水素の原子数の水素の原子数に対する比率が五、〇〇〇分の一を超えるもの

四一キログラム以上の人造黒鉛であって、ほう素当量が全重量の一、〇〇〇、〇〇〇分の五未満で、かつ、二〇度の温度における見掛け比重が一・五〇を超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの

イ原子炉用のもの

ロ原子炉用に用いることができるもの（イに該当するものを除く。）

五放射線を照射した核燃料物質若しくは核原料物質の分離用若しくは再生用に設計した装置又はその部分品若しくは制御装置

六リチウムの同位元素の分離用の装置又は核燃料物質の成型加工用の装置

七ウラン若しくはプルトニウムの同位元素の分離用の装置であって、次のいずれかに該当するもの若しくはその附属装置又はこれらの部分品

イガス拡散法を用いるもの

ロ遠心分離法を用いるもの

ハノズル分離法を用いるもの

ニボルテックス法を用いるもの

ホ化学交換法を用いるもの

ヘレーザー分離法を用いるもの

トプラズマ法を用いるもの

チ電磁分離法を用いるもの

八周波数変換器又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イガス遠心分離機用の周波数変換器であって、次の（一）及び（二）に該当するもの又はその部分品

（一）出力が三相以上のものであって、周波数が六〇〇ヘルツ以上のもの

（二）出力周波数をプラスマイナス〇・二パーセント未満で制御できるもの

ロ可変周波数又は固定周波数モーター駆動に用いることができる周波数変換器であって、次の（一）から（三）までの全てに該当するもの（イに該当するもの及び産業機械又は消費財用の周波数変換器であって、当該機械等から取り外した場合には、ハードウェア及びソフトウェアの制限により次の（一）から（三）までのいずれかの特性を満たさなくなるものを除く。）

（一）出力が三相以上のものであって、四〇ボルトアンペア以上の出力を得ることができるもの

（二）六〇〇ヘルツ以上の出力周波数で作動するもの

（三）出力周波数をプラスマイナス〇・二パーセント未満で制御できるもの

九ニッケルの粉であって、径の平均値が一〇マイクロメートル未満で、かつ、重量比による純度が九九パーセント以上のもの又はこれを用いて製造した多孔質金属

十重水素若しくは重水素化合物の製造に用いられる装置又はその部分品若しくは附属装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ重水素若しくは重水素化合物の製造用の装置（濃縮用の装置を含む。）又はその部分品若しくは附属装置

ロ重水の製造に用いられる装置又はその部分品若しくは附属装置であって、次のいずれかに該当するもの（イに該当するものを除く。）

（一）削除

（二）低温で用いられる蒸留塔であって、次の１から４までの全てに該当するもの

１オーステナイト系ステンレス鋼又はこれと同等の材料であって、零下二五八度以上零下二三八度以下の温度範囲において水素ぜい性のないものを用いたもの

２内径が三〇センチメートル以上であり、かつ、有効長が四メートル以上のもの

３温度が零下二五八度以上零下二三八度以下で用いることができるように設計したもの

４〇・一メガパスカル以上一メガパスカル以下の圧力範囲において用いることができるように設計したもの

（三）真空蒸留用の塔に用いることができるように設計した充塡物であって、化学的にぬれ性を改善する処理を行ったりん青銅製のもののうち、メッシュ状のもの

（四）温度が零下二三八度以下で用いることができるように設計したターボエキスパンダであって、水素の排出量が一時間につき一、〇〇〇キログラム以上のもの

（五）削除

（六）カリウムアミドを含む液化アンモニアを循環させることができるポンプであって、次の１から３までのすべてに該当するもの

１気密な構造のもの

２一・五メガパスカル以上六〇メガパスカル以下の圧力範囲において用いることができるもの

３吐出し量が一時間につき八・五立方メートルを超えるもの

十の二三酸化ウラン、六ふっ化ウラン、二酸化ウラン、四ふっ化ウラン、金属ウラン若しくは四塩化ウランの製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの若しくはその附属装置又はこれらの部分品

イウラン精鉱を原料とする三酸化ウランの製造用の装置

ロ三酸化ウラン又は四ふっ化ウランを原料とする六ふっ化ウランの製造用の装置

ハ三酸化ウラン又は六ふっ化ウランを原料とする二酸化ウランの製造用の装置

ニ二酸化ウラン又は六ふっ化ウランを原料とする四ふっ化ウランの製造用の装置

ホ四ふっ化ウランを原料とする金属ウランの製造用の装置

ヘ二酸化ウランを原料とする四塩化ウランの製造用の装置

十の三二酸化プルトニウム、しゅう酸プルトニウム、過酸化プルトニウム、三ふっ化プルトニウム、四ふっ化プルトニウム若しくは金属プルトニウムの製造用の装置若しくはその附属装置又はこれらの部分品

十一しごきスピニング加工機又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イしごきスピニング加工機であって、数値制御装置又は電子計算機によって制御することができるもののうち、ローラの数が三以上のもの

ロ内径が七五ミリメートル超六五〇ミリメートル未満の円筒形のロータを成形することができるように設計したマンドレル

十二及び十三削除

十四工作機械（金属、セラミック又は複合材料を加工することができるものに限る。）であって、輪郭制御をすることができる軸数が二以上の電子制御装置を取り付けることができるもののうち、次のイからニまでのいずれかに該当するもの（ホに該当するものを除く。）

イ旋削をすることができる工作機械であって、次の（一）及び（二）に該当するもの（（三）に該当するものを除く。）

（一）国際標準化機構が定めた規格（以下「国際規格」という。）ＩＳＯ二三〇／二（一九八八）で定める測定方法により直線軸の全長について測定したときの位置決め精度が〇・〇〇六ミリメートル未満のもの

（二）直径が三五ミリメートルを超えるものを加工することができるもの

（三）棒材作業用の旋盤のうち、スピンドル貫通穴から材料を差し込み加工するものであって、次の１及び２に該当するもの

１加工できる材料の最大直径が四二ミリメートル以下のもの

２チャックを取り付けることができないもの

ロフライス削りをすることができる工作機械であって、次の（一）から（三）までのいずれかに該当するもの（（四）に該当するものを除く。）

（一）国際規格ＩＳＯ二三〇／二（一九八八）で定める測定方法により直線軸の全長について測定したときの位置決め精度が〇・〇〇六ミリメートル未満のもの

（二）輪郭制御をすることができる回転軸の数が二以上のもの

（三）輪郭制御をすることができる軸数が五以上のもの

（四）フライス盤であって、次の１及び２に該当するもの

１国際規格ＩＳＯ八四一（数値制御工作機械―座標軸及び運動の記号）で定めるＸ軸の方向の移動量が二メートルを超えるもの

２国際規格ＩＳＯ二三〇／二（一九八八）で定める測定方法により国際規格ＩＳＯ八四一で定めるＸ軸の全長について測定したときの位置決め精度が〇・〇三ミリメートルを超えるもの

ハ研削をすることができる工作機械であって、次の（一）から（三）までのいずれかに該当するもの（次の（四）又は（五）に該当するものを除く。）

（一）国際規格ＩＳＯ二三〇／二（一九八八）で定める測定方法により直線軸の全長について測定したときの位置決め精度が〇・〇〇四ミリメートル未満のもの

（二）輪郭制御をすることができる回転軸の数が二以上のもの

（三）輪郭制御をすることができる軸数が五以上のもの

（四）円筒外面研削盤、円筒内面研削盤又は円筒内外面研削盤であって、次の１及び２に該当するもの

１外径又は長さが一五〇ミリメートル以内のものを研削するように設計したもの

２国際規格ＩＳＯ八四一で定めるＸ軸、Ｚ軸及びＣ軸のみを有するもの

（五）ジグ研削盤であって、次の１及び２のいずれにも該当しないもの

１国際規格ＩＳＯ八四一で定めるＺ軸を有するもののうち、国際規格ＩＳＯ二三〇／二（一九八八）で定める測定方法により当該Ｚ軸の全長について測定したときの位置決め精度が〇・〇〇四ミリメートル未満のもの

２国際規格ＩＳＯ八四一で定めるＷ軸を有するもののうち、国際規格ＩＳＯ二三〇／二（一九八八）で定める測定方法により当該Ｗ軸の全長について測定したときの位置決め精度が〇・〇〇四ミリメートル未満のもの

ニ放電加工（ワイヤ放電加工を除く。）をすることができる工作機械であって、輪郭制御をすることができる回転軸の数が二以上のもの

ホ工作機械であって、次のいずれかを製造するためのみに設計したもの

（一）歯車

（二）クランク軸又はカム軸

（三）工具又は刃物

（四）押出機のウォーム

十五及び十六削除

十七測定装置（工作機械であって、測定装置として使用することができるものを含む。）であって、次のいずれかに該当するもの（第十四号に該当するものを除く。）

イ電子計算機又は数値制御装置により制御される測定装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）測定軸の数が二であって、国際規格で定める測定方法によりそれぞれの軸の測定精度を測定した場合に、操作範囲内のいずれかの測定点において、測定軸のマイクロメートルで表した最大許容長さ測定誤差の数値がミリメートルで表した当該測定軸の長さに〇・〇〇一を乗じて得た数値に一・二五を加えた数値以下となるもの

（二）測定軸の数が三以上であって、国際規格で定める測定方法により空間の測定精度を測定した場合に、操作範囲内のいずれかの測定点において、測定軸のマイクロメートルで表した最大許容長さ測定誤差の数値がミリメートルで表した当該測定軸の長さに〇・〇〇一二五を乗じて得た数値に一・七を加えた数値以下となるもの

ロ直線上の変位を測定するものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）非接触型の測定装置であって、〇・二ミリメートルまでの測定レンジにおいて、分解能が〇・二マイクロメートル以下のもの

（二）線形可変差動変圧器（ＬＶＤＴ）を用いた測定装置であって、次の１及び２に該当するもの

１線形可変差動変圧器（ＬＶＤＴ）が次のいずれかに該当するもの

一最大の作動範囲がプラスマイナス五ミリメートル以下のものであって、〇から最大の作動範囲における直線性が〇・一パーセント以下のもの

二最大の作動範囲がプラスマイナス五ミリメートルを超えるものであって、〇からプラスマイナス五ミリメートルにおける直線性が〇・一パーセント以下のもの

２一九度以上二一度以下の温度範囲において測定した場合に、ドリフトが二四時間当たり〇・一パーセント以下のもの

（三）次の１及び２に該当するもの（フィードバック機能を有しない干渉計であって、レーザーを用いて工作機械、測定装置又はこれらに類するもののスライド運動誤差を測定するものを除く。）

１レーザー光を用いて測定することができるもの

２一九度以上二一度以下の温度範囲において、次の一及び二の特性を一二時間維持することができるもの

一測定できる最大の測定レンジにおいて、分解能が〇・一マイクロメートル以下のもの

二測定範囲内のいずれか一の点において、空気屈折率で補正した場合に、測定軸のマイクロメートルで表した測定の不確かさの数値がミリメートルで表した当該測定軸の長さに〇・〇〇〇五を乗じて得た数値に〇・二を加えた数値以下のもの

ハ角度の変位を測定するものであって、角度位置の偏差の最大値が〇・〇〇〇二五度以下のもの（平行光線を用いて鏡の角度の変位を測定する光学的器械（オートコリメータを含む。）を除く。）

ニ曲面形状を有するものの長さ及び角度を同時に測定することができる測定装置であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）測定軸の測定の不確かさの数値が測定距離五ミリメートル当たり三・五マイクロメートル以下のもの

（二）角度位置の偏差の最大値が〇・〇二度以下のもの

十八誘導炉、アーク炉若しくはプラズマ若しくは電子ビームを用いた溶解炉又はこれらの部分品若しくは附属装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ真空誘導炉若しくは不活性ガスを用いる誘導炉（半導体ウエハーの加工用のものを除く。）であって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの又はこれらの電源装置であって、出力が五キロワット以上のもの

（一）炉の内部を八五〇度を超える温度にすることができるもの

（二）直径が六〇〇ミリメートル以下の誘導コイルを有するもの

（三）電源装置からの入力が五キロワット以上のもの

ロアーク溶解炉、アーク再溶解炉又はアーク溶解鋳造炉であって、真空中若しくは不活性ガス中で金属を溶解して鋳造するもののうち、容量が一、〇〇〇立方センチメートル超二〇、〇〇〇立方センチメートル未満の消耗電極を有し、かつ、一、七〇〇度を超える温度で金属を溶解することができるもの

ハ電子ビーム溶解炉、プラズマアトマイズ炉又はプラズマ溶解炉であって、真空中若しくは不活性ガス中で金属を溶解して鋳造するもののうち、出力が五〇キロワット以上で、かつ、一、二〇〇度を超える温度で金属を溶解することができるもの

ニロ又はハに該当する炉用の電子計算機を用いた制御装置又は監視装置

ホハに該当する炉用に特に設計されたプラズマトーチであって、出力が五〇キロワット以上のもののうち、一、二〇〇度を超える温度で金属を溶解することができるもの

ヘハに該当する炉用に特に設計された電子ビーム銃であって、出力が五〇キロワット以上のもの

十九アイソスタチックプレスであって、次のイ及びロに該当するもの又はその制御装置若しくは当該アイソスタチックプレスに用いることができるように設計した型

イ最大圧力が六九メガパスカル以上のもの

ロ中空室の内径が一五二ミリメートルを超えるもの

二十ロボット（操縦ロボット及びシーケンスロボットを除く。）若しくはエンドエフェクターであって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの制御装置

イ産業標準化法（昭和二十四年法律第百八十五号）に基づく日本産業規格（以下単に「日本産業規格」という。）Ｃ六〇〇七九―〇号（爆発性雰囲気で使用する電気機械器具―第〇部：一般要件）で定める防爆構造のもの（塗装用のものを除く。）

ロ全吸収線量がシリコン換算で五〇、〇〇〇グレイを超える放射線照射に耐えることができるように設計したもの

二十一振動試験装置又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イデジタル制御方式であり、かつ、電動式の振動試験装置であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）試験体がない状態における加振力が五〇キロニュートン以上のものであって、二〇ヘルツ超二、〇〇〇ヘルツ未満の周波数範囲で加速度の実効値が九八メートル毎秒毎秒以上の振動を発生させることができるもの

（二）フィードバック制御技術又は閉ループ制御技術を用いたもの

ロ振動試験装置の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）イに該当する振動試験装置の制御に使用するように設計した部分品であって、振動試験用のプログラムを用いたものであり、かつ、五キロヘルツを超える帯域幅で実時間での振動試験をデジタル制御するもの

（二）イに該当する振動試験装置に使用することができる振動発生機であって、試験体がない状態における加振力が五〇キロニュートン以上のもの

（三）イに該当する振動試験装置に使用することができる振動台又は振動発生装置の部分品であって、試験体がない状態における加振力が五〇キロニュートン以上となる振動を発生させるために二台以上の振動発生機を接続して使用するように設計したもの

二十二ガス遠心分離機のロータに用いられる構造材料であって、次のいずれかに該当するもの

イアルミニウム合金（鍛造したものを含む。）であって、引張強さが二〇度の温度において四六〇メガパスカル以上となるもののうち、外径が七五ミリメートルを超える棒又は円筒形のもの

ロ炭素繊維、アラミド繊維若しくはガラス繊維、炭素繊維若しくはガラス繊維を使用したプリプレグ又は炭素繊維若しくはアラミド繊維を使用した成型品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）炭素繊維又はアラミド繊維であって、次のいずれかに該当するもの

１比弾性率が一二、七〇〇、〇〇〇メートル以上のもの

２比強度が二三五、〇〇〇メートル以上のもの

（二）ガラス繊維であって、次の１及び２に該当するもの

１比弾性率が三、一八〇、〇〇〇メートル以上のもの

２比強度が七六、二〇〇メートル以上のもの

（三）（一）又は（二）に該当する炭素繊維又はガラス繊維に熱硬化性樹脂を含浸したプリプレグであって、次のいずれかに該当するもの

１繊維状のもの

２幅が一五ミリメートル以下のテープ状のもの

（四）（一）に該当する繊維又は（三）に該当するプリプレグ（炭素繊維を使用したものに限る。）を用いた円筒形の成型品であって、内径が七五ミリメートル超六五〇ミリメートル未満、かつ、厚さが一二ミリメートル以下のもの

ハマルエージング鋼であって、引張強さが二〇度の温度において一、九五〇メガパスカル以上となるもののうち、寸法の最大値が七五ミリメートルを超えるもの

ニチタン合金（鍛造したものを含む。）であって、引張強さが二〇度の温度において九〇〇メガパスカル以上となるもののうち、外径が七五ミリメートルを超える棒又は円筒形のもの

二十三ベリリウム若しくはベリリウム合金（ベリリウムの含有量が全重量の五〇パーセントを超えるものに限る。）の地金若しくはくず若しくはベリリウム化合物又はこれらの半製品若しくは一次製品

二十四核兵器の起爆用のアルファ線源に用いられる物質又はその原料となる物質であって、次のいずれかに該当するもの

イ重量比による純度が九九・九九パーセント以上のビスマスであって、銀の含有量が全重量の〇・〇〇一パーセント未満のもの

ロラジウム二二六、ラジウム二二六合金、ラジウム二二六化合物若しくはラジウム二二六混合物又はこれらの半製品若しくは一次製品（医療用装置に組み込まれたもの及び装置に内蔵されたものであって一装置当たりの放射能の総量が〇・三七ギガベクレル未満のものを除く。）

ハアルファ中性子反応により中性子源を発生させるに適した放射性核種又はその化合物若しくは混合物（装置に内蔵された化合物又は混合物であって、一装置当たりの崩壊による放射能の総量が三・七ギガベクレル未満のものを除く。）であって、一キログラム当たりの崩壊による放射能の総量が三七ギガベクレル以上のもの

二十五ほう素、ほう素化合物若しくはほう素混合物又はこれらの半製品若しくは一次製品であって、ほう素一〇のほう素一〇及びほう素一一に対する比率が天然の比率を超えて濃縮されたほう素から構成されるもの又はそのほう素を含むもの

二十六核燃料物質の製造用の還元剤又は酸化剤として用いられる物質であって、次のいずれかに該当するもの

イカルシウムであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）カルシウム又はマグネシウム以外の金属の含有量が全重量の〇・一パーセント未満のもの

（二）ほう素の含有量が全重量の〇・〇〇一パーセント未満のもの

ロ三ふっ化塩素

ハマグネシウムであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）マグネシウム又はカルシウム以外の金属の含有量が全重量の〇・〇二パーセント未満のもの

（二）ほう素の含有量が全重量の〇・〇〇一パーセント未満のもの

二十七アクチニドに対して耐食性のある材料を用いたるつぼであって、次のいずれかに該当するもの

イ容量が〇・一五リットル超八リットル未満のるつぼであって、次のいずれかに該当する材料若しくはこれらを組み合わせたもの（不純物の総重量の当該るつぼの総重量に対する割合が二パーセント以下のものに限る。）からなるもの又はその材料により被覆されたもの

（一）ふっ化カルシウム

（二）メタジルコン酸カルシウム

（三）硫化セリウム

（四）酸化エルビウム

（五）酸化ハフニウム

（六）酸化マグネシウム

（七）ニオブ、チタン及びタングステンからなる合金であって、窒化したもの

（八）酸化イットリウム

（九）酸化ジルコニウム

ロ容量が〇・〇五リットル超二リットル未満のるつぼであって、重量比による純度が九九・九パーセント以上のタンタル製のもの又はそのタンタルで裏打ちされたもの

ハ容量が〇・〇五リットル超二リットル未満のるつぼであって、重量比による純度が九八パーセント以上のタンタル製のもの又はそのタンタルで裏打ちされたもののうち、タンタルの炭化物、窒化物、ほう化物又はこれらのいずれかを組み合わせたもので被覆されたもの

二十八ハフニウム若しくはハフニウム合金（ハフニウムの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。）の地金若しくはくず若しくはハフニウム化合物（ハフニウムの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。）又はこれらの半製品若しくは一次製品

二十九リチウム若しくはリチウム合金の地金若しくはくず若しくはリチウム化合物若しくはリチウム混合物又はこれらの半製品若しくは一次製品であって、リチウム六のリチウム六及びリチウム七に対する比率が天然の比率を超えて濃縮されたリチウムから構成されるもの又はそのリチウムを含むもの（熱ルミネセンス線量計に組み込まれたリチウム化合物又はリチウム混合物を除く。）

三十タングステン、タングステンの炭化物又はタングステンの含有量が全重量の九〇パーセントを超える合金であって、質量が二〇キログラムを超え、かつ、内径が一〇〇ミリメートル超三〇〇ミリメートル未満の円筒形のもの若しくは中空の半球形のもの又はこれらを組み合わせたもの（おもり又はガンマ線のコリメータ用に設計されたものを除く。）

三十一ジルコニウム若しくはジルコニウム合金（ジルコニウムの含有量が全重量の五〇パーセントを超えるものに限る。）の地金若しくはくず若しくはジルコニウム化合物（ハフニウムの含有量がジルコニウムの含有量の五〇〇分の一未満のものに限る。）又はこれらの半製品若しくは一次製品（厚さが〇・一ミリメートル以下のはくを除く。）

三十二ふっ素製造用の電解槽であって、製造能力が一時間当たり二五〇グラムを超えるもの

三十三ガス遠心分離機のロータの製造用若しくは組立用の装置又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イガス遠心分離機のロータのチューブ、バッフル及びエンドキャップの組立用の装置

ロガス遠心分離機のロータのチューブの中心軸を調整するための装置

ハ次の（一）から（三）までのすべてに該当するベローズ（アルミニウム合金、マルエージング鋼又は繊維で強化した複合材料からなるものに限る。）の製造用のマンドレル又は型

（一）内径が七五ミリメートル超六五〇ミリメートル未満のもの

（二）溝のピッチが一二・七ミリメートル以上のもの

（三）溝の深さが二ミリメートルを超えるもの

三十四遠心力式釣合い試験機（一面釣合い試験機を除く。）であって、次のいずれかに該当するもの（第三条第十七号の三ロに該当するものを除く。）

イ長さが六〇〇ミリメートル以上の弾性ロータを試験することができるように設計したものであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）外径が七五ミリメートルを超える弾性ロータを試験することができるもの又はジャーナルの径が七五ミリメートルを超えるもの

（二）重量が〇・九キログラム以上二三キログラム以下の弾性ロータを試験することができるもの

（三）一分につき五、〇〇〇回転を超える回転数で試験することができるもの

ロ円筒形のロータを試験することができるように設計したものであって、次の（一）から（四）までの全てに該当するもの

（一）ジャナールの径が七五ミリメートルを超えるもの

（二）重量が〇・九キログラム以上二三キログラム以下のロータを試験することができるもの

（三）修正面上の到達最小比不釣合いが一キログラム当たり一〇グラムミリメートル以下のもの

（四）ベルト駆動式のもの

三十五フィラメントワインディング装置であって、次のイ及びロに該当するもの又はその制御装置若しくはマンドレル

イ繊維を位置決めし、包み及び巻く作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる軸数が二以上のもの

ロ内径が七五ミリメートル超六五〇ミリメートル未満であって、かつ、長さが三〇〇ミリメートル以上の円筒形のチューブを製造することができるもの

三十六ガスレーザー発振器、固体レーザー発振器又は色素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

イ五〇〇ナノメートル超六〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した金属蒸気レーザー発振器（銅レーザー発振器に限る。）であって、平均出力が三〇ワット以上のもの

ロ四〇〇ナノメートル超五一五ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したアルゴンイオンレーザー発振器であって、平均出力が四〇ワットを超えるもの

ハ九、〇〇〇ナノメートル超一一、〇〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した二酸化炭素レーザー発振器であって、パルスを発振するように設計したもののうち、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの

（二）平均出力が五〇〇ワットを超えるもの

（三）パルス幅が二〇〇ナノ秒未満のもの

ニ二四〇ナノメートル超三六〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したエキシマレーザー発振器であって、パルスを発振するように設計したもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの

（二）平均出力が五〇〇ワットを超えるもの

ホ一六マイクロメートルの波長で用いるように設計したパラ水素を用いたラマンレーザー発振器であって、パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの

ヘ七二〇ナノメートル超八〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したアレキサンドライトレーザー発振器であって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）パルス繰返し周波数が一二五ヘルツを超えるもの

（二）平均出力が三〇ワットを超えるもの

（三）レーザー光のスペクトル線幅が〇・〇〇五ナノメートル以下のもの

ト一、〇〇〇ナノメートル超一、一〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したネオジムを添加した固体レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの（ネオジムガラスレーザー発振器を除く。）

（一）パルス励起及びキュースイッチを用いたものであって、一ナノ秒以上のパルス幅のパルスを発振するもののうち、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードのパルスを発振するものであって、平均出力が四〇ワットを超えるもの

２多重横モードのパルスを発振するものであって、平均出力が五〇ワットを超えるもの

（二）波長範囲が五〇〇ナノメートル超五五〇ナノメートル未満で、かつ、平均出力が四〇ワットを超える第二高調波を発生するように設計したもの

チ三〇〇ナノメートル超八〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した色素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

（一）単一モードのパルスを発振する波長可変レーザー発振器（レーザー光の増幅のみを行う装置を除く。）であって、次の１から３までのすべてに該当するもの

１パルス繰返し周波数が一キロヘルツを超えるもの

２平均出力が一ワットを超えるもの

３パルス幅が一〇〇ナノ秒未満のもの

（二）パルスを発振する波長可変レーザー発振器であって、次の１から３までのすべてに該当するもの（（一）に該当するものを除く。）

１パルス繰返し周波数が一キロヘルツを超えるもの

２平均出力が三〇ワットを超えるもの

３パルス幅が一〇〇ナノ秒未満のもの

リ五、〇〇〇ナノメートル超六、〇〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した一酸化炭素レーザー発振器であって、パルスを発振するように設計したもののうち、次の（一）から（三）までの全てに該当するもの

（一）パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの

（二）平均出力が二〇〇ワットを超えるもの

（三）パルス幅が二〇〇ナノ秒未満のもの

三十七質量分析計であって、統一原子質量単位で表した質量が二三〇以上のイオンを測定することができ、かつ、二三〇における原子質量の差が二未満のイオンを区別することができる分解能のもののうち、次のイからホまでのいずれかに該当するもの（ヘに該当するものを除く。）又は当該質量分析計に用いることができるイオン源

イ誘導結合プラズマを用いたもの

ログロー放電を用いたもの

ハ熱電離を用いたもの

ニ分析される物質に電子を衝突させてイオン化するイオン源を有するものであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）電子ビームを用いて分子がイオン化されるイオン源領域に、分析される物質の分子の平行ビームを照射する装置を有するもの

（二）分析される物質の分子の平行ビーム中の電子ビームを用いてイオン化されない分子を捕捉するため、零下八〇度以下の温度となることができるコールドトラップを一以上有するもの

ホアクチニド又はそのふっ化物のイオン化用に設計したイオン源を有するもの

ヘ次の（一）から（五）までの全てに該当するもの

（一）原子質量単位で表した質量が三二〇以上のイオンを測定することができるものであって、原子質量単位での分解能が三二〇を超えるもの

（二）イオン源が、ニッケル、ニッケルの含有量が全重量の六〇パーセント以上のニッケル銅合金又はニッケルクロム合金で作られた又はこれらの材料で保護されたもの

（三）分析される物質に電子を衝突させてイオン化するイオン源を有するもの

（四）同位元素の分析に用いることができるコレクタを有するもの

（五）六ふっ化ウランのガスの流れを止めずに試料を採取することができるように設計したもの

三十八圧力計又はベローズ弁であって、次のいずれかに該当するもの

イ絶対圧力を測定することができる圧力計であって、次の（一）から（三）まで（センサを密閉するためのシールを用いていないものについては、（二）を除く。）の全てに該当するもの

（一）アルミニウム、アルミニウム合金、酸化アルミニウム、ニッケル、ニッケルの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるニッケル合金若しくはふっ素化炭化水素ポリマーで作られた又はこれらの材料で保護されたセンサを用いたもの

（二）センサを密閉するために必要不可欠であり、内容物と直接接触し、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化アルミニウム、ニッケル、ニッケルの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるニッケル合金若しくはふっ素化炭化水素ポリマーで作られた又はこれらの材料で保護されたシールを用いたもの

（三）次のいずれかに該当するもの

１フルスケールが一三キロパスカル未満であるとき、いずれかのフルスケールにおいて、精度がフルスケールのプラスマイナス一パーセント未満のもの

２フルスケールが一三キロパスカル以上であるとき、一三キロパスカルにおいて、精度がプラスマイナス一三〇パスカル未満のもの

ロベローズ弁であって、呼び径が五Ａ以上のもののうち、内容物と接触する全ての部分がアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル又はニッケル合金（ニッケルの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。）で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

三十九ソレノイドコイル形の超電導電磁石であって、次のイからニまでのすべてに該当するもの（医療用の磁気共鳴イメージング装置に用いるように設計したものを除く。）

イ磁束密度が二テスラを超えるもの

ロコイルの長さを内径で除した値が二を超えるもの

ハコイルの内径が三〇〇ミリメートルを超えるもの

ニコイルの軸の中心部分を中心として内径の三五パーセントを半径とする円であって、コイルの軸に垂直なものの範囲において、磁界の均一性が一パーセント未満のもの

四十真空ポンプであって、吸気口の内径が三八センチメートル以上のもののうち、排気速度が一秒当たり一五、〇〇〇リットル以上で、かつ、到達圧力が一三・三ミリパスカル未満のもの

四十の二スクロール型圧縮機又はスクロール型真空ポンプであって、ベローズシールを用いたもののうち、次のイからハまでの全てに該当するもの

イ吸気量を一時間あたり五〇立方メートル以上とすることができるもの

ロ圧力比を二以上とすることができるもの

ハプロセスガスに接触する全ての面が次のいずれかの材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

（一）アルミニウム又はアルミニウム合金

（二）酸化アルミニウム

（三）ステンレス鋼

（四）ニッケル又はニッケル合金

（五）燐りん青銅

（六）ふっ素重合体

四十一直流の電源装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ出力電流が五〇〇アンペア以上のもののうち、電流又は電圧の変動率が〇・一パーセント未満で、かつ、出力電圧が一〇〇ボルト以上の状態で連続八時間を超えて使用することができるもの

ロ出力電圧が二〇、〇〇〇ボルト以上のもののうち、電流又は電圧の変動率が〇・一パーセント未満で、かつ、出力電流が一アンペア以上の状態で連続八時間を超えて使用することができるもの

四十二電子加速器又はフラッシュ放電型のエックス線装置であって、次のいずれかに該当するもの（電子顕微鏡の部分品又は医療用装置を除く。）

イ電子の運動エネルギーのせん頭値が〇・五メガ電子ボルト以上二五メガ電子ボルト未満であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ビームのパルスの持続時間が一マイクロ秒以下であって、一、七〇〇にメガ電子ボルトで表した電子の運動エネルギーのせん頭値の二・六五乗を乗じたものに、クーロンで表した加速された電子の全電荷量を乗じた値が〇・二五以上のもの

（二）ビームのパルスの持続時間が一マイクロ秒を超えるものであって、一、七〇〇にメガ電子ボルトで表した電子の運動エネルギーのせん頭値の二・六五乗を乗じたものに、クーロンで表した一マイクロ秒の間に加速することができる電荷量の最大値を乗じた値が〇・二五以上のもの

ロ電子の運動エネルギーのせん頭値が二五メガ電子ボルト以上であって、せん頭出力が五〇メガワットを超えるもの

四十三発射体の速度の最大値を一秒につき一・五キロメートル以上にすることができる衝撃試験機

四十四高速度の撮影が可能なカメラ又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イストリークカメラ又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ストリークカメラであって、撮影速度が一マイクロ秒につき〇・五ミリメートルを超えるもの

（二）電子式のストリークカメラであって、時間分解能が五〇ナノ秒以下のもの

（三）（二）に該当するカメラ用のストリーク管

（四）モジュール式の構造を有するストリークカメラに用いるために設計したプラグインユニットであって、（一）又は（二）に該当する貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要なもの

（五）（一）に該当するカメラ用に設計したタービン、反射鏡及び軸受で構成される回転反射鏡の組立品又は同期電子装置

ロフレーミングカメラ又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）フレーミングカメラであって、撮影速度が一秒につき二二五、〇〇〇こまを超えるもの

（二）フレーミングカメラであって、シャッター速度が五〇ナノ秒以下のもの

（三）（一）又は（二）に該当するカメラ用に設計したフレーミング管又は固体撮像素子であって、シャッター速度が五〇ナノ秒以下のもの

（四）モジュール式の構造を有するフレーミングカメラに用いるために設計したプラグインユニットであって、（一）又は（二）に該当する貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要なもの

（五）（一）又は（二）に該当するカメラ用に設計したタービン、反射鏡及び軸受で構成される回転反射鏡の組立品又は同期電子装置

ハ固体カメラ若しくは電子管カメラ又はこれらの部分品であって、次のいずれかに該当するもの（イ又はロに該当するものを除く。）

（一）固体カメラ又は電子管カメラであって、シャッター速度が五〇ナノ秒以下のもの

（二）（一）に該当するカメラ用に設計した固体撮像素子又はイメージ増強管であって、シャッター速度が五〇ナノ秒以下のもの

（三）カーセル又はポッケルスセルを用いた電気制動シャッターであって、シャッター速度が五〇ナノ秒以下のもの

（四）モジュール式の構造を有するカメラに使用するために設計したプラグインユニットであって、（一）に該当する貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要なもの

四十五流体の速度を測定するための干渉計又は流体の圧力を測定することができる圧力測定器若しくは水晶圧電型圧力センサを用いた圧力変換器であって、次のいずれかに該当するもの

イ流体の速度を測定するための干渉計であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）一秒につき一キロメートルを超える速度を測定することができるもの

（二）一〇マイクロ秒未満の間隔で速度を測定することができるもの

ロ一〇ギガパスカルを超える衝撃圧力を測定することができる圧力測定器

ハ一〇ギガパスカルを超える圧力を測定することができる水晶圧電型圧力センサを用いた圧力変換器

四十六三個以上の電極を有する冷陰極管であって、次のイからハまでのすべてに該当するもの

イせん頭陽極電圧が二、五〇〇ボルト以上のもの

ロせん頭陽極電流が一〇〇アンペア以上のもの

ハ陽極遅延時間が一〇マイクロ秒以下のもの

四十七トリガー火花間げきであって、陽極遅延時間が一五マイクロ秒以下のもののうち、せん頭電流が五〇〇アンペア以上のもの

四十八スイッチングを行う機能を有する組立品であって、次のイからハまでのすべてに該当するもの

イせん頭陽極電圧が二、〇〇〇ボルトを超えるもの

ロせん頭陽極電流が五〇〇アンペア以上のもの

ハターンオン時間が一マイクロ秒以下のもの

四十九パルス用コンデンサであって、次のいずれかに該当するもの

イ定格電圧が一、四〇〇ボルトを超えるものであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）総エネルギーが一〇ジュールを超えるもの

（二）公称静電容量が〇・五マイクロファラドを超えるもの

（三）直列インダクタンスが五〇ナノヘンリー未満のもの

ロ定格電圧が七五〇ボルトを超えるものであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）公称静電容量が〇・二五マイクロファラドを超えるもの

（二）直列インダクタンスが一〇ナノヘンリー未満のもの

五十パルス発生器又はキセノンせん光ランプの発光装置であって、次のいずれかに該当するもの

イモジュール方式のパルス発生器又はキセノンせん光ランプの発光装置であって、次の全てに該当するもの

（一）四〇オーム未満の抵抗負荷に対して一五マイクロ秒未満の時間でパルスを供給することができるもの

（二）出力が一〇〇アンペアを超えるもの

（三）寸法の最大値が三〇センチメートル以下のもの

（四）重量が三〇キログラム未満のもの

（五）零下五〇度より低い温度から一〇〇度を超える温度まで用いることができるように設計したもの又は宇宙で用いることができるように設計したもの

ロパルス発生器又はパルスヘッドであって、五五オーム未満の抵抗負荷に対して六ボルトを超える電圧のパルスを発生し、かつ、五〇〇ピコ秒未満のパルス立上がり時間を要するもの（イに該当するものを除く。）

五十一雷管の部分品であって、次の全てに該当するもの

イ電気信号により火薬類の起爆を制御することができるもの

ロストリップラインの構造を有するもの

ハ定格電圧が二キロボルトを超えるもの

ニインダクタンスパスが二〇ナノヘンリー未満のもの

五十二光電子増倍管であって、光電陰極の面積が二〇平方センチメートルを超えるもののうち、陽極パルス立上がり時間が一ナノ秒未満のもの

五十三トリチウム又は重水素と重水素との核反応による静電加速型の中性子発生装置であって、次のいずれかに該当するもの

イトリチウムと重水素との核反応による静電加速型の中性子発生装置であって、真空ポンプを使用しないで操作できるように設計したもの

ロ重水素と重水素との核反応による静電加速型の中性子発生装置であって、一秒につき三ギガ以上の中性子を生産できるもののうち、真空ポンプを使用しないで操作できるように設計したもの

五十四放射線被ばくの防止のために用いられる遠隔操作のマニピュレーターであって、厚さ〇・六メートル以上の放射線を遮へいする壁を隔てて操作することができるもの

五十五放射線を遮へいするように設計した窓であって、次のイからハまでのすべてに該当するもの又はその窓枠

イコールドエリア側に露出する面の面積が〇・〇九平方メートルを超えるもの

ロ密度が一立方センチメートル当たり三グラムを超える材料を用いたもの

ハ厚さが一〇〇ミリメートル以上のもの

五十六放射線による影響を防止するように設計したテレビカメラ又はそのレンズであって、全吸収線量がシリコン換算で五〇、〇〇〇グレイを超える放射線照射に耐えることができるもの

五十七トリチウム、トリチウム化合物又はトリチウム混合物であって、トリチウムの原子数の水素の原子数に対する比率が一、〇〇〇分の一を超えるもの（装置に内蔵されたものであって、一装置当たりの放射能の総量が一、四八〇ギガベクレル未満のものを除く。）

五十八トリチウムの製造、回収若しくは貯蔵に用いられる装置又はトリチウムの製造に用いられる装置の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イトリチウムの製造用（濃縮用を含む。）、回収用又は貯蔵用に設計した装置

ロトリチウムの製造（精製を含む。）、回収又は貯蔵に用いられる装置であって、次のいずれかに該当するもの（イに該当するものを除く。）

（一）水素又はヘリウムを零下二五〇度以下の温度に冷却することができる冷凍装置であって、冷凍能力が一五〇ワットを超えるもの

（二）水素の同位元素の貯蔵用又は精製用の装置であって、金属水素化物を貯蔵又は精製のための媒体として用いるもの

ハトリチウムの製造に用いられる装置であって、照射（原子炉内における照射を含む。）によりトリチウムを製造するために特に設計したリチウム（リチウム六の同位体が濃縮されているものに限る。）を含有する標的となる組立品（イ及びロに該当するものを除く。）

ニトリチウムの製造に用いられる装置の部分品であって、ハに該当する貨物のために特に設計した部分品

五十九水からトリチウムを回収するため又は重水を製造（精製を含む。）するための白金を用いた疎水性の触媒であって、水素と水との間で行われる水素の同位体交換を促進するために設計したもの

六十ヘリウム三の混合率が天然の混合率を超えるヘリウム（容器又は装置に密封されたヘリウム三であって、その重量が一グラム未満のものを除く。）

六十一レニウム、レニウムの含有量が全重量の九〇パーセント以上の合金又はレニウム及びタングステンの含有量が全重量の九〇パーセント以上の合金であって、質量が二〇キログラムを超え、かつ、内径が一〇〇ミリメートル超三〇〇ミリメートル未満の円筒形のもの若しくは中空の半球形のもの又はこれらを組み合わせたもの

六十二防爆構造の容器であって、爆発物又は爆発装置の試験に用いるために設計されたもののうち、次のイ及びロに該当するもの

イトリニトロトルエン二キログラム以上と同等の爆発を十分に封じ込めるように設計したもの

ロ当該試験による分析情報又は測定情報を伝達することができる構造又は特性を有するもの

第二条輸出令別表第一の三の項（一）の経済産業省令で定めるものは、次のいずれかに該当するものとする。

一軍用の化学製剤の原料となる物質として、次のいずれかに該当するもの又はこれらの物質を含む混合物であって、いずれかの物質の含有量が全重量の三〇パーセントを超えるもの

イ三―ヒドロキシ―一―メチルピペリジン

ロフッ化カリウム

ハエチレンクロロヒドリン

ニジメチルアミン

ホ塩酸ジメチルアミン

ヘフッ化水素

トベンジル酸メチル

チ三―キヌクリジノン

リピナコロン

ヌシアン化カリウム

ル一水素二フッ化カリウム

ヲ一水素二フッ化アンモニウム

ワ一水素二フッ化ナトリウム

カフッ化ナトリウム

ヨシアン化ナトリウム

タ五硫化リン

レジイソプロピルアミン

ソ二―ジエチルアミノエタノール

ツ硫化ナトリウム

ネトリエタノールアミン塩酸塩

ナ亜リン酸トリイソプロピル

ラジエチルチオリン酸

ムジエチルジチオリン酸

ウヘキサフルオロケイ酸ナトリウム

ヰジエチルアミン

ノメチルホスホロジクロリダート

オエチルホスホロジクロリダート

クメチルホスホロジフロリダート

ヤエチルホスホロジフロリダート

マジエチルクロロホスファイト

ケクロロフルオロメチルホスフェート

フクロロフルオロエチルホスフェート

コＮ・Ｎ―ジメチルホルムアミジン

エＮ・Ｎ―ジエチルホルムアミジン

テＮ・Ｎ―ジプロピルホルムアミジン

アＮ・Ｎ―ジイソプロピルホルムアミジン

サＮ・Ｎ―ジメチルアセトアミジン

キＮ・Ｎ―ジエチルアセトアミジン

ユＮ・Ｎ―ジプロピルアセトアミジン

メＮ・Ｎ―ジメチルプロパノアミジン

ミＮ・Ｎ―ジエチルプロパノアミジン

シＮ・Ｎ―ジプロピルプロパノアミジン

ヱＮ・Ｎ―ジメチルブタノアミジン

ヒＮ・Ｎ―ジエチルブタノアミジン

モＮ・Ｎ―ジプロピルブタノアミジン

セＮ・Ｎ―ジイソプロピルブタノアミジン

スＮ・Ｎ―ジメチルイソブタノアミジン

ンＮ・Ｎ―ジエチルイソブタノアミジン

イイＮ・Ｎ―ジプロピルイソブタノアミジン

イロジプロピルアミン

二軍用の化学製剤と同等の毒性を有する物質として、次のいずれかに該当するもの又はこれらの物質を含む混合物（イからトまでに該当する物質を含む混合物にあっては、イからハまでに該当するいずれかの物質の含有量が全重量の一パーセントを超えるもの又はニからトまでに該当するいずれかの物質の含有量が全重量の三〇パーセントを超えるものに限る。）

イＯ・Ｏ―ジエチル＝Ｓ―［二―（ジエチルアミノ）エチル］＝ホスホロチオラート並びにそのアルキル化塩類及びプロトン化塩類

ロ一・一・三・三・三―ペンタフルオロ―二―（トリフルオロメチル）―一―プロペン

ハ三―キヌクリジニル＝ベンジラート

ニ二塩化カルボニル

ホ塩化シアン

ヘシアン化水素

トトリクロロニトロメタン

三軍用の化学製剤と同等の毒性を有する物質の原料となる物質として、次のいずれかに該当するもの又はこれらの物質を含む混合物（ヘからヤまでに該当する物質を含む混合物にあっては、ヘからタまでに該当するいずれかの物質の含有量が全重量の一〇パーセントを超えるもの又はレからヤまでに該当するいずれかの物質の含有量が全重量の三〇パーセントを超えるものに限る。）

イアルキルホスホニルジフルオリド（アルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）

ロＯ―アルキル＝Ｏ―二―ジアルキルアミノエチル＝アルキルホスホニット（Ｏ―アルキルのアルキル基がシクロアルキル基であるものを含み、Ｏ―アルキルのアルキル基の炭素数が十以下であり、かつ、Ｏ―二―ジアルキルアミノエチル及びアルキルホスホニットのアルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）並びにそのアルキル化塩類及びプロトン化塩類

ハＯ―二―ジアルキルアミノエチル＝ヒドロゲン＝アルキルホスホニット（Ｏ―二―ジアルキルアミノエチル及びアルキルホスホニットのアルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）並びにそのアルキル化塩類及びプロトン化塩類

ニＯ―イソプロピル＝メチルホスホノクロリダート

ホＯ―ピナコリル＝メチルホスホノクロリダート

ヘ炭素数が三以下である一のアルキル基との結合以外に炭素原子との結合のないりん原子を含む化合物

トＮ・Ｎ―ジアルキルホスホルアミジク＝ジハリド（アルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）

チジアルキル＝Ｎ・Ｎ―ジアルキルホスホルアミダート（ジアルキル及びＮ・Ｎ―ジアルキルホスホルアミダートのアルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）

リ三塩化ヒ素

ヌ二・二―ジフェニル―二―ヒドロキシ酢酸

ルキヌクリジン―三―オール

ヲＮ・Ｎ―ジアルキルアミノエチル―二―クロリド（アルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）及びそのプロトン化塩類

ワＮ・Ｎ―ジアルキルアミノエタン―二―オール（アルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。）及びそのプロトン化塩類

カＮ・Ｎ―ジアルキルアミノエタン―二―チオール（アルキル基の炭素数が三以下であるものに限る。二―ジイソプロピルアミノエタンチオールを含む。）及びそのプロトン化塩類（二―ジイソプロピルアミノエタンチオール塩酸塩を含む。）

ヨビス（二―ヒドロキシエチル）スルフィド

タ三・三―ジメチルブタン―二―オール

レ塩化ホスホリル

ソ三塩化リン

ツ五塩化リン

ネ亜リン酸トリメチル

ナ亜リン酸トリエチル

ラ亜リン酸ジメチル

ム亜リン酸ジエチル

ウ一塩化硫黄

ヰ二塩化硫黄

ノ塩化チオニル

オエチルジエタノールアミン

クメチルジエタノールアミン

ヤトリエタノールアミン

２輸出令別表第一の三の項（二）の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一反応器であって、容量が〇・一立方メートル超二〇立方メートル未満のもののうち、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホタンタル又はタンタル合金

ヘチタン又はチタン合金

トジルコニウム又はジルコニウム合金

チニオブ又はニオブ合金

二貯蔵容器であって、容量が〇・一立方メートルを超えるもののうち、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホタンタル又はタンタル合金

ヘチタン又はチタン合金

トジルコニウム又はジルコニウム合金

チニオブ又はニオブ合金

三熱交換器若しくは凝縮器であって、伝熱面積が〇・一五平方メートル超二〇平方メートル未満のもの又はこれらの部分品として設計されたチューブ、プレート、コイル若しくはブロックのうち、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホ黒鉛又はカーボングラファイト

ヘタンタル又はタンタル合金

トチタン又はチタン合金

チジルコニウム又はジルコニウム合金

リ炭化けい素

ヌ炭化チタン

ルニオブ又はニオブ合金

四蒸留塔若しくは吸収塔であって、塔の内径が〇・一メートルを超えるもの又はこれらの部分品として設計された液体分配器、蒸気分配器若しくは液体収集器のうち、内容物と接触する全ての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホ黒鉛又はカーボングラファイト

ヘタンタル又はタンタル合金

トチタン又はチタン合金

チジルコニウム又はジルコニウム合金

リニオブ又はニオブ合金

五充てん用の機械であって、遠隔操作が可能であり、かつ、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

六かくはん機であって、第一号に該当するものに用いるように設計されたもの又はその部分品として設計されたインペラー、ブレード若しくはシャフトのうち、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホタンタル又はタンタル合金

ヘチタン又はチタン合金

トジルコニウム又はジルコニウム合金

チニオブ又はニオブ合金

七弁又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ呼び径が一〇Ａ超の弁であって、内容物と接触する全ての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

（一）ニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

（二）ニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

（三）ふっ素重合体

（四）ガラス

（五）タンタル又はタンタル合金

（六）チタン又はチタン合金

（七）ジルコニウム又はジルコニウム合金

（八）ニオブ又はニオブ合金

（九）セラミックであって、次のいずれかに該当するもの

１炭化けい素の含有量が全重量の八〇パーセント以上のもの

２酸化アルミニウムの含有量が全重量の九九・九パーセント以上のもの

３酸化ジルコニウム

ロ呼び径が二五Ａ以上一〇〇Ａ以下の弁であって、次の全てに該当するもの（イに該当するものを除く。）

（一）閉止部分以外のケーシング又はケーシングライナーのうち、内容物と接触する全ての部分がイ（一）から（九）までで定めたいずれかの材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

（二）閉止部分が交換可能なように設計されたもの

ハイ又はロに該当する弁の部分品として設計されたケーシング又はケーシングライナーであって、内容物と接触する全ての部分がイ（一）から（九）までで定めたいずれかの材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

八内容物の漏れを検知する装置の取付口が設けられている多重管であって、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホ黒鉛又はカーボングラファイト

ヘタンタル又はタンタル合金

トチタン又はチタン合金

チジルコニウム又はジルコニウム合金

リニオブ又はニオブ合金

九二重以上のシールで軸封をしたポンプ若しくはシールレスポンプであって最高規定吐出し量が一時間につき〇・六立方メートルを超えるもの若しくは真空ポンプであって最高規定吐出し量が一時間につき五立方メートルを超えるもの又はこれらの部分品として設計されたケーシング、ケーシングライナー、インペラー、ローター若しくはジェットポンプノズルのうち、内容物と接触するすべての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハふっ素重合体

ニガラス

ホ黒鉛又はカーボングラファイト

ヘタンタル又はタンタル合金

トチタン又はチタン合金

チジルコニウム又はジルコニウム合金

リセラミック

ヌフェロシリコン

ルニオブ又はニオブ合金

十焼却装置であって、使用中における燃焼室の平均温度が一、〇〇〇度を超えるもののうち、焼却する物質を供給する部分について内容物と接触する全ての部分が次のいずれかに該当する材料で構成され、又は被覆されたもの

イニッケル又はニッケルの含有量が全重量の四〇パーセントを超える合金

ロニッケルの含有量が全重量の二五パーセントを超え、かつ、クロムの含有量が全重量の二〇パーセントを超える合金

ハセラミック

十一空気中の物質を検知する装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ前項に掲げるものについて空気中において検知できる最小検出限界が一立方メートル当たり〇・三ミリグラム未満であり、かつ、連続して使用するように設計したもの

ロアンチコリンエステラーゼ作用を有する化合物を検知するように設計したもの

十二前号に掲げるものの部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ検出器

ロセンサーデバイス

ハセンサーカートリッジ

３輸出令別表第一の三の項（三）の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一前項第一号に該当する反応器のうち、内容物と接触する全ての部分がガラスで裏打ちされ、又は被覆されたものの修理に用いられる組立品又はそのために特に設計した部分品であって、内容物と接触する金属部分がタンタル又はタンタル合金で構成されたもの

二前項第二号に該当する貯蔵容器のうち、内容物と接触する全ての部分がガラスで裏打ちされ、又は被覆されたものの修理に用いられる組立品又はそのために特に設計した部分品であって、内容物と接触する金属部分がタンタル又はタンタル合金で構成されたもの

第二条の二輸出令別表第一の三の二の項（一）の経済産業省令で定めるものは、次のいずれかに該当するものとする。

一ウイルス（ワクチンを除く。）であって、アフリカ馬疫ウイルス、アフリカ豚熱ウイルス、アンデアン・ポテト・ラテント・ウイルス、アンデスウイルス、エボラウイルス属の全てのウイルス、黄熱ウイルス、オムスク出血熱ウイルス、オロポーチウイルス、ガナリトウイルス、キャサヌール森林病ウイルス、牛疫ウイルス、クリミア・コンゴ出血熱ウイルス、口蹄てい疫ウイルス、高病原性鳥インフルエンザウイルス（Ｈ五又はＨ七のＨ抗原を有するものに限る。）、ＳＡＲＳコロナウイルス、再構成一九一八年インフルエンザウイルス、サビアウイルス、サル痘ウイルス、小反芻すう獣疫ウイルス、シンノンブレウイルス、水疱ほう性口内炎ウイルス、西部ウマ脳炎ウイルス、セントルイス脳炎ウイルス、ソウルウイルス、ダニ媒介脳炎ウイルス（極東型に限る。）、チクングニアウイルス、チャパレウイルス、跳躍病ウイルス、テュクロウイルス、痘瘡そうウイルス、東部ウマ脳炎ウイルス、ドブラバーベルグレドウイルス、ニパウイルス、日本脳炎ウイルス、ニューカッスル病ウイルス、ハンタンウイルス、豚熱ウイルス、豚水疱ほう病ウイルス、豚テシオウイルス、豚ヘルペスウイルス―１、フニンウイルス、ブルータングウイルス、ベネズエラウマ脳炎ウイルス、ヘンドラウイルス、ポテト・スピンドル・チュバー・ウィロイド、ポワッサンウイルス、マチュポウイルス、ＭＥＲＳコロナウイルス、マールブルグウイルス属の全てのウイルス、マレー渓谷脳炎ウイルス、ヤギ痘ウイルス、羊痘ウイルス、ラグナネグラウイルス、ラッサウイルス、ランピースキン病ウイルス、リッサウイルス属のウイルス（狂犬病ウイルスを含む。）、リフトバレー熱ウイルス、リンパ球性脈絡髄膜炎ウイルス、ルヨウイルス又はロシオウイルス

二細菌（ワクチンを除く。）であって、アルゲンチネンス菌（ボツリヌス神経毒素産生株に限る。）、ウェルシュ菌（イプシロン毒素産生型のものに限る。）、ウシ流産菌、オウム病クラミジア、牛肺疫菌（小コロニー型）、コクシエラ属バーネッティイ、コレラ菌、志賀赤痢菌、炭疽そ菌、チフス菌、腸管出血性大腸菌（血清型Ｏ二六、Ｏ四五、Ｏ一〇三、Ｏ一〇四、Ｏ一一一、Ｏ一二一、Ｏ一四五及びＯ一五七）、発疹しんチフスリケッチア、バラチ菌（ボツリヌス神経毒素産生株に限る。）、鼻疽そ菌、ブタ流産菌、ブチリカム菌（ボツリヌス神経毒素産生株に限る。）、ペスト菌、ボツリヌス菌、マルタ熱菌、山羊伝染性胸膜肺炎菌Ｆ三八株、野兎と病菌又は類鼻疽そ菌

三毒素（免疫毒素を除く。）であって、アフラトキシン、アブリン、ウェルシュ菌毒素（アルファ、ベータ１、ベータ２、イプシロン又はイオタの毒素に限る。）、ＨＴ―２トキシン、黄色ブドウ球菌毒素（腸管毒素、アルファ毒素及び毒素性ショック症候群毒素）、ゴニオトキシン、コノトキシン、ジアセトキシスシルペノール、志賀毒素、Ｔ―２トキシン、テトロドトキシン、ネオサキシトキシン、ノジュラリン、パリトキシン、ビスカミン、ブレベトキシン、ボツリヌス神経毒素、ボルケンシン、ミクロシスチン又はモデシン

四前号に該当するもののサブユニット

五細菌又は菌類であって、クラビバクター・ミシガネンシス亜種セペドニカス、コクシジオイデス・イミチス、コクシジオイデス・ポサダシ、コレトトリクム・カーハワイ、ザントモナス・アルビリネアンス、ザントモナス・オリゼ・パソバー・オリゼ、ザントモナス・シトリ・パソバー・シトリ、シンキトリウム・エンドビオチクム、スクレロフトラ・ライシアエ・バラエティー・ゼアエ、セカフォラ・ソラニ、チレチア・インディカ、バイポラリス・オリゼ、プクシニア・グラミニス亜種グラミニス・バラエティー・グラミニス、プクシニア・ストリイフォルミス、プセウドセルコスポラ・ウレイ、ペロノスクレロスポラ・フィリピネンシス、マグナポルテ・オリゼ又はラルストニア・ソラナセアルム・レース三及び次亜種二

六遺伝子を改変した生物（意図的な分子操作によって核酸の塩基配列を生成し、又は改変されたものを含む。）であって次のいずれかを有するもの又は遺伝要素（染色体、ゲノム、プラスミド、トランスポゾン、ベクター及び復元可能な核酸断片を含む不活性化された組織体を含む。）であって次のいずれかの塩基配列を有するもの

イ第一号に該当するものの遺伝子又はこれを翻訳した生産物

ロ第二号又は前号に該当するものの遺伝子のうち、人、動物若しくは植物の健康に重大な危害を与えるもの（これを転写し又は翻訳した生産物を通じて危害を与えるものを含む。）又は病原性を付与し若しくは増強することができるもの（血清型Ｏ二六、Ｏ四五、Ｏ一〇三、Ｏ一〇四、Ｏ一一一、Ｏ一二一、Ｏ一四五、Ｏ一五七その他の志賀毒素を産生する血清型をもつ大腸菌の核酸の塩基配列（志賀毒素又はそのサブユニットの遺伝要素を持つものに限る。）を有するもの以外のものを除く。）

ハ第三号又は第四号に該当するもの

２輸出令別表第一の三の二の項（二）の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一物理的封じ込めに用いられる装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ物理的封じ込めのレベルがＰ三又はＰ四の装置

ロ物理的封じ込めのレベルがＰ三又はＰ四である施設に設置するよう設計された装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）両面扉式の高圧蒸気滅菌装置

（二）防護服の汚染除去用のシャワー装置

（三）機械的シール又は膨張式圧力シールを有する気密扉

二発酵槽又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ使い捨て式以外の発酵槽又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）内容積が二〇リットル以上の密閉式の発酵槽であって、定置した状態で内部の滅菌又は消毒をすることができるように設計されたもの

（二）（一）に該当する発酵槽に用いるように設計された培養容器であって、定置した状態で内部の滅菌又は消毒をすることができるもの

（三）（一）に該当する発酵槽に用いるように設計された制御装置であって、発酵装置を制御するための二以上のパラメーターを同時に監視及び制御をすることができるもの

ロ使い捨て式の発酵槽又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）内容積が二〇リットル以上の密閉式の発酵槽

（二）（一）に該当する発酵槽に用いるように設計された使い捨て培養容器の収容装置

三流量が一時間につき一〇〇リットルを超える連続式の遠心分離機であって、次のいずれかに該当するもの

イ次の（一）から（三）までの全てに該当するもの

（一）メカニカルシールで軸封をしているもの

（二）研磨したステンレス鋼又はチタンで構成されたもの

（三）定置し、かつ、閉じた状態で蒸気により内部の滅菌をすることができるもの

ロ処理される物質と直接接触する全ての部分品が使い捨てのものである使い捨て式の遠心分離機

四クロスフローろ過用の装置であって、次のイ及びロに該当するもの（逆浸透膜を用いたもの及び血液の浄化を行うために設計したものを除く。）

イ有効ろ過面積の合計が一平方メートル以上のもの

ロ次の（一）又は（二）に該当するもの

（一）定置した状態で内部の滅菌又は消毒をすることができるもの

（二）使い捨ての部分品を使用するもの

四の二前号に掲げるものに使用するように設計した部分品であって、有効ろ過面積が〇・二平方メートル以上のもの

五凍結乾燥器であって、次のイ及びロに該当するもの

イ二四時間につき一〇キログラム以上一、〇〇〇キログラム未満の氷を作る能力を有するもの

ロ蒸気又はガスにより内部の滅菌をすることができるもの

五の二毒素又は病原性微生物の乾燥に用いることができる噴霧乾燥器であって、次のイからハまでの全てに該当するもの

イ水分蒸発量が一時間あたり〇・四キログラム以上四〇〇キログラム以下のもの

ロ平均粒子径一〇マイクロメートル以下の製品を製造することが可能なもの又は噴霧乾燥器の最小の部分品の変更で平均粒子径一〇マイクロメートル以下の製品を製造することが可能なもの

ハ定置した状態で内部の滅菌又は消毒をすることができるもの

六物理的封じ込め施設において用いられる防護のための装置又は物理的封じ込めに用いられる装置であって、次のいずれかに該当するもの

イエアライン方式の換気用の装置を有する全身の若しくは半身の衣服又はフードであるもののうち、その内部を陽圧に維持することができるもの

ロ物理的封じ込めチャンバー、アイソレータ又は安全キャビネットであって、次の全てに該当するもの（クラス―Ⅲ安全キャビネットを含み、感染患者の看護又は運搬のために特に設計されたものを除く。）

（一）操作する者が物理的な防壁によって完全に隔離された作業空間を有するもの

（二）陰圧状態で操作することが可能なもの

（三）作業空間内で対象物を安全に操作するための手段を備えているもの

（四）作業空間の給気及び排気にＨＥＰＡフィルターを用いるもの

七粒子状物質の吸入の試験に用いるように設計された装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ動物の全身を暴露することができる吸入室を有するものであって、吸入室の容積が一立方メートル以上のもの

ロ一二以上のげっ歯類の動物又は二以上のげっ歯類以外の動物の鼻部を直接エアゾールを流動させて暴露することができるものであって、これに用いるように設計した動物を保定する密閉型のホルダーを有するもの

八噴霧器若しくは煙霧機又はこれらの部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ航空機、飛行船、気球又は無人航空機に搭載するように設計した噴霧器又は煙霧機であって、初期粒径が体積メディアン径で五〇ミクロン未満の飛沫を液体搭載装置から二リットル毎分超の割合で散布できるもの

ロ航空機、飛行船、気球又は無人航空機に搭載するように設計したエアゾール発生装置のスプレーブーム又はノズルであって、初期粒径が体積メディアン径で五〇ミクロン未満の飛沫を液体搭載装置から二リットル毎分超の割合で散布できるもの

ハ初期粒径が体積メディアン径で五〇ミクロン未満の飛沫を液体搭載装置から二リットル毎分超の割合で散布できる装置に使用するように設計したエアゾール発生装置

九核酸の合成又は核酸と核酸との結合を行うための装置であって、一部又は全部が自動化されたもののうち、一回の稼働で、連続した長さが一・五キロベースを超える核酸を五パーセント未満のエラー率で生成するように設計したもの

十ペプチドの合成を行うための装置であって、一部又は全部が自動化されたもののうち、一ミリモル以上のシステム合成スケールでペプチドを生成することができるもの

第三条輸出令別表第一の四の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一ロケット又はペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットの製造用の装置若しくは工具（型を含む。以下この条において同じ。）若しくは試験装置若しくはこれらの部分品

一の二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機又はその製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品

一の三エアゾールを噴霧するように設計した無人航空機であって、燃料の他に粒子又は液体状で二〇リットルを超えるペイロードを運搬するように設計したもののうち、次のいずれかに該当するもの（前号に該当するもの又は娯楽若しくはスポーツの用に供する模型航空機を除く。）

イ自律的な飛行制御及び航行能力を有するもの

ロ視認できる範囲を超えて人が飛行制御できる機能を有するもの

二次のいずれかに該当する貨物又はその製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品

イペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットに使用することができる貨物であって、次のいずれかに該当するもの

（一）多段ロケットの各段

（二）固体ロケット推進装置又はハイブリッドロケット推進装置であって、全力積が八四一、〇〇〇ニュートン秒以上のもの

（三）液体ロケット推進装置若しくはゲル状燃料ロケット推進装置であって、全力積が八四一、〇〇〇ニュートン秒以上のもの又はこれに組み込まれるように設計した液体ロケットエンジン若しくはゲル状燃料ロケットモータ

ロ五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができる貨物であって、次のいずれかに該当するもの

（一）再突入機

（二）再突入機の熱遮へい体（セラミック又はアブレーション材料を用いたものに限る。）又はその部分品

（三）再突入機のヒートシンク又はその部分品

（四）再突入機に使用するように設計した電子機器

（五）誘導装置であって、飛行距離に対する平均誤差半径の比率が三・三三パーセント以下のもの

（六）推力の方向を制御する装置

三推進装置若しくはその部分品、モータケースのライニング若しくは断熱材であって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品

イターボジェットエンジン又はターボファンエンジンであって、次のいずれかに該当するもの

（一）次の１から４までの全てに該当するもの

１最大推力が四〇〇ニュートンを超えるもの（最大推力が八、八九〇ニュートンを超えるものであって、本邦の政府機関が民間航空機に使用することを認定したものを除く。）

２燃料消費率が一時間につき推力一ニュートン当たり〇・一五キログラム以下のもの

３乾燥重量が七五〇キログラム未満のもの

４一段目のローターの直径が一メートル未満のもの

（二）五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又はペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用するように設計し、又は改造したもの（（一）に該当するものを除く。）

ロラムジェットエンジン、スクラムジェットエンジン、パルスジェットエンジン、デトネーションエンジン若しくは複合サイクルエンジン（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又はペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）又はこれらの部分品

ハ固体ロケット用のモータケースであって、ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるもの

ニ固体ロケット用のモータケースのライニング（推進薬とモータケース又は断熱材を結合することができるものに限る。）であって、五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機に使用することができるもの又は五〇〇キログラム未満のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機に使用するように設計したもの

ホ固体ロケット用のモータケースの断熱材であって、五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機に使用することができるもの又は五〇〇キログラム未満のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機に使用するように設計したもの

ヘ固体ロケット用のモータケースのノズルであって、ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるもの

ト液体状、スラリー状又はゲル状の推進薬の制御装置であって、周波数範囲が二〇ヘルツ以上二、〇〇〇ヘルツ以下で、かつ、加速度の実効値が九八メートル毎秒毎秒を超える振動に耐えることができるように設計したもの（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）又はその部分品（サーボ弁、ポンプ及びガスタービンを除く。）

チ前号イ（二）に該当するハイブリッドロケット推進装置の部分品

リ液体状又はゲル状の推進薬用のタンクであって、次のいずれかに該当するものに使用するように設計したもの

（一）第七号に該当する推進薬又はその原料となる物質

（二）液体状又はゲル状の推進薬（（一）に該当するものを除く。）であって、五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットに使用するもの

ヌペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用するように設計したターボプロップエンジンであって、海面上における国際民間航空機関が定める標準大気状態での最大出力が一〇キロワット以上のもの（本邦の政府機関が民間航空機に使用することを認定したものを除く。）又はその部分品

ル液体ロケット推進装置又はゲル状燃料ロケット推進装置の燃焼室又はノズルであって、前号イ（三）に該当する貨物に使用することができるもの

四多段ロケットの切離し装置又は段間継手（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットに使用することができるものに限る。）又はこれらの製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品

五しごきスピニング加工機であって、五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に用いられる推進装置又はその部分品を製造することができるもののうち、次のイ及びロに該当するもの又はその部分品

イ数値制御装置又は電子計算機によって制御することができるもの

ロ輪郭制御をすることができる軸数が二を超えるもの

六推進薬の制御装置に用いられるサーボ弁、ポンプ又はガスタービンであって、次のイ及びロに該当するもののうち、ハ、ニ又はホのいずれかに該当するもの

イ液体状、スラリー状又はゲル状の推進薬の制御装置に使用するように設計したもの

ロ周波数範囲が二〇ヘルツ以上二、〇〇〇ヘルツ以下で、かつ、加速度の実効値が九八メートル毎秒毎秒を超える振動に耐えることができるように設計したもの

ハ絶対圧力が七、〇〇〇キロパスカル以上の状態において一分につき〇・〇二四立方メートル以上流すことができるように設計したサーボ弁であって、アクチュエータの応答時間が一〇〇ミリ秒未満のもの

ニ液体推進薬用のポンプであって、最大動作時の軸の回転数が一分につき八、〇〇〇回転以上のもの又は吐出し圧力が七、〇〇〇キロパスカル以上のもの

ホ液体推進薬のターボポンプ用のガスタービンであって、最大動作時の軸の回転数が一分につき八、〇〇〇回転以上のもの

六の二推進薬の制御装置に用いられるポンプに使用することができるラジアル玉軸受であって、日本産業規格Ｂ一五一四―一号で定める精度が二級以上のもののうち、次のイからハまでの全てに該当するもの

イ内輪内径が一二ミリメートル以上五〇ミリメートル以下のもの

ロ外輪外径が二五ミリメートル以上一〇〇ミリメートル以下のもの

ハ幅が一〇ミリメートル以上二〇ミリメートル以下のもの

七推進薬又はその原料となる物質であって、次のいずれかに該当するもの

イ濃度が七〇パーセントを超えるヒドラジン

ロヒドラジンの誘導体

ハ過塩素酸アンモニウム

ニアンモニウムジニトラミド

ホ粒子が球形又は回転楕円体で、その径が二〇〇マイクロメートル未満のアルミニウムの粉であって、重量比による純度が九七パーセント以上のもののうち、国際規格ＩＳＯ二五九一―一（一九八八）又はこれと同等の規格で定める測定方法により測定した径が六三マイクロメートル未満のものの含有量が全重量の一〇パーセント以上のもの

ヘ重量比による純度が九七パーセント以上のジルコニウム（天然の比率でジルコニウムに含まれるハフニウムを含む。）、ベリリウム、マグネシウム又はこれらの合金の粉末状のものであって、篩ふるい、レーザー回折、光学式走査等を用いて測定した粒子の径が六〇マイクロメートル未満のものの含有量が全体積又は全重量の九〇パーセント以上のもの

ト重量比による純度が八五パーセント以上のほう素又はその合金の粉末状のものであって、篩ふるい、レーザー回折、光学式走査等を用いて測定した粒子の径が六〇マイクロメートル未満のものの含有量が全体積又は全重量の九〇パーセント以上のもの

チ燃料又は酸化剤であって、次のいずれかに該当するもの

（一）過塩素酸塩、塩素酸塩又はクロム酸塩であって、粉末状の金属又は燃料成分が混合されたもの

（二）硝酸ヒドロキシルアンモニウム

リカルボラン、デカボラン、ペンタボラン又はこれらの誘導体

ヌ液体酸化剤であって、次のいずれかに該当するもの

（一）三酸化二窒素

（二）二酸化窒素又は四酸化二窒素

（三）五酸化二窒素

（四）窒素酸化物の混合物

（五）耐腐食性を有する赤煙硝酸

（六）ふっ素及びその他のハロゲン、酸素又は窒素からなる化合物（気体の三ふっ化窒素を除く。）

ル末端にカルボキシル基を有するポリブタジエン

ヲ末端に水酸基を有するポリブタジエン

ワグリシジルアジドの重合体（末端に水酸基を有するものを含む。）

カブタジエンとアクリル酸との重合体

ヨブタジエンとアクリロニトリルとアクリル酸との重合体

タ次のいずれかに該当する推進薬

（一）一キログラム当たりの発熱量が四〇、〇〇〇、〇〇〇ジュール以上の固体及び液体の混合燃料

（二）二〇度の温度かつ一気圧において計測した一立方メートル当たりの発熱量が三七、五〇〇、〇〇〇、〇〇〇ジュール以上の燃料及び燃料添加剤（化石燃料又は植物に由来する有機物を原材料として製造される燃料を用いて製造したものを除く。）

レトリス―一―（二―メチル）アジリジニルホスフィンオキシド

ソテトラエチレンペンタミン、アクリロニトリル及びグリシドールの反応生成物

ツテトラエチレンペンタミン及びアクリロニトリルの反応生成物

ネイソフタル、トリメシン、イソシアヌル又はトリメチルアジピンの骨格を有する多官能性アジリジンアミドであって、二―メチルアジリジン基又は二―エチルアジリジン基を有するもの

ナトリフェニルビスマス

ラフェロセン誘導体

ムトリエチレングリコールジナイトレート

ウトリメチロールエタントリナイトレート

ヰ一・二・四―ブタントリオールトリナイトレート

ノジエチレングリコールジナイトレート

オポリテトラハイドロフランポリエチレングリコール

ク四・五―ジアジドメチル―二―メチル―一・二・三―トリアゾール

ヤメチル―ニトラトエチルニトラミン

マエチル―ニトラトエチルニトラミン

ケブチル―ニトラトエチルニトラミン

フビス（二・二―ジニトロプロピル）アセタール

コビス（二・二―ジニトロプロピル）フォルマール

エアジ化ジメチルアミノエチル

テポリグリシジルニトレート

アゲル状の推進薬であって、ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように特に調合したもの

八次のいずれかに該当する推進薬若しくはその原料となる物質の製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置又はこれらの部分品（次号から第十号の二までのいずれかに該当するものを除く。）

イ前号に該当する貨物

ロオクトーゲン又はヘキソーゲン

ハコンポジット推進薬

ニ二―ニトロジフェニルアミン又はＮ―メチル―ｐ―ニトロアニリン

ホヒドラジンニトロホルメート

ヘヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン

九バッチ式の混合機（液体用のものを除く。）であって、次のイからニまでの全てに該当するもの又はその部分品

イ〇以上一三・三二六キロパスカル以下の絶対圧力で混合するように設計し、又は改造したもの

ロ混合容器内の温度を制御することができるもの

ハ全容量が一一〇リットル以上のもの

ニ混合機の中心軸から離れた混和軸又は捏和軸を少なくとも一本有するもの

九の二連続式の混合機（液体用のものを除く。）であって、次のイからハまでの全てに該当するもの又はその部分品

イ〇以上一三・三二六キロパスカル以下の絶対圧力で混合するように設計し、又は改造したもの

ロ混合容器内の温度を制御することができるもの

ハ次のいずれかに該当するもの

（一）二本以上の混和軸又は捏和軸を有するもの

（二）次の１及び２に該当するもの

１振動機能を備えた一本の回転軸を有するもの

２混合容器内及び回転軸上に捏和のための突起を有するもの

十第七号若しくは第八号ロからヘまでのいずれかに該当する推進薬若しくはその原料となる物質を粉砕することができるジェットミル又はその部分品

十の二第七号ホからトまでのいずれかに該当する金属の粉末（噴霧粉、球形粉又は回転楕円体粉に限る。）の製造用の装置又はその部分品

十一複合材料、繊維、プリプレグ又はプリフォーム（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）の製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品若しくは附属品

イフィラメントワインディング装置、ファイバープレイスメント装置又はトウプレイスメント装置であって、繊維を位置決めし、包み作業及び巻き作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる軸数が三以上のもの又はその制御装置

ロテープレイング装置であって、複合材料からなる航空機の機体又はロケットの構造体を製造するために、テープを位置決めし、及びラミネートする作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる軸数が二以上のもの

ハ三次元的に織ることができる織機又はインターレーシングマシン

ニ繊維の製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）重合体繊維から他の繊維を製造する装置

（二）熱したフィラメント状の基材に元素又は化合物を蒸着させるための装置

（三）耐火セラミックの湿式紡糸装置

ホ繊維の表面処理又はプリプレグ若しくはプリフォームの製造を行うように設計したもの

十二ノズルであって、原料ガスの熱分解（一、三〇〇度以上二、九〇〇度以下の温度範囲において、かつ、一三〇パスカル以上二〇、〇〇〇パスカル以下の絶対圧力の範囲において行うものに限る。）により生成する物質を基材に定着させるためのもの

十三ロケット推進装置のノズル若しくは再突入機の先端部の製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの又はその制御装置

イ構造材料の炭素の密度を増加させるためのもの

ロ原料ガスの熱分解により生成する炭素を基材に定着させるためのもの

十四アイソスタチックプレスであって、次のイからハまでのすべてに該当するもの又はその制御装置

イ最大圧力が六九メガパスカル以上のもの

ロ中空室内の温度制御ができるもの（中空室内の温度が六〇〇度以上の場合に限る。）

ハ中空室の内径が二五四ミリメートル以上のもの

十五炭素及び炭素繊維を用いた複合材料の炭素の密度を増加させるために設計した炉であって、化学的気相成長用のもの又はその制御装置

十六構造材料であって、次のいずれかに該当するもの

イ比強度が七六、二〇〇メートルを超え、かつ、比弾性率が三、一八〇、〇〇〇メートルを超える繊維で補強した有機物若しくは金属をマトリックスとするものからなる複合材料（プリプレグであって、ガラス転移点が一四五度以下のものを除く。）又はその成型品（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット、無人航空機又は第二号イ若しくはロに該当する貨物に使用するように設計したものに限る。）

ロロケット用に設計した炭素及び炭素繊維を用いた複合材料又はその成型品（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットに使用することができるものに限る。）

ハ人造黒鉛であって、次のいずれかに該当するもの（ロケットのノズル又は再突入機の先端部に使用することができるものに限る。）

（一）一五度の温度で測定したときのかさ密度が一立方センチメートル当たり一・七二グラム以上、かつ、粒子の径が一〇〇マイクロメートル以下の人造黒鉛であって、次のいずれかに加工することができるもの

１円筒であって、直径が一二〇ミリメートル以上、かつ、高さが五〇ミリメートル以上のもの又は管であって、内径が六五ミリメートル以上、厚さが二五ミリメートル以上、かつ、高さが五〇ミリメートル以上のもの

２直方体であって、各辺の長さがそれぞれ一二〇ミリメートル以上、一二〇ミリメートル以上及び五〇ミリメートル以上のもの

（二）熱分解黒鉛（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）

（三）繊維で強化した黒鉛（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）

ニロケット又は無人航空機のレードーム（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）に使用するためのセラミックの複合材料（一〇〇メガヘルツ以上一〇〇ギガヘルツ以下の範囲のいずれかの周波数における比誘電率が六未満のものに限る。）

ホロケット若しくは無人航空機の先端部、再突入機又はノズルフラップ（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）に使用することができる炭化けい素で強化された未焼成セラミック又は強化された炭化けい素セラミック複合材料

ヘペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機の部分品（先端部、再突入機、翼の前縁部、推力偏向板、操縦翼面又はロケットモータのノズルスロート部を含む。）に使用することができるセラミック複合材料であって、融点が三、〇〇〇度以上の超高温セラミック（二ほう化チタン、二ほう化ジルコニウム、二ほう化ニオブ、二ほう化ハフニウム、二ほう化タンタル、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ニオブ、炭化ハフニウム及び炭化タンタルを含む。）のマトリックスを繊維又はフィラメントで強化したものからなるもの

ト次のいずれかに該当するタングステン、モリブデン若しくはこれらの合金を主たる構成物質とする粉又はその粉を固めたもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機の構造材料として用いることができるものに限る。）

（一）タングステン又はタングステンの含有量が合金の全重量の九七パーセント以上の粉であって、その粒子の径が五〇マイクロメートル以下のもの

（二）モリブデン又はモリブデンの含有量が合金の全重量の九七パーセント以上の粉であって、その粒子の径が五〇マイクロメートル以下のもの

（三）タングステン又はタングステンの含有量がその合金の全重量の九七パーセント以上（銅又は銀を含浸させたものである場合にあっては、タングステンの含有量が合金の全重量の八〇パーセント以上。）の粉を固めたものであって、次のいずれかに該当するものに加工することができるもの

１円筒であって、直径が一二〇ミリメートル以上、かつ、高さが五〇ミリメートル以上のもの又は管であって、内径が六五ミリメートル以上、厚さが二五ミリメートル以上、かつ、高さが五〇ミリメートル以上もの

２直方体であって、各辺の長さがそれぞれ一二〇ミリメートル以上、一二〇ミリメートル以上及び五〇ミリメートル以上のもの

チペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるマルエージング鋼であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）次のいずれかに該当するもの

１固溶化熱処理段階で二〇度の温度において測定した最大引張強さが九〇〇、〇〇〇、〇〇〇パスカル以上のもの

２析出硬化熱処理段階で二〇度の温度において測定した最大引張強さが一、五〇〇、〇〇〇、〇〇〇パスカル以上のもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１厚さが五ミリメートル以下の板又は管

２厚さが五〇ミリメートル以下の管であって、かつ、内径が二七〇ミリメートル以上のもの

リチタンにより安定化されたオーステナイト・フェライト系ステンレス鋼であって、次の（一）及び（二）に該当するもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）

（一）次の１から３までのすべてに該当するもの

１クロムの含有量が全重量の一七パーセント以上二三パーセント以下で、かつ、ニッケルの含有量が全重量の四・五パーセント以上七パーセント以下のもの

２チタンの含有量が全重量の〇・一パーセントを超えるもの

３オーステナイト組織を示す部分が全体積の一〇パーセント以上のもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１塊又は棒であって、寸法の最小値が一〇〇ミリメートル以上のもの

２シートであって、幅が六〇〇ミリメートル以上で、かつ、厚さが三ミリメートル以下のもの

３管であって、外径が六〇〇ミリメートル以上で、かつ、厚さが三ミリメートル以下のもの

十七加速度計若しくはジャイロスコープ若しくはこれらを用いた装置、航法装置若しくは磁気方位センサーであって、次のいずれかに該当するもの（ロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）又はこれらの部分品

イペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計した航法装置であって、ジャイロスタビライザー又は自動操縦装置とともに使用するように設計したもの

ロジャイロ天測航法装置又は天体若しくは人工衛星の自動追跡により位置若しくは針路を測定することができる装置

ハ直線加速度計であって、慣性航法装置用又は誘導装置用に使用するように設計したもののうち、スケールファクターの再現性が一年間につき〇・一二五パーセント未満であって、バイアスの再現性が一年間につき〇・〇一二二六三メートル毎秒毎秒未満のもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）

ニジャイロスコープであって、九・八一メートル毎秒毎秒の直線加速度の状態におけるドリフトレートの安定性が一時間につき〇・五度未満のもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）

ホ加速度計又はジャイロスコープであって、慣性航法装置又は誘導装置に使用するように設計したもののうち、九八一メートル毎秒毎秒を超える直線加速度で使用することができるように設計したもの

ヘハ若しくはホに該当する加速度計又はニ若しくはホに該当するジャイロスコープを用いた装置（姿勢方位基準装置、ジャイロコンパス、慣性計測装置、慣性航法装置及び慣性基準装置を含む。）

ト磁気方位センサーであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもののうち、軸数が三のもの

（一）ピッチ角（プラスマイナス九〇度）及びロール角（プラスマイナス一八〇度）の内部傾き補正を有するもの

（二）緯度プラスマイナス八〇度の地点における方位角精度の実効値が局所磁場に対して〇・五度未満のもの

（三）飛行制御又は航法システムと統合するように設計したもの

十七の二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計した統合された航法システムであって、平均誤差半径が二〇〇メートル以下の精度のもの

十七の三加速度計若しくはジャイロスコープ若しくはこれらを用いた装置、航法装置、磁気方位センサー又は統合された航法システムの製造用の装置若しくは工具、試験装置、校正装置若しくは心合わせ装置又はこれらの部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ前二号に該当するものの製造用の装置若しくは工具、試験装置、校正装置若しくは心合わせ装置（ロからヘまでのいずれかに該当するものを除く。）又はこれらの部分品

ロ遠心力式釣合い試験機（歯科用装置又は医療用装置を試験するように設計したものを除く。）であって、次の（一）から（四）までのすべてに該当するもの

（一）重量が三キログラムを超えるロータを試験することができないもの

（二）一分につき一二、五〇〇回転を超える回転数でロータを試験することができるもの

（三）二面以上での不釣合いを試験できるもの

（四）ロータの重量に対する残留不釣合いが一キログラムにつき〇・二グラムミリメートル以下のもの

ハ表示装置であって、ロに該当するものに使用することができるように設計したもの

ニモーションシミュレーター又はレートテーブルであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの（工作機械又は医療用装置に使用するように設計したものを除く。）

（一）軸数が二以上のもの

（二）スリップリング又は電力の供給若しくは信号情報の伝達を行うことができる非接触型の装置を用いるもの

（三）次のいずれかに該当するもの

１いずれかの軸における角速度が一秒につき四〇〇度以上又は三〇度以下のものであって、当該角速度の分解能が一秒につき六度以下のもののうち、当該角速度の精度が一秒につき〇・六度以下のもの

２いずれかの軸が一〇度以上回転する場合における角速度が、〇・〇五パーセント以下の精度で安定するもの

３角度の位置決め精度が五秒以下のもの

ホポジショニングテーブルであって、次の（一）及び（二）に該当するもの（工作機械又は医療用装置に使用するように設計したものを除く。）

（一）軸数が二以上のもの

（二）角度の位置決め精度が五秒以下のもの

ヘ遠心加速度試験機であって、九八〇メートル毎秒毎秒を超える加速度を与えることができ、スリップリング又は電力の供給若しくは信号情報の伝達を行うことができる非接触型の装置を用いるもの

十八五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計した飛行制御装置又は姿勢制御装置

十八の二前号に掲げるものに使用するように設計したサーボ弁であって、周波数範囲が二〇ヘルツ以上二、〇〇〇ヘルツ以下の全域において加速度の実効値が九八メートル毎秒毎秒を超える振動に耐えることができるように設計したもの

十八の三前二号に掲げるものの試験装置、校正装置又は心合わせ装置

十九アビオニクス装置であって、次のいずれかに該当するもの

イレーダー（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計したものに限る。）

ロパッシブセンサーであって、特定の電磁波源の方向又は地形の特性を探知するもの（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計したものに限る。）

ハ衛星航法システム（全地球航法衛星システム及び地域航法衛星システムを含む。）からの電波を受信する装置であって、次の（一）若しくは（二）に該当するもの又はそのために特に設計した部分品

（一）五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計したもの

（二）航行又は飛しょうする移動体に使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１毎秒六〇〇メートルを超える速度のもとで、航法に係る情報を提供することができるもの

２軍隊又は政府機関による使用を目的として設計若しくは改良され、かつ、衛星航法システム（全地球航法衛星システム及び地域航法衛星システムを含む。）で用いられる暗号化された信号又はデータにアクセスするための暗号の復号機能を有するもの（民生用途又は生命若しくは身体の安全を確保するための航法データを受信するように設計したものを除く。）

３意図的な妨害を受ける環境のもとで機能することを目的として、ナルステアラブルアンテナ、電子的に走査が可能なアンテナその他妨害除去機能を有するように設計したもの（民生用途又は生命若しくは身体の安全を確保するための航法データを受信するように設計したものを除く。）

ニペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットに使用するように設計したアンビリカル電気コネクタ又は段間電気コネクタ（ペイロードとロケットの間の電気コネクタを含む。）

十九の二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるように設計した熱電池であって、電解質として固体の非導電無機塩類を含むもの

二十航空機搭載用又は船舶搭載用の重力計であって、精度が〇・七ミリガル以下のもののうち、測定所要時間が二分以内のもの（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）又はこれらの部分品

二十の二航空機搭載用若しくは船舶搭載用の重力勾配計（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）又はこれらの部分品

二十一ロケット又は無人航空機の発射台又は地上支援装置であって、次のいずれかに該当するもの

イペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機の取扱い、制御、作動又は発射用に設計した装置

ロ五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機の輸送、取扱い、制御、作動又は発射用に設計した車両

二十二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用するように設計した無線遠隔測定装置又は無線遠隔制御装置（地上装置を含む。）であって、次のいずれにも該当しないもの

イ有人航空機又は人工衛星に使用するように設計したもの

ロ陸上又は海洋において用いられる移動体に使用するように設計したもの

ハ民生用途又は生命若しくは身体の安全を確保するための航法データを提供する衛星航法システムからの情報を受信するように設計したもの

二十二の二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができる追跡装置であって、次のいずれかに該当するもの

イロケット又は無人航空機に搭載されたコード変換器を使用するものであって、地上、海上若しくは飛しょう体上の連携機器又は衛星航法システムとの相互連携の下で、即時に飛行位置及び速度のデータを計測することができるもの

ロ距離測定用のレーダーであって、光を利用した追跡装置を有するもののうち、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）角度分解能が一・五ミリラジアン未満のもの

（二）距離分解能の二乗平均が一〇メートル未満で測定することができる距離が三〇キロメートル以上のもの

（三）速度分解能が一秒につき三メートル未満のもの

二十三五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットに搭載するように設計したアナログ電子計算機又はデジタル電子計算機であって、次のいずれかに該当するもの

イ零下四五度より低い温度から五五度を超える温度まで使用することができるように設計したもの

ロ全吸収線量がシリコン換算で五〇万ラド以上となる放射線照射に耐えることができるように設計したもの

二十四アナログデジタル変換用の集積回路又はアナログデジタル変換器（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）であって、次のいずれかに該当するもの

イアナログデジタル変換用の集積回路であって、全吸収線量がシリコン換算で五〇万ラド以上となる放射線照射に耐えることができるように設計したもの又は次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）零下五四度より低い温度から一二五度を超える温度まで使用することができるように設計したもの

（二）気密封止したもの

ロ電気入力型のアナログデジタル変換用の組立品又はモジュールであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）零下四五度より低い温度から八〇度を超える温度まで使用することができるように設計したもの

（二）イに該当する集積回路を組み込んだもの

二十五振動試験装置若しくはその部分品、空気力学試験装置、燃焼試験装置、環境試験装置又は電子加速器若しくはこれを用いた装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ振動試験装置又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機又は第二号に該当する貨物の開発又は試験に用いることができるものに限る。）

（一）デジタル制御方式の振動試験装置であって、次の１及び２に該当するもの

１試験体がない状態における加振力が五〇キロニュートン以上のものであって、二〇ヘルツ以上二、〇〇〇ヘルツ以下のいずれの周波数においても加速度の実効値が九八メートル毎秒毎秒以上の振動を発生させることができるもの

２フィードバック制御技術又は閉ループ制御技術を用いたもの

（二）振動試験装置の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

１（一）に該当する振動試験装置の制御に使用するように設計した部分品であって、振動試験用のプログラムを用いたものであり、かつ、五キロヘルツを超える帯域幅で実時間での振動試験をデジタル制御するもの

２（一）に該当する振動試験装置に使用することができる振動発生機であって、試験体がない状態における加振力が五〇キロニュートン以上のもの

３（一）に該当する振動試験装置に使用することができる振動台又は振動発生装置の部分品であって、試験体がない状態における加振力が五〇キロニュートン以上となる振動を発生させるために二台以上の振動発生機を接続して使用するように設計したもの

ロマッハ数が〇・九以上の速度の状態を作ることができる空気力学試験装置（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機、第一号の三に該当する無人航空機又は第二号に該当する貨物の開発又は試験に用いることができるものに限る。マッハ数が三以下で、かつ、測定部断面の長さが二五〇ミリメートル以下の風洞及びヘに該当するものを除く。）

ハ燃焼試験装置であって、推力が六八キロニュートンを超える固体ロケット、液体ロケット若しくはロケット推進装置を試験することができるもの又は同時に三軸方向の推力成分を測定することができるもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機又は第二号に該当する貨物の開発又は試験に用いることができるものに限る。）

ニ飛行の状態をシミュレートすることができる環境試験装置であって、次の（一）及び（二）に該当するもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機、第一号の三に該当する無人航空機又は第二号に該当する貨物の開発又は試験に用いることができるものに限る。）

（一）高度が一五、〇〇〇メートル以上の状態又は零下五〇度以上一二五度以下のすべての温度範囲の状態をシミュレートすることができるもの

（二）周波数範囲が二〇ヘルツ以上二、〇〇〇ヘルツ以下で、かつ、試験体がない状態における加速度の実効値が九八メートル毎秒毎秒以上の振動を発生させることができるもの（加振力が五キロニュートン以上のものに限る。）又は基準音圧が二〇マイクロパスカルの場合の音圧レベルが一四〇デシベル以上の音を発生させることができるもの若しくは定格の音響出力の合計が四キロワット以上のもの

ホ電子加速器であって、二メガエレクトロンボルト以上のエネルギーを有する加速された電子からの制動放射によって電磁波を放射することができるもの又はこれを用いた装置（医療用に設計したものを除き、ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機又は第二号に該当する貨物の開発又は試験に用いることができるものに限る。）

ヘ熱空気力学試験装置（物体の周辺の気流による熱的及び機械的影響を調査するためのプラズマアークジェット装置及びプラズマ風洞を含む。）であって、次のいずれかに該当するもの（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機若しくは第二号イ若しくはロに該当する貨物の開発又は試験に用いることができるものに限る。）

（一）五メガワット以上の電力を供給することができるもの

（二）三メガパスカル以上の圧力のガスを供給することができるもの

二十五の二五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット、第二号イに該当する貨物（五〇〇キログラム以上のペイロードを運搬することができるロケットに使用することができるものに限る。）又は同号ロに該当する貨物を設計するためのハイブリッド電子計算機（第十六条第一項第十一号に該当するプログラムを有するものに限る。）

二十六電波、音波（超音波を含む。）若しくは光（紫外線及び赤外線に限る。）の反射若しくは放射を減少させるステルス技術を用いた材料若しくは装置であって、ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機、第一号の三に該当する無人航空機若しくは第二号に該当する貨物に使用することができるもの又はこれらの試験装置

二十七集積回路、探知装置又はレードーム（五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ全吸収線量がシリコン換算で五〇万ラド以上となる放射線照射に耐えることができるように設計した集積回路であって、ロケット又は無人航空機を核の影響から防護するために使用することができるもの

ロロケット又は無人航空機を核の影響から防護するために設計した探知装置

ハ五〇キロパスカルを超える圧力において一平方メートル当たり四、一八四キロジュールを超える熱衝撃に耐えることができるように設計したレードームであって、ロケット又は無人航空機を核の影響から防護するために使用することができるもの

第四条輸出令別表第一の五の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一ふっ素化合物の製品であって、航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体に使用するように設計したもののうち、第十四号ロ又はハに該当するふっ素化合物の含有量が全重量の五〇パーセントを超えるシール、ガスケット、シーラント又は燃料貯蔵袋

二繊維を使用した成型品（半製品を含む。以下この号において同じ。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ第十五号ホに該当するプリプレグ又はプリフォームを用いて製造した成型品

ロ次のいずれかに該当する繊維を用いて製造した成型品であって、金属又は炭素をマトリックスとするもの

（一）炭素繊維であって次の１及び２に該当するもの

１比弾性率が一〇、一五〇、〇〇〇メートルを超えるもの

２比強度が一七七、〇〇〇メートルを超えるもの

（二）第十五号ハに該当するもの

三芳香族ポリイミド（熱、放射線若しくは触媒による作用その他外部からの作用による重合化又は架橋が不可能であり、かつ、熱分解を経ずに溶融することのないものに限る。）の製品（フィルム、シート、テープ又はリボン状のものに限る。）であって、次のいずれかに該当するもの（銅で被覆又はラミネートされたものであって、電子回路のプリント基板用のものを除く。）

イ厚さが〇・二五四ミリメートルを超えるもの

ロ炭素、黒鉛、金属又は磁性材料で被覆され、又はラミネートされたもの

四繊維又はこれを使用したプリプレグ、プリフォーム若しくは成型品の製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品若しくは附属品（第三条第十一号に該当するものを除く。）

イフィラメントワインディング装置であって、繊維を位置決めし、包み作業及び巻き作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる基本軸（サーボ制御によって動作するものに限る。）を三本以上有するもの

ロ繊維からなる航空機の機体又はロケットの構造体を製造するためのものであって、テープを位置決めし、及びラミネートする作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる基本軸（サーボ制御によって動作するものに限る。）を五本以上有するもの

ハ三次元的に織ることができる織機又はインターレーシングマシンであって、繊維を成型品用に織り、編み若しくは組むために特に設計又は改造したもの

ニ第十五号に該当する繊維を製造するために特に設計又は改造した装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）重合体繊維から炭素繊維又は炭化けい素繊維を製造する装置

（二）炭化けい素繊維の製造用の装置であって、熱したフィラメント状の基材に元素又は化合物を化学的に蒸着させるもの

（三）耐火セラミックの湿式紡糸装置

（四）熱処理によって、アルミニウムを含有するプリカーサー繊維からアルミナ繊維を製造する装置

ホホットメルト方式によりプリプレグを製造するために特に設計又は改造した装置

ヘ非破壊検査装置であって、複合材料を検査するように設計したもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）三次元欠陥検査用のエックス線断層撮影装置

（二）数値制御を行うことができる超音波検査装置であって、位置送信機、位置受信機又は位置送受信機の動作が、同時制御され、かつ、検査時に対象物の三次元輪郭を軸数が四以上で測定するよう調整されているもの

ト繊維からなる航空機の機体又はロケットの構造体を製造するためのものであって、トウを位置決めし、及びラミネートする作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる基本軸（サーボ制御によって動作するものに限る。）を二本以上有するもの

五合金の粉末又は合金の粒子状物質の製造用に設計した装置であって、次のイ及びロに該当するもの

イコンタミネーションを防止するように特に設計したもの

ロ第七号ハ（二）１から９までのいずれかに該当する方法において使用するように特に設計したもの

六チタン、アルミニウム又はこれらの合金を超塑性成形又は拡散接合するための工具（型を含む。）であって、次のいずれかに該当するものを製造するように設計したもの

イ航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体の構造体

ロ航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体のエンジン

ハイ又はロに該当するものの部分品

七合金又はその粉末であって、次のいずれかに該当するもの（コーティングに使用するために特に調合したものを除く。）

イアルミニウムの化合物となっている合金であって、次のいずれかに該当するもの

（一）アルミニウムの含有量が全重量の一五パーセント以上三八パーセント以下であって、アルミニウム又はニッケル以外の合金元素を含むニッケル合金

（二）アルミニウムの含有量が全重量の一〇パーセント以上であって、アルミニウム又はチタン以外の合金元素を含むチタン合金

ロハに該当するものからなる合金であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ニッケル合金であって、次のいずれかに該当するもの

１六五〇度の温度において六七六メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの応力破断時間が一〇、〇〇〇時間以上のもの

２五五〇度の温度において一、〇九五メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの低サイクル疲労寿命が一〇、〇〇〇サイクル以上のもの

（二）ニオブ合金であって、次のいずれかに該当するもの

１八〇〇度の温度において四〇〇メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの応力破断時間が一〇、〇〇〇時間以上のもの

２七〇〇度の温度において七〇〇メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの低サイクル疲労寿命が一〇、〇〇〇サイクル以上のもの

（三）チタン合金であって、次のいずれかに該当するもの

１四五〇度の温度において二〇〇メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの応力破断時間が一〇、〇〇〇時間以上のもの

２四五〇度の温度において四〇〇メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの低サイクル疲労寿命が一〇、〇〇〇サイクル以上のもの

（四）アルミニウム合金であって、引張強さが次のいずれかに該当するもの

１二〇〇度の温度において二四〇メガパスカル以上のもの

２二五度の温度において四一五メガパスカル以上のもの

（五）マグネシウム合金であって、引張強さが三四五メガパスカル以上のもののうち、三パーセント食塩水中における腐食が一年につき一ミリメートル未満のもの

ハ合金の粉末であって、次の（一）から（三）までの全てに該当するもの

（一）次のいずれかに該当するものからなるもの

１製造工程中に混入する金属以外の粒子（径が一〇〇マイクロメートルを超えるものに限る。）の数が粒子一、〇〇〇、〇〇〇、〇〇〇個当たり三個未満のニッケル合金であって、アルミニウム及びニッケルを含む三種類以上の元素からなるもの

２アルミニウム、けい素又はチタンのいずれかの元素及びニオブを含む三種類以上の元素からなるニオブ合金

３アルミニウム及びチタンを含む三種類以上の元素からなるチタン合金

４マグネシウム、亜鉛又は鉄のいずれかの元素及びアルミニウムを含む三種類以上の元素からなるアルミニウム合金

５アルミニウム及びマグネシウムを含む三種類以上の元素からなるマグネシウム合金

（二）次のいずれかの方法によって製造したもの

１真空噴霧法

２ガス噴霧法

３回転噴霧法

４スプラットクェンチ法

５メルトスピニング法及び粉化法

６メルトエキストラクション法及び粉化法

７機械的合金法

８プラズマ噴霧法

９超音波噴霧法

（三）イ又はロに該当するものを製造することができるもの

ニ次の（一）から（三）までのすべてに該当する合金材料

（一）ハ（一）１から５までのいずれかに該当するものからなるもの

（二）細かく砕かれていないフレーク状、リボン状又は細い棒状のもの

（三）次のいずれかの方法によって製造されたもの

１スプラットクェンチ法

２メルトスピニング法

３メルトエキストラクション法

八金属性磁性材料であって、次のいずれかに該当するもの

イ比初透磁率が一二〇、〇〇〇以上のものであって、厚さが〇・〇五ミリメートル以下のもの

ロ磁歪合金であって、次のいずれかに該当するもの

（一）飽和磁気歪が〇・〇〇〇五を超えるもの

（二）電気機械結合係数が〇・八を超えるもの

ハストリップ状のアモルファス合金又はナノクリスタル合金であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）鉄、コバルト若しくはニッケルのいずれかの含有量又はこれらの含有量の合計が全重量の七五パーセント以上のもの

（二）飽和磁束密度が一・六テスラ以上のものであって、次のいずれかに該当するもの

１厚さが〇・〇二ミリメートル以下のもの

２電気抵抗率が二マイクロオームメートル以上のもの

九ウランチタン合金又はタングステン合金であって、そのマトリックスが鉄、ニッケル又は銅のもののうち、次のイからニまでのすべてに該当するもの

イ密度が一七・五グラム毎立方センチメートルを超えるもの

ロ弾性限度が八八〇メガパスカルを超えるもの

ハ引張強さが一、二七〇メガパスカルを超えるもの

ニ伸び率が八パーセントを超えるもの

十超電導材料であって、次のいずれかに該当するもの（長さが一〇〇メートルを超えるもの又は全重量が一〇〇グラムを超えるものに限る。）

イフィラメントを有するものであって、ニオブチタンのフィラメントを含むもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）フィラメントが銅又は銅合金以外のマトリックスに埋めこまれたもの

（二）フィラメントの断面積が一〇〇万分の二八平方ミリメートル未満のもの

ロニオブチタン以外の超電導フィラメントからなる超電導材料であって、次の（一）から（三）までの全てに該当するもの

（一）磁界をかけない場合に臨界温度が零下二六三・三度超のもの

（二）削除

（三）超電導材料の縦軸に対してあらゆる方向から垂直に一二テスラの磁束密度の磁界をかけた場合に、零下二六八・九五度の温度で超電導状態を保つことができるものであって、臨界電流密度が全ての横断面で一、七五〇アンペア毎平方ミリメートルを超えるもの

ハ超電導フィラメントからなる超電導材料であって、零下一五八・一五度の温度を超えて超電導性を保つことができるもの

十一潤滑剤として使用することができる材料、振動防止用に使用することができる液体又は冷媒用の液体であって、次のいずれかに該当するもの

イ削除

ロ潤滑剤として使用することができる材料であって、フェニレンエーテル、アルキルフェニレンエーテル、フェニレンチオエーテル、アルキルフェニレンチオエーテル又はこれらの混合物のうち、その有するエーテル基、チオエーテル基又はこれらの官能基の数の合計が三以上の物質を主成分とするもの

ハ振動防止用に使用することができる液体であって、純度が九九・八パーセントを超え、かつ、径が二〇〇マイクロメートル以上の粒状の不純物の数が一〇〇ミリリットル当たり二五個未満のもののうち、次のいずれかに該当する物質の重量が全重量の八五パーセント以上のもの

（一）ジブロモテトラフルオロエタン

（二）ポリクロロトリフルオロエチレン（油状又はワックス状のものであって、改質されたものに限る。）

（三）ポリブロモトリフルオロエチレン

ニ電子機器の冷媒用に設計した液体であって、フルオロカーボンからなるもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）次のいずれかに該当する物質の含有量の合計が全重量の八五パーセント以上のもの

１パーフルオロポリアルキルエーテルトリアジンのモノマー

２パーフルオロアリファティックエーテルのモノマー

３パーフルオロアルキルアミン

４パーフルオロシクロアルカン

５パーフルオロアルカン

（二）次の１から３までのすべてに該当するもの

１二五度の温度における密度が、一ミリリットル当たり一・五グラム以上のもの

２零度の温度において液体のもの

３ふっ素の含有量が全重量の六〇パーセント以上のもの

十二セラミック粉末、セラミック複合材料又はセラミックの材料となる前駆物質であって、次のいずれかに該当するもの

イ二ほう化チタンを用いて製造したセラミック粉末であって、金属不純物の含有量が全重量の〇・五パーセント未満のもののうち、粒子の径の平均値が五マイクロメートル以下であり、かつ、径が一〇マイクロメートルを超える粒子の重量の合計が全重量の一〇パーセント以下であるもの

ロ削除

ハセラミック複合材料であって、ガラス又は酸化物をマトリックスとするもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）次のいずれかからなる連続した繊維（一、〇〇〇度の温度における引張強さが七〇〇メガパスカル未満のもの、又は一、〇〇〇度の温度において一〇〇メガパスカルの応力が発生する荷重を一〇〇時間にわたって加えたときに、クリープ歪みが一パーセントを超えるものを除く。）により強化されたもの

１酸化アルミニウム

２けい素、炭素及び窒素

（二）次の１及び２に該当する繊維により強化されたもの

１次のいずれかの元素の組合せからなるもの

一けい素及び窒素

二けい素及び炭素

三けい素、アルミニウム、酸素及び窒素

四けい素、酸素及び窒素

２比強度が一二、七〇〇メートルを超えるもの

ニセラミック複合材料であって、けい素、ジルコニウム又はほう素の炭化物又は窒化物をマトリックスとするもの

ホハ又はニのいずれかのものの製造に用いられるセラミックの材料となる前駆物質であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ポリジオルガノシラン

（二）ポリシラザン

（三）ポリカルボシラザン

十三重合化することができる非ふっ素化化合物又は非ふっ素化重合体であって、次のいずれかに該当するもの

イビスマレイミド、ガラス転移点が二九〇度を超える芳香族ポリアミドイミド、ガラス転移点が二三二度を超える芳香族ポリイミド又はガラス転移点が二九〇度を超える芳香族ポリエーテルイミド

ロ削除

ハ削除

ニポリアリーレンケトン

ホビフェニレン、トリフェニレン又はこれらの組合せからなるアリーレン基を有するポリアリーレンスルフィド

ヘガラス転移点が二九〇度を超えるポリビフェニレンエーテルスルホン

十四ふっ素化合物であって、次のいずれかに該当するもの

イ削除

ロ結合ふっ素の含有量が全重量の一〇パーセント以上のふっ化ポリイミド

ハ結合ふっ素の含有量が全重量の三〇パーセント以上のふっ化ホスファゼンの弾性体

十五繊維又はこれを使用したプリプレグ若しくはプリフォームであって、次のいずれかに該当するもの

イ有機繊維（ポリエチレン繊維を除く。）であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）比弾性率が一二、七〇〇、〇〇〇メートルを超えるもの

（二）比強度が二三五、〇〇〇メートルを超えるもの

ロ炭素繊維であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）比弾性率が一四、六五〇、〇〇〇メートルを超えるもの

（二）比強度が二六八、二〇〇メートルを超えるもの

ハ無機繊維であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）次のいずれかに該当するもの

１二酸化けい素の含有量が全重量の五〇パーセント以上であって、比弾性率が二、五四〇、〇〇〇メートルを超えるもの

２比弾性率が五、六〇〇、〇〇〇メートルを超えるもの（１に該当するものを除く。）

（二）不活性の環境における融点、軟化点、分解点又は昇華温度が一、六四九度を超えるもの。ただし、次のいずれかに該当するものを除く。

１比弾性率が一〇、〇〇〇、〇〇〇メートル未満のものであって、シリカの含有量が全重量の三パーセント以上の多相多結晶アルミナ繊維の短繊維であって、短く切断されたもの又はランダムマット形態のもの

２モリブデン繊維又はモリブデン合金繊維

３ボロン繊維

４不活性の環境における融点、軟化点、分解点又は昇華温度が一、七七〇度未満のセラミック繊維の短繊維

ニ次のいずれかに該当するものからなる繊維又は当該繊維とイからハまでのいずれかに該当する繊維とを混繊した繊維

（一）第十三号イに該当する芳香族ポリエーテルイミド

（二）第十三号ニからヘまでのいずれかに該当するもの

ホプリプレグ又はプリフォームであって、次の（一）及び（二）を使用したもの

（一）次の１又は２に該当するもの

１ハに該当する無機繊維

２有機繊維又は炭素繊維であって、次の一及び二に該当するもの

一比弾性率が一〇、一五〇、〇〇〇メートルを超えるもの

二比強度が一七七、〇〇〇メートルを超えるもの

（二）次のいずれかに該当する樹脂

１第十三号又は第十四号ロに該当するもの

２フェノール樹脂であって、動的機械分析によって測定したガラス転移点が一八〇度以上のもの

３動的機械分析によって測定したガラス転移点が二三二度以上のもの（フェノール樹脂及び１に該当するものを除く。）

十六粒子の径が六〇マイクロメートル以下のほう素であって、ほう素の重量比による純度が八五パーセント以上のもの若しくはその混合物、粒子の径が六〇マイクロメートル以下のほう素合金であって、ほう素の重量比が八五パーセント以上のもの若しくはその混合物、硝酸グアニジン、ニトログアニジン又は五ふっ化よう素

十七次のいずれかに掲げる合金の粉末又は金属の粉末であって、表面が接種剤でコーティングされているもの（第七号に該当するものを除く。）

イ高エントロピー合金

ロ耐火性のある金属又はその合金

第五条輸出令別表第一の六の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一軸受又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ玉軸受又はころ軸受（円すいころ軸受を除く。）であって、内輪、外輪及び転動体の全てがモネル製又はベリリウム製のもののうち、日本産業規格Ｂ一五一四―一号で定める精度の等級が二級又は四級以上のもの

ロ削除

ハ能動型の磁気軸受システムであって、次のいずれかに該当するもの又はそのために特に設計した部分品

（一）磁束密度が二テスラ以上で、かつ、降伏点が四一四メガパスカルを超える材料からなるもの

（二）全電磁式で、かつ、三次元ホモポーラバイアス励磁方式のアクチュエータを用いるもの

（三）温度が一七七度以上で用いることができる位置検出器を有するもの

二工作機械（金属、セラミック又は複合材料を加工することができるものに限る。）であって、電子制御装置を取り付けることができるもののうち、次のイからホまでのいずれかに該当するもの（ヘに該当するもの及び光学仕上げ工作機械を除く。）

イ旋削をすることができる工作機械であって、輪郭制御をすることができる軸数が二以上のもののうち、次のいずれかに該当するもの（（三）に該当するものを除く。）

（一）移動量が一メートル未満の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇〇九ミリメートル以下のもの

（二）移動量が一メートル以上の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一一ミリメートル以下のもの

（三）棒材作業用の旋盤のうち、スピンドル貫通穴から材料を差し込み加工するものであって、次の１及び２に該当するもの

１加工できる材料の最大直径が四二ミリメートル以下のもの

２チャックを取り付けることができないもの

ロフライス削りをすることができる工作機械であって、次のいずれかに該当するもの

（一）輪郭制御をすることができる直線軸の数が三で、かつ、輪郭制御をすることができる回転軸の数が一のものであって、次のいずれかに該当するもの

１移動量が一メートル未満の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇〇九ミリメートル以下のもの

２移動量が一メートル以上の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一一ミリメートル以下のもの

（二）輪郭制御をすることができる軸数が五以上のものであって、次のいずれかに該当するもの

１移動量が一メートル未満の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇〇九ミリメートル以下のもの

２移動量が一メートル以上四メートル未満の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一四ミリメートル以下のもの

３移動量が四メートル以上の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇六ミリメートル以下のもの

（三）ジグ中ぐり盤であって、いずれか一軸以上の直線軸の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一一ミリメートル以下のもの

（四）フライカッティングを行うように専用設計された工作機械であって、次の１及び２に該当するもの

１スピンドルを一回転させた場合におけるスピンドルの半径方向及び軸方向の振れがそれぞれ〇・〇〇〇四ミリメートル未満のもの

２三〇〇ミリメートルを超える移動距離における真直度が二秒未満のもの

ハ研削をすることができる工作機械であって、次のいずれかに該当するもの（次の（三）から（五）までのいずれかに該当するものを除く。）

（一）いずれか一軸以上の直線軸の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一一ミリメートル以下のものであって、輪郭制御をすることができる軸数が三又は四のもの

（二）輪郭制御をすることができる軸数が五以上のものであって、次のいずれかに該当するもの

１移動量が一メートル未満の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一一ミリメートル以下のもの

２移動量が一メートル以上四メートル未満の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一四ミリメートル以下のもの

３移動量が四メートル以上の直線軸のうち、いずれか一軸以上の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇六ミリメートル以下のもの

（三）円筒外面研削盤、円筒内面研削盤又は円筒内外面研削盤であって、円筒で外径又は長さが一五〇ミリメートル以内のものを研削するように設計したもの

（四）ジグ研削盤として使用するように設計した工作機械であって、一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇一一ミリメートル未満のＺ軸又はＷ軸を有しないもの

（五）平面研削盤

ニ放電加工（ワイヤ放電加工を除く。）をすることができる工作機械であって、輪郭制御をすることができる回転軸の数が二以上のもの

ホ液体ジェット加工をすることができる工作機械、電子ビーム加工機又はレーザー加工機であって、次の（一）及び（二）に該当する回転軸の数が少なくとも二以上のもの

（一）輪郭制御をすることができるもの

（二）回転軸の位置決め精度が〇・〇〇三度未満のもの

ヘ工作機械であって、次のいずれかを製造するためのみに使用するように設計したもの

（一）歯車

（二）クランク軸又はカム軸

（三）工具又は刃物

（四）押出機のウォーム

（五）宝石

（六）義歯

三工作機械（金属、セラミック又は複合材料を加工することができるものに限る。）であって、電子制御装置を取り付けることができるもののうち、深穴ボール盤若しくは旋削をすることができるもの（深穴あけをすることができるものに限る。）で、深さが五、〇〇〇ミリメートルを超える穴をあけることができるもの

四数値制御を行うことができる光学仕上げ工作機械であって、選択的に材料を除去することにより非球形な光学的表面に加工することができるもののうち、次のイからニまでの全てに該当するもの

イ仕上がり形状寸法公差が一・〇マイクロメートル未満のもの

ロ仕上げの表面粗さの二乗平均平方根が一〇〇ナノメートル未満のもの

ハ輪郭制御をすることができる軸数が四以上のもの

ニ次のいずれかの方法を用いるもの

（一）磁性流体研磨法

（二）電気粘性流体研磨法

（三）エネルギー粒子ビーム研磨法

（四）膨張膜研磨法

（五）流体ジェット研磨法

五日本産業規格Ｚ二二四五号（ロックウェル硬さ試験方法）で定める測定方法によりＣスケールで測定したロックウェル硬さが四〇以上である平歯車、はすば歯車又はやまば歯車を仕上げ加工するよう設計した数値制御を行うことができる工作機械であって、次のイからハまでの全てに該当するものを加工することができるもの

イピッチ円直径が一、二五〇ミリメートルを超えるもの

ロ歯幅がピッチ円直径の一五パーセント以上のもの

ハ国際規格ＩＳＯ一三二八（円筒歯車―ＩＳＯ方式による精度）で定める精度が三級以上のもの

六アイソスタチックプレスであって、次のイ及びロに該当するもの又はその部分品若しくは附属品

イ内径が四〇六ミリメートル以上の中空室を有するものであって、中空室内の温度制御ができるもの

ロ次のいずれかに該当するもの

（一）最大圧力が二〇七メガパスカルを超えるもの

（二）中空室内の温度を一、五〇〇度を超える温度に制御することができるもの

（三）炭化水素の注入のための装置及びガス状分解生成物を除去するための装置を有するもの

七別表第三の第二欄に掲げるコーティング方法を用いる非電子的基板用コーティング装置であって、同表の第三欄に掲げる基材に対して同表の第四欄に掲げるコーティングを行うもののうち、次のいずれかに該当するもの又はその自動操作のために特に設計した部分品

イ原料ガスの化学反応により生成するコーティング材料を基材の表面に定着させる方法を用いるものであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）次のいずれかの方法を用いるもの

１パルス的方法

２核生成制御熱化学的析出法

３プラズマ放電下においてコーティング材料を基材の表面に定着させる方法

（二）次のいずれかに該当するもの

１一〇ミリパスカル以下で使用することができる回転軸シールを組み込んだもの

２膜厚制御機能を内部に有しているもの

ロイオン注入法を用いるものであって、ビーム電流が五ミリアンペア以上のもの

ハ電子ビームにより蒸発させたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法を用いるものであって、容量が八〇キロワットを超える電源装置を組み込んだもののうち、次のいずれかに該当する装置を有するもの

（一）インゴットの送りを制御するために、溶融液の液面制御をレーザー光を用いて行う装置

（二）コンピュータを用いて制御することができる溶着速度の監視装置であって、二以上の元素をコーティングする際の溶着速度を制御するために蒸気流中におけるイオン化原子のホトルミネセンスの原理を利用するもの

ニプラズマ溶射をするものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）溶射前に真空室を一〇ミリパスカルまで減圧することができるものであって、一〇キロパスカル以下の圧力（ノズル出口から三〇センチメートル以内において測定したものをいう。）で使用することができるもの

（二）膜厚制御機能を内部に有しているもの

ホスパッタリング法を用いるものであって、毎時一五マイクロメートル以上の溶着速度における電流密度が一〇ミリアンペア毎平方センチメートル以上のもの

ヘアーク放電によりイオン化されたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法を用いるものであって、陰極上のアークスポットを制御するための磁界を有するもの

トイオンプレーティング生産装置であって、コーティング中に次のいずれかを測定することができるもの

（一）基材の表面に定着したコーティング材料の厚さ及び成膜速度

（二）基材の表面の光学的特性

八測定装置（工作機械であって、測定装置として使用することができるものを含む。以下この条において同じ。）、位置のフィードバック装置又は測定装置の電子組立品であって、次のいずれかに該当するもの（第二号又は第三号に該当するものを除く。）

イ電子計算機又は数値制御装置によって制御される座標測定機であって、国際規格で定める測定方法により空間の測定精度を測定した場合に、操作範囲内のいずれかの測定点において、測定軸のマイクロメートルで表した最大許容長さ測定誤差がミリメートルで表した当該測定軸の長さに〇・〇〇一を乗じて得た数値に一・七を加えた数値以下となるもの

ロ直線上の変位を測定する装置、直線上の位置のフィードバック装置又は測定装置の電子組立品であって、次のいずれかに該当するもの（（一）及び（二）にあっては、レーザー干渉計及びレーザーを用いた光学エンコーダを除く。）

（一）非接触型の測定装置であって、〇・二ミリメートルまでの測定レンジにおいて、分解能が〇・二マイクロメートル以下のもの

（二）工作機械用に特に設計した直線上の位置のフィードバック装置であって、当該装置の精度がミリメートルで表した当該装置の有効測定長さの十万分の六パーセントに〇・〇〇〇八ミリメートルを加えて得た数値未満のもの

（三）次の全てに該当するもの

１レーザー光を用いて測定することができるもの

２測定できる最大の測定レンジにおいて、分解能が〇・二ナノメートル以下のもの

３測定範囲内のいずれか一の点において、空気屈折率で補正した場合に、測定軸のナノメートルで表した測定の不確かさの数値がミリメートルで表した当該測定軸の長さに〇・〇〇〇五を乗じて得た数値に一・六を加えた数値以下のものであって、一九・九九度以上二〇・〇一度以下の温度範囲において三〇秒を超えて測定できるもの

（四）（三）に該当する測定装置の電子組立品であって、当該装置にフィードバック機能を付加するように設計したもの

ハ工作機械用に特に設計した回転位置フィードバック装置又は角度の変位を測定する装置であって、角度の精度が〇・九角度秒以下のもの（平行光線を用いて鏡の角度の変位を測定する光学的器械（オートコリメータを含む。）を除く。）

ニ光の散乱を角度の関数として処理することにより表面粗さを測定するものであって、〇・五ナノメートル以下の感度を有するもの

九ロボット（操縦ロボット及びシーケンスロボットを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの又はその制御装置若しくはエンドエフェクター

イ日本産業規格Ｃ六〇〇七九―〇号で定める防爆構造のもの（塗装用のものを除く。）

ロ全吸収線量がシリコン換算で五、〇〇〇グレイを超える放射線照射に耐えることができるように設計したもの

ハ三〇、〇〇〇メートルを超える高度で使用するように設計したもの

十複合回転テーブル又は加工中に中心線の他の軸に対する角度を変更することができるスピンドルであって、工作機械用に設計したもののうち、次のいずれかに該当するもの

イ削除

ロ削除

ハ複合回転テーブルであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）旋削、フライス削り又は研削をすることができる工作機械用に設計したもの

（二）輪郭制御のために同時に制御することができるように設計した二つの回転軸を有するもの

ニ加工中に中心線の他の軸に対する角度を変更することができるスピンドルであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）旋削、フライス削り又は研削をすることができる工作機械用に設計したもの

（二）輪郭制御のために同時に制御することができるように設計したもの

十一絞りスピニング加工機であって、次のイ、ロ及びハの全てに該当するもの

イ数値制御装置又は電子計算機によって制御することができるもの

ロ輪郭制御をすることができる軸数が三以上のもの

ハローラの加圧力が六〇キロニュートンを超えるもの

十二金属若しくは合金の部品を製造するために設計された積層造形用の装置であって、次のイからニまでの全てに該当するもの又はそのために特に設計された部分品

イ次のいずれかの熱源を有するもの

（一）レーザー

（二）電子ビーム

（三）電気放電

ロ次のいずれかの制御されたプロセス環境を有するもの

（一）不活性ガス

（二）一〇〇パスカル以下の真空

ハ次のいずれかの同軸構成又は近軸構成であるインプロセス監視装置を有するもの

（一）電子式のカメラであって、三八〇ナノメートル超一四、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

（二）パイロメーターであって、一、〇〇〇度以上の温度を計測するために設計したもの

（三）放射計又は分光機であって、三八〇ナノメートル超三、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

ニハに該当するインプロセス監視装置からのフィードバックに応じて、造形中に熱源のパラメータ、製造経路又は機器設定を修正するように設計された閉ループ制御が可能なもの

第六条輸出令別表第一の七の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一集積回路（モノリシック集積回路、ハイブリッド集積回路、マルチチップ集積回路、膜形集積回路（シリコンオンサファイア集積回路を含む。）、光集積回路、三次元集積回路及びモノリシックマイクロ波集積回路を含む。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ次のいずれかの放射線照射に耐えられるように設計したもの

（一）全吸収線量がシリコン換算で五、〇〇〇グレイ以上のもの

（二）吸収線量がシリコン換算で一秒間に五、〇〇〇、〇〇〇グレイ以上のもの

（三）一メガ電子ボルト相当の中性子束（積算値）が一平方センチメートル当たり五〇兆個以上となるもの（ＭＩＳ形のものは除く。）

ロマイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、マイクロコントローラ、化合物半導体を用いた記憶素子用のもの、アナログデジタル変換用のもの、アナログデジタル変換機能を有しデジタル化されたデータを記録し、若しくは処理することができるもの、デジタルアナログ変換用のもの、信号処理用の電気光学的集積回路若しくは光集積回路、フィールドプログラマブルロジックデバイス、カスタム集積回路（ハからチまで若しくはルからヨまでのいずれかに該当する貨物であるかどうかの判断をすることができるもの又は輸出令別表第一の五から一五までの項の中欄のいずれかに該当する貨物に使用するように設計したものであるかどうかの判断をすることができるものを除く。以下この条において同じ。）、ＦＦＴプロセッサ、スタティック式のラム又は不揮発性メモリーであって、次のいずれかに該当するもの（民生用の自動車又は鉄道車両用に設計した集積回路を除く。）

（一）一二五度を超える温度で使用することができるように設計したもの

（二）零下五五度未満の温度で使用することができるように設計したもの

（三）零下五五度以上一二五度以下の全ての温度範囲で使用することができるように設計したもの

ハマイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ又はマイクロコントローラのうち、化合物半導体を用いたものであって、最大クロック周波数が四〇メガヘルツを超えるもの

ニ削除

ホアナログデジタル変換用のもの又はデジタルアナログ変換用のものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）アナログデジタル変換用のものであって、次のいずれかに該当するもの（ワに該当するものを除く。）

１分解能が八ビット以上一〇ビット未満のものであって、サンプルレートが一・三ギガサンプリング毎秒を超えるもの

２分解能が一〇ビット以上一二ビット未満のものであって、サンプルレートが六〇〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

３分解能が一二ビット以上一四ビット未満のものであって、サンプルレートが四〇〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

４分解能が一四ビット以上一六ビット未満のものであって、サンプルレートが二五〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

５分解能が一六ビット以上のものであって、サンプルレートが六五メガサンプリング毎秒を超えるもの

（二）デジタルアナログ変換用のものであって、次のいずれかに該当するもの

１分解能が一〇ビット以上一二ビット未満のものであって、調整された更新速度が三、五〇〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

２分解能が一二ビット以上のものであって、次のいずれかに該当するもの

一調整された更新速度が一、二五〇メガサンプリング毎秒を超え三、五〇〇メガサンプリング毎秒以下のもののうち、次のいずれかに該当するもの

イ一二ビットの分解能で動作する場合のアナログ出力値が、フルスケールのレベルからフルスケールの〇・〇二四パーセント以内のレベルに変化するまでのセトリング時間が九ナノ秒未満のもの

ロ一〇〇メガヘルツのデジタル入力信号でフルスケールを出力する場合又は一〇〇メガヘルツ未満のデジタル入力信号で最も高いフルスケールを出力する場合のスプリアス・フリー・ダイナミック・レンジが六八デシベルを超えるもの

二調整された更新速度が三、五〇〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

ヘ信号処理用の電気光学的集積回路又は光集積回路であって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）レーザー発振器を有するもの

（二）受光素子を有するもの

（三）光導波路を有するもの

トフィールドプログラマブルロジックデバイス（コンプレックスプログラマブルロジックデバイス、フィールドプログラマブルゲートアレイ、フィールドプログラマブルロジックアレイ又はフィールドプログラマブル相互接続用集積回路を含む。）であって、次のいずれかに該当するもの（ワに該当するものを除く。）

（一）シングルエンド方式の最大デジタル入出力数が七〇〇を超えるもの

（二）シリアルトランシーバーの最大データ速度の総計が一秒当たり五〇〇ギガビット以上のもの

チニューラルネットワークを用いたもの（ヨに該当するものを除く。）

リカスタム集積回路であって、次のいずれかに該当するもの

（一）端子数が一、五〇〇を超えるもの

（二）基本ゲート伝搬遅延時間が〇・〇二ナノ秒未満のもの

（三）動作周波数が三ギガヘルツを超えるもの

ヌ化合物半導体を用いたデジタル方式のものであって、次のいずれかに該当するもの（ハ、ホからリまで及びルのいずれかに該当するものを除く。）

（一）等価ゲート数が二入力ゲート換算で三、〇〇〇を超えるもの

（二）トグル周波数が一・二ギガヘルツを超えるもの

ルＦＦＴプロセッサであって、高速フーリエ変換のミリ秒で表した定格実行時間が次に掲げる式により算出した値未満のもの

_２

ヲダイレクト・デジタル・シンセサイザ（ＤＤＳ）集積回路であって、次のいずれかに該当するもの

（一）デジタルアナログ変換クロック周波数が三・五ギガヘルツ以上であって、デジタルアナログ変換分解能が一〇ビット以上一二ビット未満のもの

（二）デジタルアナログ変換クロック周波数が一・二五ギガヘルツ以上であって、デジタルアナログ変換分解能が一二ビット以上のもの

ワ次の（一）及び（二）に該当するもの又はこれを実行するようにプログラムが可能なもの

（一）アナログデジタル変換機能を有するものであって、次のいずれかに該当するもの

１分解能が八ビット以上一〇ビット未満のものであって、サンプルレートが一・三ギガサンプリング毎秒を超えるもの

２分解能が一〇ビット以上一二ビット未満のものであって、サンプルレートが一ギガサンプリング毎秒を超えるもの

３分解能が一二ビット以上一四ビット未満のものであって、サンプルレートが一ギガサンプリング毎秒を超えるもの

４分解能が一四ビット以上一六ビット未満のものであって、サンプルレートが四〇〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

５分解能が一六ビット以上のものであって、サンプルレートが一八〇メガサンプリング毎秒を超えるもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１デジタル化されたデータを記録するもの

２デジタル化されたデータを処理するもの

カ相補型金属酸化膜半導体集積回路であって、零下二六八・六五度以下の温度で作動するように設計したもの（ロに該当するものを除く。）

ヨ一つ以上のデジタルプロセッサユニットを有するものであって合計処理性能（ＴＰＰ）が六、〇〇〇以上のもの

二マイクロ波用機器又はミリ波用機器の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ真空電子デバイス（クライストロン、進行波管及びこれらから派生したものを含む。以下ロにおいて同じ。）であって、次のいずれかに該当するもの（（四）に該当するものを除く。）

（一）進行波真空電子デバイスであって、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が三一・八ギガヘルツを超えるもの

２フィラメントを加熱してから定格出力に達するまでの時間が三秒未満の熱陰極を有するもの

３空胴結合形のものであって、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が七パーセントを超えるもの又は最大出力が二・五キロワットを超えるもの

４ヘリックス形のもの、折返し導波管形のもの又は蛇行導波管回路形のものであって、次のいずれかに該当するもの

一一オクターブを超える瞬時帯域幅を有するものであって、キロワットで表した場合の平均出力の数値にギガヘルツで表した場合の動作周波数の数値を乗じて得た数値が〇・五を超えるもの

二一オクターブ以下の瞬時帯域幅を有するものであって、キロワットで表した場合の平均出力の数値にギガヘルツで表した場合の動作周波数の数値を乗じて得た数値が一を超えるもの

三宇宙用に設計したもの

四グリッド式電子銃を有するもの

５瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセント以上のものであって、次のいずれかを有するもの

一環状電子ビーム

二非軸対称電子ビーム

三複数電子ビーム

（二）クロスフィールド増幅真空電子デバイスであって、その利得が一七デシベルを超えるもの

（三）デュアルモードで操作可能なもの

（四）国際電気通信連合が無線通信用に割り当てた周波数帯域（無線測位用に割り当てた周波数帯域を除く。）で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が三一・八ギガヘルツ以下であるもの

２専ら宇宙において使用するために設計したもの以外のものであって、平均出力値が五〇ワット以下及び動作周波数が三一・八ギガヘルツ超四三・五ギガヘルツ以下のもの

ロ真空電子デバイスに使用するように設計した熱電子陰極であって、定格動作状態での放射電流密度が五アンペア毎平方センチメートルを超えるもの又は定格動作状態でのパルス放射電流密度が一〇アンペア毎平方センチメートルを超えるもの

ハモノリシックマイクロ波集積回路増幅器であって、次のいずれかに該当するもの（カに該当する集積化された移相器を有するモノリシックマイクロ波集積回路増幅器を除く。）

（一）動作周波数が二・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一五パーセントを超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が二・七ギガヘルツ超二・九ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が七五ワット（四八・七五ディービーエム）超三〇〇ワット（五四・八ディービーエム）以下のもの

２動作周波数が二・九ギガヘルツ超三・二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五五ワット（四七・四ディービーエム）超三〇〇ワット（五四・八ディービーエム）以下のもの

３動作周波数が三・二ギガヘルツ超三・七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が四〇ワット（四六ディービーエム）超三〇〇ワット（五四・八ディービーエム）以下のもの

４動作周波数が三・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二〇ワット（四三ディービーエム）超一二〇ワット（五〇・八ディービーエム）以下のもの

５動作周波数が二・七ギガヘルツ超三・七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が三〇〇ワット（五四・八ディービーエム）を超えるのもの

６動作周波数が三・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一二〇ワット（五〇・八ディービーエム）を超えるのもの

（二）動作周波数が六・八ギガヘルツ超一六ギガヘルツ以下であって、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が六・八ギガヘルツ超八・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一〇ワット（四〇ディービーエム）超二五ワット（四四ディービーエム）以下のもの

２動作周波数が八・五ギガヘルツ超一二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五ワット（三七ディービーエム）超二五ワット（四四ディービーエム）以下のもの又は動作周波数が一二ギガヘルツ超一六ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五ワット（三七ディービーエム）を超えるもの

３動作周波数が六・八ギガヘルツ超一二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二五ワット（四四ディービーエム）を超えるもの

（三）動作周波数が一六ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が三ワット（三四・七七ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

（四）動作周波数が三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が〇・一ナノワット（マイナス七〇ディービーエム）を超えるもの

（五）動作周波数が三七ギガヘルツ超四三・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一・〇ワット（三〇ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

（六）動作周波数が四三・五ギガヘルツ超七五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が三一・六二ミリワット（一五ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

（七）動作周波数が七五ギガヘルツ超九〇ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一〇ミリワット（一〇ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が五パーセントを超えるもの

（八）動作周波数が九〇ギガヘルツを超え、ピーク飽和出力値が〇・一ナノワット（マイナス七〇ディービーエム）を超えるもの

ニマイクロ波用ディスクリートトランジスタであって、次のいずれかに該当するもの

（一）動作周波数が二・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が二・七ギガヘルツ超二・九ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が四〇〇ワット（五六ディービーエム）超六〇〇ワット（五七・八ディービーエム）以下のもの

２動作周波数が二・九ギガヘルツ超三・二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二〇五ワット（五三・一二ディービーエム）超六〇〇ワット（五七・八ディービーエム）以下のもの

３動作周波数が三・二ギガヘルツ超三・七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一一五ワット（五〇・六一ディービーエム）超六〇〇ワット（五七・八ディービーエム）以下のもの

４動作周波数が三・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が六〇ワット（四七・七八ディービーエム）超一三〇ワット（五一・二ディービーエム）以下のもの

５動作周波数が二・七ギガヘルツ超三・七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が六〇〇ワット（五七・八ディービーエム）を超えるもの

６動作周波数が三・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一三〇ワット（五一・二ディービーエム）を超えるもの

（二）動作周波数が六・八ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下であって、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が六・八ギガヘルツ超八・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五〇ワット（四七ディービーエム）超一三〇ワット（五一・二ディービーエム）以下のもの

２動作周波数が八・五ギガヘルツ超一二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一五ワット（四一・七六ディービーエム）超六〇ワット（四七・八ディービーエム）以下のもの

３動作周波数が六・八ギガヘルツ超八・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一三〇ワット（五一・二ディービーエム）を超えるもの

４動作周波数が八・五ギガヘルツ超一二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が六〇ワット（四七・八ディービーエム）を超えるもの

５動作周波数が一二ギガヘルツ超一六ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が四〇ワット（四六ディービーエム）を超えるもの

６動作周波数が一六ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が七ワット（三八・四五ディービーエム）を超えるもの

（三）動作周波数が三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が〇・五ワット（二七ディービーエム）を超えるもの

（四）動作周波数が三七ギガヘルツ超四三・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一ワット（三〇ディービーエム）を超えるもの

（五）動作周波数が四三・五ギガヘルツを超え、ピーク飽和出力値が〇・一ナノワット（マイナス七〇ディービーエム）を超えるもの

（六）動作周波数が八・五ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下の全ての周波数帯域において、ピーク飽和出力値が五ワット（三七ディービーエム）を超えるもの（第六条第二号ニ（一）から（五）までのいずれかに該当するものを除く。）

ホマイクロ波用固体増幅器（モノリシックマイクロ波集積回路増幅器及びハーモニックミクサ又はコンバータを除く。）又はこれを含む組立品若しくはモジュール（送受信モジュール及び送信モジュールを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が二・七ギガヘルツ超二・九ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五〇〇ワット（五七ディービーエム）を超えるもの

２動作周波数が二・九ギガヘルツ超三・二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二七〇ワット（五四・三ディービーエム）を超えるもの

３動作周波数が三・二ギガヘルツ超三・七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二〇〇ワット（五三ディービーエム）を超えるもの

４動作周波数が三・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が九〇ワット（四九・五四ディービーエム）を超えるもの

（二）動作周波数が六・八ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下であって、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が六・八ギガヘルツ超八・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が七〇ワット（四八・四五ディービーエム）を超えるもの

２動作周波数が八・五ギガヘルツ超一二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五〇ワット（四七ディービーエム）を超えるもの

３動作周波数が一二ギガヘルツ超一六ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が三〇ワット（四四・七七ディービーエム）を超えるもの

４動作周波数が一六ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二〇ワット（四三ディービーエム）を超えるもの

（三）動作周波数が三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が〇・五ワット（二七ディービーエム）を超えるもの

（四）動作周波数が三七ギガヘルツ超四三・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二ワット（三三ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

（五）動作周波数が四三・五ギガヘルツを超えるものであって、次のいずれかに該当するもの

１動作周波数が四三・五ギガヘルツ超七五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が〇・二ワット（二三ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

２動作周波数が七五ギガヘルツ超九〇ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二〇ミリワット（一三ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が五パーセントを超えるもの

３動作周波数が九〇ギガヘルツ超であって、ピーク飽和出力値が〇・一ナノワット（マイナス七〇ディービーエム）を超えるもの

ヘ電子的又は磁気的に同調可能な帯域通過フィルターであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）半オクターブの周波数帯域を一〇マイクロ秒未満で同調可能な可変周波数共振器を六以上有するもの

（二）中心周波数の〇・五パーセントを超える帯域を通過することができるもの

ト電子的又は磁気的に同調可能な帯域阻止フィルターであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）半オクターブの周波数帯域を一〇マイクロ秒未満で同調可能な可変周波数共振器を六以上有するもの

（二）中心周波数の〇・五パーセント未満の帯域を阻止することができるもの

チ削除

リハーモニックミクサ又はコンバータであって、次のいずれかに該当するもの

（一）スペクトラムアナライザーの周波数帯域を一一〇ギガヘルツ超に拡張するように設計したもの

（二）信号発生器の動作範囲を拡張するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１周波数帯域が一一〇ギガヘルツを超えるもの

２周波数帯域が四三・五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下であって、出力が一〇〇ミリワット（二〇ディービーエム）を超えるもの

（三）ネットワークアナライザーの動作範囲を拡張するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１周波数帯域が一一〇ギガヘルツを超えるもの

２周波数帯域が四三・五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下であって、出力が一〇〇ミリワット（二〇ディービーエム）を超えるもの

（四）マイクロ波用試験受信機の周波数帯域を一一〇ギガヘルツ超に拡張するように設計したもの

ヌイに該当する真空電子デバイスを内蔵するマイクロ波用電力増幅器であって、次の（一）及び（二）に該当するもの（国際電気通信連合が無線通信用に割り当てた周波数帯域（無線測位用に割り当てた周波数帯域を除く。）で使用するように設計したものを除く。）

（一）動作周波数が三ギガヘルツを超えるもの

（二）平均出力電力の質量に対する比が八〇ワット毎キログラムを超えるものであって、体積が四〇〇立方センチメートル未満のもの

ルマイクロ波用電力モジュールであって、進行波真空電子デバイス、モノリシックマイクロ波集積回路及び電源を有するもののうち、次の（一）から（三）までの全てに該当するもの

（一）完全停止状態から完全作動状態までの時間が一〇秒未満のもの

（二）体積が、ワットで表した最高定格出力値に一〇立方センチメートル毎ワットを乗じて得た数値未満のもの

（三）一オクターブを超える瞬時帯域幅を有するものであって、次のいずれかに該当するもの

１周波数が一八ギガヘルツ以下のものにあっては、無線周波数の出力が一〇〇ワットを超えるもの

２周波数が一八ギガヘルツを超えるもの

ヲ発振器又は発振機能を有する組立品であって、動作周波数とオフセット周波数の隔たりが一〇ヘルツ以上一〇キロヘルツ以下のいずれかの周波数帯域において、搬送波に対する一ヘルツ当たりの単側波帯位相雑音の比が次に掲げる式により算定した値未満のもの

ワ周波数シンセサイザーを用いた電子組立品のうち、次のいずれかに該当するもの

（一）周波数切換えの所要時間が一四三ピコ秒未満のもの

（二）四・八ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下の合成出力周波数範囲で、二・二ギガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が一〇〇マイクロ秒未満のもの

（三）削除

（四）三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下の合成出力周波数範囲で、五五〇メガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が五〇〇マイクロ秒未満のもの

（五）三七ギガヘルツ超七五ギガヘルツ以下の合成出力周波数範囲で、二・二ギガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が一〇〇マイクロ秒未満のもの

（六）七五ギガヘルツ超九〇ギガヘルツ以下の合成出力周波数範囲で、五・〇ギガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が一〇〇マイクロ秒未満のもの

（七）九〇ギガヘルツを超える合成出力周波数範囲で、周波数切換えの所要時間が一ミリ秒未満のもの

カ送受信モジュール、送受信用モノリシックマイクロ波集積回路、送信モジュール及び送信用モノリシックマイクロ波集積回路であって、動作周波数が二・七ギガヘルツを超えるもののうち、次の全てに該当するもの

（一）いずれかのチャネルにおいて、ワットで表したピーク飽和出力値が五〇五・六二をギガヘルツで表した最大動作周波数の二乗で除した値を超えるもの

（二）いずれかのチャネルにおいて、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が五パーセント以上のもの

（三）平面のいずれかの辺の長さをセンチメートルで表した値が、送信又は送受信チャネル数と一五の積をギガヘルツで表した最小動作周波数で除した値以下のもの

（四）チャネル毎に電子的に位相シフトできるもの

ヨパラメトリック信号増幅器であって、次の（一）から（三）までの全てに該当するもの

（一）零下二七二・一五度未満の温度で作動するように設計したもの

（二）動作周波数が二ギガヘルツ超一五ギガヘルツ以下で作動するように設計したもの

（三）動作周波数が二ギガヘルツ超一五ギガヘルツ以下かつ零下二七二・一五度の温度において、雑音指数が〇・〇一五デシベル未満のもの

三弾性波若しくは音響光学効果を利用する信号処理装置であって、次のいずれかに該当するもの（特定の帯域通過、低域通過、高域通過、帯域阻止又は共振の機能のいずれかのみを有するものを除く。）又はその部分品

イ表面弾性波又は疑似表面弾性波を利用するものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）搬送周波数が六ギガヘルツを超えるもの

（二）搬送周波数が一ギガヘルツ超六ギガヘルツ以下のものであって、次のいずれかに該当するもの

１サイドローブに対するメインローブの電力の比が六五デシベルを超えるもの

２マイクロ秒で表した場合の最大遅延時間の数値にメガヘルツで表した場合の帯域幅の数値を乗じて得た数値が一〇〇を超えるもの

３帯域幅が二五〇メガヘルツを超えるもの

４分散型遅延時間（周波数に応じた遅延時間の最大の値と最小の値との差をいう。）が一〇マイクロ秒を超えるもの

（三）搬送周波数が一ギガヘルツ以下のものであって、次のいずれかに該当するもの

１マイクロ秒で表した場合の最大遅延時間の数値にメガヘルツで表した場合の帯域幅の数値を乗じて得た数値が一〇〇を超えるもの

２分散型遅延時間が一〇マイクロ秒を超えるもの

３サイドローブに対するメインローブの電力の比が六五デシベルを超えるものであって、帯域幅が一〇〇メガヘルツを超えるもの

ロバルク弾性波を利用するものであって、六ギガヘルツを超える周波数で信号の直接処理ができるもの

ハ弾性波と光波の相互作用を利用したものであって、信号又は画像の直接処理ができるもの

四超電導材料を用いた装置のうち、超電導材料を用いた部品を有する電子素子又は電子回路であって、使用する超電導材料の臨界温度より低い温度で使用することができるように設計し、かつ、次のいずれかに該当するもの

イ超電導ゲートを有するデジタル回路用の電流スイッチングの機能を有するものであって、ゲート当たりの遅延時間にゲート当たりの電力消費を乗じて得た値が一、〇〇〇億分の一ミリジュール未満のもの

ロ周波数分離の機能を有するものであって、キュー値が一〇、〇〇〇を超える共振回路を有するもの

五セル（バッテリー（シングルセルバッテリーを含む。）に組み込まれているものを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ一次セルであって、二〇度の温度におけるエネルギー密度及び電力密度が次のいずれかに該当するもの

（一）エネルギー密度が五五〇ワット時毎キログラムを超え、かつ、連続的な電力密度が五〇ワット毎キログラムを超えるもの

（二）エネルギー密度が五〇ワット時毎キログラムを超え、かつ、連続的な電力密度が三五〇ワット毎キログラムを超えるもの

ロ二次セルであって、二〇度の温度におけるエネルギー密度が三五〇ワット時毎キログラムを超えるもの

六高電圧用のコンデンサであって、次のいずれかに該当するもの

イ反復サイクルが一〇ヘルツ未満のコンデンサであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）定格電圧が五キロボルト以上のもの

（二）エネルギー密度が二五〇ジュール毎キログラム以上のもの

（三）総エネルギーが二五キロジュール以上のもの

ロ反復サイクルが一〇ヘルツ以上のコンデンサであって、次の（一）から（四）までのすべてに該当するもの

（一）定格電圧が五キロボルト以上のもの

（二）エネルギー密度が五〇ジュール毎キログラム以上のもの

（三）総エネルギーが一〇〇ジュール以上のもの

（四）一〇、〇〇〇回以上充電及び放電の繰り返しをすることができるように設計したもの

七一秒を要しないで磁界を完全に形成させ、又は消失させるように設計した超電導電磁石（ソレノイドコイル形のものを含む。）であって、次のイからハまでのすべてに該当するもの

イ減磁の際に最初の一秒間で放出するエネルギーが一〇キロジュールを超えるもの

ロコイルの内径が二五〇ミリメートルを超えるもの

ハ定格最大電流密度が三〇〇アンペア毎平方ミリメートルを超えるもの又は定格磁束密度が八テスラを超えるもの

七の二太陽電池セル、セル連結保護ガラス集成品、太陽電池パネル又は太陽光アレーであって、宇宙用に設計したもののうち、エア・マス・ゼロで一、三六七ワット毎平方メートルの照射を受けたときの最小平均変換効率が、二八度の動作温度において二〇パーセントを超えるもの

八回転入力型のアブソリュートエンコーダであって、角度の変換誤差の絶対値が一秒以下のもの及び当該エンコーダ用に設計されたリング、ディスク又はスケール

八の二パルス出力の切換えを行うサイリスターデバイス又はサイリスターモジュールであって、電気的に若しくは光学的に制御された切換え方法又は電子の放射を制御された切換え方法を用いたもののうち、次のいずれかに該当するもの（民生用の鉄道車両又は航空機に使用するように設計された装置に組み込まれたものを除く。）

イ最大立上がり電流が三〇、〇〇〇アンペア毎マイクロ秒を超えるものであって、休止状態電圧が一、一〇〇ボルトを超えるもの

ロ最大立上がり電流が二、〇〇〇アンペア毎マイクロ秒を超えるものであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）休止状態電圧が三、〇〇〇ボルト以上のもの

（二）最大電流が三、〇〇〇アンペア以上のもの

八の三電力の制御又は電気信号の整流を行う半導体素子又は半導体モジュールであって、次のイからハまでのすべてに該当するもの（民生用の自動車、鉄道車両又は航空機に使用するように設計された装置に組み込まれたものを除く。）

イ最大動作接合部温度が二一五度を超えるように設計したもの

ロ繰返しピーク休止状態電圧が三〇〇ボルトを超えるもの

ハ継続電流が一アンペアを超えるもの

八の四アナログ信号用に設計した光の強度、振幅又は位相を操作する電気光学効果を利用する光変調器であって、次のいずれかに該当するもの（光入出力コネクタを有するものを含む。）

イ最大動作周波数が一〇ギガヘルツ超二〇ギガヘルツ未満であって、光挿入損失が三デシベル以下のもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）一ギガヘルツ以下の周波数で測定した場合の半波長電圧が二・七ボルト未満のもの

（二）一ギガヘルツを超える周波数で測定した場合の半波長電圧が四ボルト未満のもの

ロ最大動作周波数が二〇ギガヘルツ以上のものであって、光挿入損失が三デシベル以下のもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）一ギガヘルツ以下の周波数で測定した場合の半波長電圧が三・三ボルト未満のもの

（二）一ギガヘルツを超える周波数で測定した場合の半波長電圧が五ボルト未満のもの

九サンプリングオシロスコープであって、リアルタイムサンプリング手法を用いているもののうち、次のイ及びロに該当するもの

イチャネルのノイズが最小となる縦軸レンジにおけるノイズ電圧の二乗平均平方根がフルスケールの二パーセント未満のもの

ロいずれかのチャネルの上限三デシベル周波数が九〇ギガヘルツを超えるもの

十アナログデジタル変換器のうち、アナログデジタル変換を行う機能を有するモジュール、電子組立品又は装置（アナログデジタル変換カード、波形デジタイザー、データ収集カード、信号収集ボード及びトランジェントレコーダーを含む。）であって、次のイ及びロに該当するもの（デジタル方式の記録装置、サンプリングオシロスコープ、スペクトラムアナライザー、信号発生器、ネットワークアナライザー及びマイクロ波用試験受信機を除く。）

イ分解能及びサンプルレートが次のいずれかに該当するもの

（一）分解能が八ビット以上一〇ビット未満のものであって、サンプルレートが一・三ギガサンプル毎秒を超えるもの

（二）分解能が一〇ビット以上一二ビット未満のものであって、サンプルレートが一ギガサンプル毎秒を超えるもの

（三）分解能が一二ビット以上一四ビット未満のものであって、サンプルレートが一ギガサンプル毎秒を超えるもの

（四）分解能が一四ビット以上一六ビット未満のものであって、サンプルレートが四〇〇メガサンプル毎秒を超えるもの

（五）分解能が一六ビット以上のものであって、サンプルレートが一八〇メガサンプル毎秒を超えるもの

ロ次のいずれかの機能を持つもの

（一）デジタル化されたデータを出力するもの

（二）デジタル化されたデータを記録するもの

（三）デジタル化されたデータを処理するもの

十の二モジュール、電子組立品又は装置であって、一つ以上のユーザー構成可能なフィールドプログラマブルロジックデバイスを組み込んだ、ルックアップテーブル入力数の総計が一、八〇〇、〇〇〇以上であるもの

十一デジタル方式の記録装置であって、次のイ及びロに該当するもの

イディスクメモリ又はソリッドステートドライブメモリへのデータ連続記録速度が六・四ギガビット毎秒を超えて維持可能なもの

ロ記録中の無線周波数信号データを信号処理することができるもの

十二スペクトラムアナライザーであって、次のいずれかに該当するもの

イ三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下のいずれかの周波数帯域で、三デシベルの分解能帯域幅が四〇メガヘルツを超えるもの

ロ四三・五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下のいずれかの周波数帯域で、表示平均ノイズレベルがマイナス一六〇ディービーエム毎ヘルツ未満のもの

ハ一一〇ギガヘルツを超える周波数を分析することができるもの

ニ次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）実時間帯域幅が五二〇メガヘルツを超えるもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１八マイクロ秒以下の長さの信号を、ギャップ又は窓効果による全振幅からの減衰が三デシベル未満で、一〇〇パーセントの確率で検出するもの

２周波数マスクトリガー機能を有するものであって、八マイクロ秒以下の長さの信号を一〇〇パーセントの確率で捉えるもの

十三信号発生器であって、次のいずれかに該当するもの（二以上の水晶発振器の周波数を加算した値、減算した値又はこれらの値を逓倍した値によって出力周波数を規定する装置を除く。）

イ三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下のいずれかの周波数帯域で、次の（一）及び（二）に該当するパルス変調信号を発振するもの

（一）パルス幅が二五ナノ秒未満のもの

（二）オン・オフ比が六五デシベル以上のもの

ロ四三・五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下のいずれかの周波数帯域で、出力一〇〇ミリワット（二〇ディービーエム）を超えるもの

ハ次のいずれかに該当するもの

（一）削除

（二）四・八ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、二・二ギガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が一〇〇マイクロ秒未満のもの

（三）削除

（四）三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、五五〇メガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が五〇〇マイクロ秒未満のもの

（五）三七ギガヘルツ超七五ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、二・二ギガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が一〇〇マイクロ秒未満のもの

（六）七五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、五・〇ギガヘルツを超えるいずれかの周波数切換えの所要時間が一〇〇マイクロ秒未満のもの

ニ搬送波に対する一ヘルツ当たりの単側波帯位相雑音の比が次のいずれかに該当するもの

（一）三・二ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下のいずれかの出力周波数帯域で、動作周波数とオフセット周波数の隔たりが一〇ヘルツ以上一〇キロヘルツ以下のいずれかの周波数帯域において、次に掲げる式により算定した値未満のもの

（二）三・二ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下のいずれかの出力周波数帯域で、動作周波数とオフセット周波数の隔たりが一〇キロヘルツ超一〇〇キロヘルツ以下のいずれかの周波数帯域において、次に掲げる式により算定した値未満のもの

ホデジタルベースバンド信号をベクトル変調する機能を有するもので、ベクトル変調帯域幅が次のいずれかに該当するもの

（一）四・八ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、二・二ギガヘルツを超えるもの

（二）三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、五五〇メガヘルツを超えるもの

（三）三七ギガヘルツ超七五ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、二・二ギガヘルツを超えるもの

（四）七五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下の出力周波数帯域で、五・〇ギガヘルツを超えるもの

ヘ最大出力周波数が一一〇ギガヘルツを超えるもの

十四ネットワークアナライザーであって、次のいずれかに該当するもの

イ四三・五ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下のいずれかの動作周波数帯域において、出力が一〇〇ミリワット（二〇ディービーエム）を超えるもの

ロ削除

ハ五〇ギガヘルツ超一一〇ギガヘルツ以下の周波数帯域における非線形ベクトルの計測機能を有するもの（イに該当するものを除く。）

ニ最大動作周波数が一一〇ギガヘルツを超えるもの

十五マイクロ波用試験受信機であって、次のイ及びロに該当するもの

イ一一〇ギガヘルツを超える周波数で使用することができるように設計したもの

ロ振幅及び位相を同時に測定できるもの

十六原子周波数標準器であって、次のいずれかに該当するもの

イルビジウムを用いていないものであって、三〇日間連続して発振したときの安定度が一、〇〇〇億分の一未満のもの

ロ宇宙用に設計したもの

ハ宇宙用に設計していないものであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）ルビジウムを用いたもの

（二）三〇日間連続して発振したときの安定度が一、〇〇〇億分の一未満のもの

（三）消費電力が一ワット未満のもの

十六の二スプレー冷却方式の熱制御装置であって、密閉された装置の中で冷媒の循環利用ができるもののうち、電気部品に絶縁冷媒を吹き付けて部品の温度を一定の範囲に収めるために特に設計した噴霧ノズルを有するもの又はそのために特に設計した部分品

十六の三極低温用の冷却装置又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ零下二七三・〇五度以下の温度において、四八時間超にわたって、六〇〇マイクロワット以上の冷凍出力を供給する定格のもの

ロ二段式のパルスチューブ冷凍機であって、温度を零下二六九・一五度未満に維持するものであり、かつ、零下二六八・九五度以下の温度において、一・五ワット以上の冷凍出力を供給する定格のもの

十七半導体素子、集積回路若しくは半導体物質の製造用の装置（ホ及びレにおいて「半導体製造装置」という。）若しくは試験装置であって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの部分品若しくは附属品

イ結晶のエピタキシャル成長装置であって、次のいずれかに該当するもの（ウに該当するものを除く。）

（一）七五ミリメートル以上の長さにわたり膜の厚さの許容差の絶対値が二・五パーセント未満のシリコン以外の膜を形成するように設計又は改造したもの

（二）有機金属化学的気相成長反応炉であって、アルミニウム、ガリウム、インジウム、砒ひ素、りん、アンチモン、酸素又は窒素のいずれか二以上の元素を有する化合物半導体をエピタキシャル成長させるもの

（三）ガス源又は固体源を用いた分子線エピタキシャル成長装置

ロイオン注入装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）削除

（二）水素、重水素又はヘリウムを注入する場合において、ビームエネルギーが二〇キロ電子ボルト以上、かつ、ビーム電流が一〇ミリアンペア以上で作動するように設計し、最適化したもの

（三）直接描画を行うことができるもの

（四）加熱された半導体材料の基板へ酸素を注入する場合において、ビームエネルギーが六五キロ電子ボルト以上、かつ、ビーム電流が四五ミリアンペア以上のもの

（五）六〇〇度以上の温度に加熱された半導体材料の基板へシリコンを注入する場合において、ビームエネルギーが二〇キロ電子ボルト以上、かつ、ビーム電流が一〇ミリアンペア以上で作動するように設計し、最適化したもの

ハ削除

ニ削除

ホ自動的にウエハーの装塡を行うことができるマルチチャンバー対応ウエハー搬送中央装置であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）イ（一）から（三）まで又はロ（二）から（五）までのいずれかに該当する半導体製造装置であってそれぞれ異なるものを三台以上接続することができるように設計したウエハーの出し入れ用の接続部を有するもの（異なる機能を有するものを接続することができるものに限る。）

（二）複数のウエハーの処理を順次行うために真空状態で一体化された装置を構成するように設計したもの

ヘリソグラフィ装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ウエハーの処理のためのステップアンドリピート方式又はステップアンドスキャン方式の露光装置であって、光学方式のもの又はエックス線を用いたもののうち、次のいずれかに該当するもの

１光源の波長が一九三ナノメートル未満のもの

２ナノメートルで表した光源の波長に〇・三五を乗じて得た数値を開口数の値で除して得た数値が四五以下のもの

（二）インプリントリソグラフィ装置であって、四五ナノメートル以下の線幅を実現することができるもの（テに該当するものを除く。）

（三）マスクの製造をすることができるように設計した装置であって、電子ビーム、イオンビーム又はレーザー光を用いたもののうち、次のいずれかに該当するもの

１照射面の半値全幅の直径が六五ナノメートル未満、かつ、イメージ位置誤差（平均値に三シグマを加えたもの）が一七ナノメートル未満のもの

２削除

３マスク上の二層目の重ね合わせ誤差（平均値に三シグマを加えたもの）が二三ナノメートル未満のもの

（四）直接描画方式で半導体素子又は集積回路の製造をすることができるように設計した装置であって、電子ビームを用いたもののうち、次のいずれかに該当するもの

１照射面の直径が一五ナノメートル以下のもの

２重ね合わせ誤差（平均値に三シグマを加えたもの）が二七ナノメートル以下のもの

ト削除

チ削除

リ削除

ヌ試験装置であって、半導体素子若しくは集積回路又はこれらの半製品用のもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）第二号ニに該当する貨物のエスパラメータを試験することができるように設計したもの

（二）削除

（三）第二号ハに該当する貨物の試験を行うことができるように設計したもの

ルペリクル（極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用に特に設計したものに限る。）を製造するための装置

ヲウエハーの処理のためのステップアンドリピート方式又はステップアンドスキャン方式の露光装置であって、光学方式のものであり、かつ、光源の波長が一九三ナノメートル以上のもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの（ヘ（一）２に該当するものを除く。）

（一）ナノメートルで表した光源の波長に〇・二五を乗じて得た数値を開口数の値で除して得た数値が四五以下のもの

（二）同一装置による重ね合わせ精度の最大値が二・四ナノメートル以下のもの

ワ極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用に調合したレジストを塗布し、成膜し、加熱し、又は現像するために設計した装置

カドライエッチング用に設計した装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）等方性ドライエッチング用に設計し、又は改造した装置であって、シリコンゲルマニウムのシリコンに対するエッチング選択性の比率が一〇〇倍以上であるもの

（二）異方性ドライエッチング用に設計し、又は改造した装置であって、次の全てに該当するもの（ア（一）又はサに該当するものを除く。）

１高周波のパルス出力の電源を一以上有するもの

２切替時間が五〇〇ミリ秒未満の高速ガス切替弁を一以上有するもの

３静電チャック（個別に温度を制御することができる領域を一〇以上有するものに限る。）を有するもの

ヨウェットエッチング用に設計した装置であって、シリコンゲルマニウムのシリコンに対するエッチング選択性の比率が一〇〇倍以上であるもの

タ異方性エッチング用に設計した装置であって、誘電体の材料に対して、エッチングの幅に対する深さの比率が三〇倍を超え、かつ、当該幅の寸法が一〇〇ナノメートル未満の形状を形成することができるもののうち、次の全てに該当するもの（カ（二）、ヨ、ア（一）又はサに該当するものを除く。）

（一）高周波のパルス出力の電源を一以上有するもの

（二）切替時間が三〇〇ミリ秒未満の高速ガス切替弁を一以上有するもの

レ半導体製造装置のうち、成膜装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）電気メッキ又は無電解メッキによりコバルトを成膜するように設計したもの

（二）化学的気相成長法によりコバルトを充塡するように設計したもの又は選択性のボトムアップ成膜を用いる化学的気相成長法によりタングステンを充塡するように設計したもの

（三）単一のチャンバー内での複数の工程によって金属のコンタクト層を成膜するように設計した装置であって、次の全てに該当するもの（（二）に該当するものを除く。）

１ウエハーの基板温度を一〇〇度超五〇〇度未満に維持しながら、有機金属化合物を用いてタングステンの層を成膜するもの

２水素、水素と窒素の混合物又はアンモニアを用いたプラズマにより表面処理を行う工程を有するもの

（四）半導体製造装置であって、複数のチャンバー又はステーション内での複数の工程によって成膜するように設計したもの（以下「特定半導体製造装置」という。）のうち、次に掲げる全ての工程により金属のコンタクト層を成膜するように設計したもの（（二）に該当するものを除く。）

１ウエハーの基板温度を一〇〇度超五〇〇度未満に維持しながら、水素（水素と窒素又はアンモニアとの混合物を含む。）を用いたプラズマにより表面処理を行う工程

２ウエハーの基板温度を四〇度超五〇〇度未満に維持しながら、酸素又はオゾンを用いたプラズマにより表面処理を行う工程

３ウエハーの基板温度を一〇〇度超五〇〇度未満に維持しながら、タングステンの層を成膜する工程

（五）特定半導体製造装置のうち、次に掲げる全ての工程により金属のコンタクト層を成膜するように設計したもの（（二）に該当するものを除く。）

１リモートプラズマ源及びイオンフィルターを用いて表面処理を行う工程

２有機金属化合物を用いて銅の上に選択的にコバルトの層を成膜する工程

（六）仕事関数金属（トランジスタの閾値電圧を制御するための材料をいう。以下同じ。）を原子層堆積法により成膜するように設計した装置であって、次の全てに該当するもの

１二以上の金属の供給源を有するもののうち、アルミニウムの前駆体用に設計した供給源を一以上有するもの

２三〇度超の温度で作動するように設計した前駆体容器を有するもの

３仕事関数金属を成膜するように設計した装置であって、次の全てに該当するもの

一炭化チタンアルミニウムを成膜するもの

二四・〇電子ボルト超の仕事関数を可能とするもの

（七）特定半導体製造装置のうち、次に掲げる全ての工程により金属のコンタクト層を成膜するように設計したもの（（二）に該当するものを除く。）

１ウエハーの基板温度を二〇度超五〇〇度未満に維持しながら、有機金属化合物を用いて窒化チタン又は炭化タングステンの層を成膜する工程

２ウエハーの基板温度を五〇〇度未満に維持しながら、〇・一三三三パスカル超一三・三三パスカル未満の圧力でスパッタリング法によりコバルトの層を成膜する工程

３ウエハーの基板温度を二〇度超五〇〇度未満に維持しながら、一三三・三パスカル超一三・三三キロパスカル未満の圧力で有機金属化合物を用いてコバルトの層を成膜する工程

（八）特定半導体製造装置のうち、次に掲げる全ての工程により銅配線を形成するように設計したもの（（二）に該当するものを除く。）

１ウエハーの基板温度を二〇度超五〇〇度未満に維持しながら、一三三・三パスカル超一三・三三キロパスカル未満の圧力で有機金属化合物を用いてコバルト又はルテニウムの層を成膜する工程

２ウエハーの基板温度を五〇〇度未満に維持しながら、〇・一三三三パスカル超一三・三三パスカル未満の圧力で物理的気相成長法を用いて銅の層を成膜する工程

（九）有機金属化合物を用いてバリヤー膜又はライナーを選択的に成膜するように設計した原子層堆積装置

（十）ウエハーの基板温度を五〇〇度未満に維持しながら、配線の全体又は絶縁膜と絶縁膜との隙間（幅が四〇ナノメートル未満のものに限る。）にタングステンを原子層堆積法により充塡するように設計したもの（（二）に該当するものを除く。）

ソ特定半導体製造装置のうち、金属の層を成膜するように設計した装置であって、次の全てに該当するもの（レ（二）に該当するものを除く。）

（一）ウエハーの基板温度を二〇度超五〇〇度未満に維持しながら、化学的気相成長法又は周期的堆積法により窒化タングステンの層を成膜するもの

（二）ウエハーの基板温度を二〇度超五〇〇度未満に維持しながら、一三三・三パスカル超五三・三三キロパスカル未満の圧力で化学的気相成長法又は周期的堆積法によりタングステンの層を成膜するもの

ツ特定半導体製造装置のうち、金属の層を成膜するように設計した装置であって、次のいずれかに該当するもの（レ（二）に該当するものを除く。）

（一）バリヤー膜を用いずに選択的にタングステンを成長させるもの

（二）バリヤー膜を用いずに選択的にモリブデンを成長させるもの

ネウエハーの基板温度を二〇度超五〇〇度未満に維持しながら、有機金属化合物を用いてルテニウムの層を成膜するように設計した装置（レ（八）に該当するものを除く。）

ナ空間的原子層堆積装置（回転軸をもつウエハーの支持台を有するものに限る。）であって、次のいずれかに該当するもの

（一）プラズマにより原子層を成膜するもの

（二）プラズマ源を有するもの

（三）プラズマ照射領域にプラズマを閉じ込めるためのプラズマシールド又は手段を有するもの

ラ成膜装置であって、次のいずれかに該当するもの（キ（三）に該当するものを除く。）

（一）ウエハーが設置された空間とは異なる空間で発生させたラジカルにより化学反応を促進させることで成膜するものであって、シリコン及び炭素を含み、かつ、比誘電率が五・三未満の膜を、幅が七〇ナノメートル未満であり、当該幅に対する深さの比率が五倍を超え、かつ、パターンのピッチが一〇〇ナノメートル未満である水平方向の開口部に成膜するように設計したもの

（二）四〇〇度超六五〇度未満の温度で成膜するもの（シリコン及び炭素を含み、かつ、比誘電率が五・三未満の膜を、幅が七〇ナノメートル未満であり、当該幅に対する深さの比率が五倍を超え、かつ、パターンのピッチが一〇〇ナノメートル未満である水平方向の開口部に成膜するように設計したものに限る。）であって、次の全てに該当するもの（（一）に該当するものを除く。）

１垂直方向に積み重なった複数のウエハーを保持するように設計されたボートを有するもの

２二以上の垂直方向に伸びるインジェクターを有するもの

３膜のシリコン原料及びプロペンが導入されるインジェクターと膜の窒素原料又は膜の酸素原料が導入されるインジェクターが異なるもの

ムマスク（極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用に特に設計したものに限る。）に使用するための多層の反射膜をイオンビーム蒸着又は物理的気相成長法により成膜するように設計した装置

ウシリコン又はシリコンゲルマニウムのエピタキシャル成長用に設計した装置であって、次の全てに該当するもの

（一）前処理としてウエハーの表面を清浄化するために設計したチャンバーを一以上有するもの

（二）エピタキシャル成長の動作温度が六八五度以下であるもの

ヰ厚さが二マイクロメートル超であり、かつ、密度が一立方センチメートル当たり一・七グラム超のカーボンハードマスクをプラズマを用いた化学的気相成長法により成膜するように設計した装置

ノタングステンの膜（ふっ素の原子数が一立方センチメートル当たり一〇の一九乗未満のものに限る。）を、プラズマを用いた原子層堆積法又は化学的気相成長法により成膜するように設計した装置（レ（二）に該当するものを除く。）

オ金属配線間の隙間（幅が二五ナノメートル未満であり、かつ、当該幅に対する深さの比率が一倍以上のものに限る。）に比誘電率が三・三未満の低誘電層を空隙が生じないようにプラズマを用いて成膜するように設計した装置（キ（三）に該当するものを除く。）

ク〇・〇一パスカル以下の真空状態において稼働するアニール装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）銅のリフローを実施することにより、銅配線の空隙又は継ぎ目を最小化し、又はなくすことができるもの

（二）コバルト又はタングステンの充塡金属のリフローを実施することにより、空隙又は継ぎ目を最小化し、又はなくすことができるもの

ヤ〇・〇一パスカル以下の真空状態において、高分子残さ及び銅酸化膜を除去し、かつ、銅の成膜を可能にするように設計した洗浄除去装置

マ複数のチャンバー又はステーションを有する洗浄除去装置であって、ドライプロセスにより表面の酸化物を除去する前処理を行うように設計したもの又はドライプロセスにより表面の汚染物を除去するように設計したもの

ケウエハーの表面改質の後に乾燥を行う工程を有する枚葉式のウェット洗浄装置

フ極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用のマスクブランク又は当該装置用のパターン付きのマスクを検査するように設計した装置

コプラズマドーピング用に設計されたイオン注入装置のうち、次の全てに該当するもの

（一）高周波の出力の電源を一以上有するもの

（二）パルス直流電源を一以上有するもの

（三）少なくともＮ型又はＰ型のいずれかの不純物の注入が可能なもの

エ深紫外液浸フォトリソグラフィ装置において、又は、深紫外液浸フォトリソグラフィ装置とともに、次のいずれかを実施するように設計又は改造した装置

（一）次の全てに該当するもの

１深紫外液浸フォトリソグラフィ装置のナノメートルで表した光源の波長に〇・二五を乗じて得た数値を開口数の値で除して得た数値を四五以下に減少させるもの

２深紫外液浸フォトリソグラフィ装置の重ね合わせ精度を二・四ナノメートル以下にするもの

（二）ヘ（一）２又はヲに該当する露光装置の任意の時間間隔における一時間当たりのウエハーを処理する枚数を平均で一パーセント以上増加させるように設計又は改造したもの

テインプリントリソグラフィ装置であって、四・〇ナノメートル以下の重ね合わせ精度を有するもの

アエッチング用に設計した装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）異方性ドライエッチング用に設計した装置であって、次の全てに該当するもの

１二以上の独立した高周波の電源を有するもの

２二以上の独立したガスの供給源を有するもの

３ウエハーの厚みの不均一性を補正するためのプロセス均一性調整機能を有するもの

４シリコン貫通電極の露出工程の終点検出の機能を有するもの

（二）異方性エッチング用に設計した装置であって、誘電体の材料に対して、エッチングの幅に対する深さの比率が高い形状を形成することができるもののうち、次の全てに該当するもの（カ（二）、ヨ、タ、ア（一）又はサに該当するものを除く。）

１エッチングの幅に対する深さの比率が三〇を超えるもの

２エッチングの幅の上面の寸法が四〇ナノメートル未満のもの

（三）シリコン貫通電極を作るためのエッチングに用いるために設計した装置であって、次の全てに該当するもの（カ、ヨ、タ、ア（一）又はア（二）に該当するものを除く。）

１シリコンのエッチング速度が一分につき七マイクロメートルを超えるもの

２ウエハー内のエッチングの深さの不均一性が二パーセント以下のもの

３シリコン貫通電極のアスペクト比が一〇以上のもの

サ極端紫外パターンシェイピング用に設計した装置（カ（一）、ヨ又はア（一）に該当するものを除く。）

キ半導体製造装置のうち、成膜装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）タングステンの膜を物理的気相成長法により成膜する装置であって、イオンフラックス誘導用の電磁石を有し、アスペクト比を三以上の形状に対して成膜するために特別に設計したもの

（二）モリブデン若しくはルテニウム又はモリブデンとルテニウムを組み合わせた膜を原子層堆積法により成膜するように設計又は改造した装置であって、次の全てに該当するもの（ネに該当するものを除く。）

１七五度を超える温度で動作するように設計又は改造した金属前駆体の供給源を有するもの

２四キロパスカル以上の圧力で水素を含む還元剤を使用するプロセスチャンバーを有するもの

（三）プラズマ又はラジカルを用いた化学的気相成長法により成膜するように設計した装置であって、基板の温度を五〇〇度未満に維持しながら、誘電体膜を単一の装置上で紫外線による硬化を行うもののうち、次の全てに該当する誘電体膜を成膜できるもの

１六ナノメートル超二〇ナノメートル未満の厚さの金属形状であって、二四ナノメートル未満のピッチを有し、かつ、一・八以上のアスペクト比を有するもの

２三・〇未満の比誘電率を有するもの

（四）炭素材料を化学的気相成長法により成膜するように設計した装置であって、密度が一立方センチメートル当たり一・六グラムを超える材料を用いたもの（ヰに該当するものを除く。）

（五）二種類以上の金属前駆体を直接液体注入する成膜装置であって、単一の成膜用のチャンバー内に、幅に対する深さの比率が五〇倍を超える形状に、比誘電率が三五を超える等方的誘電体膜を成膜するように設計又は改造したもの

ユ三〇〇ミリメートルウエハー用に設計したアニール装置であって、ウエハーを一、〇〇〇度を超える温度で、二ミリ秒未満の持続時間で加熱できるように設計したもの

メ超臨界二酸化炭素又は昇華乾燥を用いるように設計した枚葉式のウエハー洗浄装置

ミ直径三〇〇ミリメートル以上のウエハーを受け入れるように設計又は改造したパターン付きウエハー欠陥測定装置又はパターン付きウエハー欠陥検査装置であって、次の全てに該当するもの

（一）二一ナノメートル以下の大きさの欠陥を検出するように設計又は改造したもの

（二）次のいずれかを有するもの

１波長が四〇〇ナノメートル未満の光源

２分解能が一・六五ナノメートル以下の電子ビーム源

３ビーム冷陰極電界放出型の電子ビーム源

４二以上の電子ビーム源

シ計測装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）露光前にウエハー形状パラメータを測定し、開口数一・三超の液浸レンズを有する深紫外リソグラフィ装置又は極端紫外リソグラフィ装置の重ね合わせ誤差又はフォーカスを改善するために測定値を利用するように設計したスタンドアロン装置

（二）画像ベースの重ね合わせ誤差又は回折ベースの測定技術を用いて、製品ウエハー上のレジスト現像後又はエッチング後のフォーカス又は重ね合わせ誤差を測定するように設計した測定装置で、〇・五ナノメートル以下の重ね合わせ誤差測定精度を有するものであって次のいずれかを有するもの

１トラックへの組み込み用に設計されたもの

２高速波長切り替え機能を有するもの

十七の二半導体素子、集積回路又は半導体物質の製造用の装置又は試験装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ半導体素子又は集積回路の画像を取得するために設計した走査型電子顕微鏡であって、次の（一）から（七）までの全てに該当するもの（国際半導体製造装置材料協会が定めたＳＥＭＩ規格に準拠したウエハーの搬送・保管容器（二〇〇ミリメートル以上のフロント・オープニング・ユニファイド・ポッド（ＦＯＵＰ）を含む。）用にウエハー搬入部を設計したものを除く。）

（一）ステージの位置決め精度が三〇ナノメートル未満のもの

（二）レーザー干渉計によるステージ位置計測が可能なもの

（三）レーザー干渉計による長さスケール計測に基づく視野の位置校正が可能なもの

（四）画素数が二〇〇、〇〇〇、〇〇〇を超える画像の収集及び保存が可能なもの

（五）画像を取得する際の視野の重なりが垂直方向及び水平方向で五パーセント未満のもの

（六）画像を結合する際の視野の重なりが五〇ナノメートル未満のもの

（七）加速電圧が二一キロボルトを超えるもの

ロ極低温ウエハープローバ装置であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）零下二六八・六五度以下の温度で試験を行うことができるように設計したもの

（二）直径が一〇〇ミリメートル以上のウエハーに対応するように設計したもの

十七の三集積回路の製造用のマスク若しくはレチクル又はこれらの部分品若しくは附属品であって、次のいずれかに該当するもの

イマスク又はレチクル（ニに該当するものを除く。）であって、第一号から第八号の四までのいずれかに該当する集積回路の製造用のもの又はこれらの部分品若しくは附属品（ホに掲げるものを除く。）

ロ位相シフト膜を有する多層マスクであって、光源の波長が二四五ナノメートル未満のリソグラフィ装置に用いるために設計したもの（イに該当するもの及び第一号から第八号の四までのいずれにも該当しない記憶素子を製造するために設計したものを除く。）又はその部分品若しくは附属品

ハインプリントリソグラフィテンプレートであって、第一号から第八号の四までのいずれかに該当する集積回路の製造用のもの又はその部分品若しくは附属品

ニ極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用に特に設計したマスク又はレチクルであって、次号に該当するマスクブランクを有するもの又はこれらの部分品若しくは附属品（ホに掲げるものを除く。）

ホペリクルであって、極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用に特に設計したもの

十七の四マスクの製造に用いられる基材であって、モリブデン及びシリコンからなる多層膜の反射構造を有するマスクブランクのうち、次のイ及びロに該当するもの

イ極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用に特に設計したもの

ロ国際半導体製造装置材料協会が定めたＳＥＭＩ規格Ｐ三七の仕様に準拠したもの

十八基板であって、当該基板の上に次のいずれかに該当する物質の多層膜の結晶を有し、かつ、当該結晶がエピタキシャル成長されているもののうち、ヘテロエピタキシャル材料となるもの（次号に該当するもの又はニに該当する化合物（窒化ガリウム、窒化インジウムガリウム、窒化アルミニウムガリウム、窒化インジウムアルミニウム、窒化インジウムアルミニウムガリウム、リン化ガリウム、砒化ガリウム、砒化アルミニウムガリウム、リン化インジウム、リン化インジウムガリウム、リン化アルミニウムインジウム又はリン化インジウムガリウムアルミニウムに限る。）のＰ型エピタキシャル層を一層以上有するものであって、当該Ｐ型エピタキシャル層がＮ型層に挟まれていないものを除く。）

イシリコン

ロゲルマニウム

ハ炭化けい素

ニⅢ―Ⅴ族化合物（ガリウム又はインジウムの化合物に限る。）

ホ三酸化二ガリウム

ヘダイヤモンド

十八の二基板であって、当該基板の上に次のいずれかに該当する物質の一層以上からなる膜の結晶を有し、かつ、当該結晶がエピタキシャル成長されているもののうち、エピタキシャル材料となるもの

イシリコンであって、シリコン二八又はシリコン三〇以外のシリコンの同位体からなる不純物の割合が〇・〇八パーセント未満のもの

ロゲルマニウムであって、ゲルマニウム七〇、ゲルマニウム七二、ゲルマニウム七四又はゲルマニウム七六以外のゲルマニウムの同位体からなる不純物の割合が〇・〇八パーセント未満のもの

十九レジストであって、次のいずれかに該当するもの又はそれを塗布した基板

イ半導体用のリソグラフィに使用するレジストであって、次のいずれかに該当するもの

（一）一五ナノメートル以上一九三ナノメートル未満の波長の光で使用するように最適化したポジ型レジスト

（二）一ナノメートル超一五ナノメートル未満の波長の光で使用するように最適化したレジスト

ロ電子ビーム又はイオンビームで使用するために設計したレジストであって、〇・〇一マイクロクーロン毎平方ミリメートル以下の感度を有するもの

ハ削除

ニ表面イメージング技術用に最適化したレジスト

ホ第十七号ヘ（二）に該当するインプリントリソグラフィ装置に使用するように設計又は最適化したレジストであって、熱可塑性又は光硬化性のもの

二十有機金属化合物又は有機化合物であって、次のいずれかに該当するもの

イアルミニウム、ガリウム又はインジウムの有機金属化合物であって、純度が九九・九九九パーセントを超えるもの

ロ燐りん、砒ひ素又はアンチモンの有機化合物であって、純度が九九・九九九パーセントを超えるもの

二十一燐りん、砒ひ素又はアンチモンの水素化物であって、純度が九九・九九九パーセントを超えるもの（二〇モルパーセント以上の不活性ガス又は水素を含んだものを除く。）

二十二炭化けい素、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、窒化アルミニウムガリウム、三酸化二ガリウム又はダイヤモンドの半導体基板又はインゴット、ブール若しくはその他のプリフォームであって、二〇度の温度における電気抵抗率が一〇、〇〇〇オームセンチメートルを超えるもの

二十三多結晶基板又は多結晶セラミック基板であって、二〇度の温度における電気の抵抗率が一〇、〇〇〇オームセンチメートルを超えるもののうち、当該基板の表面にシリコン、炭化けい素、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、窒化アルミニウムガリウム、三酸化二ガリウム又はダイヤモンドの非エピタキシャル単結晶層を少なくとも一層以上有するもの

二十四前二号のいずれかに該当する基板であって、当該基板の上に炭化けい素、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、窒化アルミニウムガリウム、三酸化二ガリウム又はダイヤモンドのエピタキシャル層を少なくとも一層以上有するもの（第十八号に該当するものを除く。）

二十五シリコン又はゲルマニウムのふっ化物、水素化物又は塩化物であって、次のいずれかを含むもの

イシリコンであって、シリコン二八又はシリコン三〇以外のシリコンの同位体からなる不純物の割合が〇・〇八パーセント未満のもの

二十六シリコン、シリコン酸化物、ゲルマニウム又はゲルマニウム酸化物であって、次のいずれかを含むもの又はこれらの基板若しくはインゴット、ブール又はその他のプリフォーム

イシリコンであって、シリコン二八又はシリコン三〇以外のシリコンの同位体からなる不純物の割合が〇・〇八パーセント未満のもの

第七条輸出令別表第一の八の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一電子計算機若しくはその附属装置であって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの電子組立品若しくは部分品

イ八五度を超える温度又は零下四五度より低い温度で使用することができるように設計したもの

ロ放射線による影響を防止するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）全吸収線量がシリコン換算で五、〇〇〇グレイを超える放射線照射に耐えられるように設計したもの

（二）吸収線量がシリコン換算で一秒間に五、〇〇〇、〇〇〇グレイを超える放射線照射により障害を発生しないように設計したもの

（三）単事象障害によるエラー率が一日当たり一億分の一毎ビット未満となるように設計したもの

二削除

三デジタル電子計算機、その附属装置若しくはデジタル電子計算機の機能を向上するように設計した電子組立品であって、次のロ、ハ若しくはトのいずれかに該当するもの又はこれらの部分品（次のチからヌまでのいずれかに該当するもの及びこれらの部分品を除く。）

イ削除

ロデジタル電子計算機であって、加重最高性能が七〇実効テラ演算を超えるもの

ハデジタル電子計算機の機能を向上するように設計した電子組立品であって、計算要素を集合させることにより、加重最高性能が七〇実効テラ演算を超えるもの（最大性能が七〇実効テラ演算を超えないデジタル電子計算機又はそのファミリーの計算機用に特別に設計されたものを除く。）

ニ削除

ホ削除

ヘ削除

トデジタル電子計算機の演算処理の能力を向上させるために複数のデジタル電子計算機の間でデータを転送するように設計した、デジタル電子計算機の附属装置であって、転送されるデータの転送速度が二・〇ギガバイト毎秒を超えるもの

チ他の装置に内蔵されたものであって、当該装置を稼働するために必要不可欠であるもののうち、当該装置の主要な要素でないもの

リ他の装置に内蔵されたものであって、当該装置を稼働するために必要不可欠であるもののうち、その機能が当該装置の信号処理又は画像強調に限定されているもの

ヌ輸出令別表第一の九の項（一）から（三）まで又は（五）から（五の五）までに掲げる貨物に内蔵されたものであって、当該装置を稼働するために必要不可欠であるもの

四電子計算機であって、次のいずれかに該当するもの又はその附属装置、電子組立品若しくは部分品

イシストリックアレイコンピュータ

ロニューラルコンピュータ

ハ光コンピュータ

五電子計算機若しくはその附属装置又はこれらの部分品であって、侵入プログラムの作成、指揮統制又は配信を行うように特に設計又は改造されたもの

六量子計算機又はその電子組立品若しくは部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ量子計算機であって、次のいずれかに該当するもの

（一）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを三四個以上一〇〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇〇一以下であるもの

（二）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを一〇〇個以上二〇〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇一以下であるもの

（三）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを二〇〇個以上三五〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇二以下であるもの

（四）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを三五〇個以上五〇〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇三以下であるもの

（五）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを五〇〇個以上七〇〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇四以下であるもの

（六）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを七〇〇個以上一、一〇〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇五以下であるもの

（七）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを一、一〇〇個以上二、〇〇〇個未満有するもので、Ｃ―ＮＯＴエラーが〇・〇〇六以下であるもの

（八）完全に制御され、接続され、使用可能な物理量子ビットを二、〇〇〇個以上有するもの

ロ物理量子ビットのアレイを含む量子ビットデバイス又は量子ビット回路であって、イに該当する貨物のために特に設計したもの

ハ量子制御部品又は量子測定デバイスであって、イに該当する貨物のために特に設計したもの

七電子計算機又はその電子組立品若しくは部分品であって、前条第一号ヨに該当する集積回路を一つ以上有するもの

第八条輸出令別表第一の九の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一伝送通信装置、電子式交換装置、通信用の光ファイバー、フェーズドアレーアンテナ、監視用の方向探知機、無線通信傍受装置、通信妨害装置、無線通信傍受装置若しくは通信妨害装置の作動を監視する装置、電波その他の電磁波を発信することなく、電波その他の電磁波の干渉を観測することにより位置を探知することができる装置又はインターネットを利用する方法による通信の内容を監視するための装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ核爆発による過渡的な電子的効果又はパルスによる影響を防止することができるように設計したもの

ロガンマ線、中性子線又は重荷電粒子線による影響を防止することができるように設計したもの（宇宙空間用の飛しょう体に搭載するように設計し、又は改造したものを除く。）

ハ零下五五度より低い温度で使用することができるように設計したものであって、電子回路を有するもの（宇宙空間用の飛しょう体に搭載するように設計し、又は改造したものを除く。）

ニ一二四度を超える温度で使用することができるように設計したものであって、電子回路を有するもの（宇宙空間用の飛しょう体に搭載するように設計し、又は改造したものを除く。）

二伝送通信装置又はその部分品若しくは附属品であって、次のいずれかに該当するもの

イ無線送信機又は無線受信機であって、次のいずれかに該当するもの

（一）一・五メガヘルツ以上八七・五メガヘルツ以下の周波数範囲で使用することができるものであって、次の１及び２に該当するもの

１最適送信周波数及び一チャネル当たりの最適総合伝送速度を自動的に予測及び選択することができるもの

２次の一から四までのすべてに該当する線形増幅器を用いたもの

一二つ以上の信号を同時に増幅することができるもの

二一・五メガヘルツ以上三〇メガヘルツ未満の周波数範囲においては一キロワット以上の出力、三〇メガヘルツ以上八七・五メガヘルツ以下の周波数範囲においては二五〇ワット以上の出力特性を有するもの

三一オクターブ以上の瞬時帯域幅を有するもの

四信号波に対する高調波又は歪成分の比がマイナス八〇デシベル未満のもの

（二）スペクトル拡散（周波数ホッピングを含む。）技術を用いたものであって、次のいずれかに該当するもの（（三）に該当するもの又は出力が一・〇ワット以下のものを除く。）

１使用者によって拡散符号の書換えができるもの

２送信帯域幅が情報チャネルの帯域幅の一〇〇倍以上であり、かつ、五〇キロヘルツを超えるもの（民生用のセルラー無線通信に使用するように設計したもの又は商用民生通信の固定若しくは移動の衛星通信地球局に使用するように設計したものを除く。）

（三）ウルトラワイドバンド変調技術を用いたものであって、使用者によってチャンネル符号、スクランブル符号又はネットワーク認識符号の書換えができるもののうち、次のいずれかに該当するもの

１帯域幅が五〇〇メガヘルツを超えるもの

２瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が二〇パーセント以上のもの

ロデジタル信号処理機能を有するものであって、音声帯域圧縮技術を用いたもののうち、符号化速度が七〇〇ビット毎秒未満のもの

ハ水中で使用することができるように設計した通信装置であって、次のいずれかに該当するもの（有線で結ばれていないものに限る。）

（一）音波（超音波を含む。）を利用したものであって、搬送周波数が二〇キロヘルツ未満又は六〇キロヘルツを超えるもの

（二）電磁波を利用したものであって、搬送周波数が三〇キロヘルツ未満のもの

（三）電子的にビームを走査する機能を有するもの

（四）レーザー発振器又は発光ダイオードを使用したものであって、これらの出力波長が四〇〇ナノメートル超七〇〇ナノメートル未満であり、かつ、ローカルエリアネットワークにおいて用いられるもの

三削除

四通信用の光ファイバーであって、長さが五〇〇メートルを超えるもののうち、引張強さが二ギガニュートン毎平方メートル以上のもの

五電子的に走査が可能なフェーズドアレーアンテナであって、次のイからニまでのいずれかで使用することができるように設計したもの（国際民間航空機関の標準に準拠したマイクロ波着陸システム（ＭＬＳ）用のもの及びホからトまでのいずれかに該当するもののために特に設計したものを除く。）

イ周波数が三一・八ギガヘルツ超五七ギガヘルツ以下であって、実効輻ふく射電力（ＥＲＰ）が二〇ディービーエム（等価等方輻ふく射電力（ＥＩＲＰ）が二二・一五ディービーエム）以上のもの

ロ周波数が五七ギガヘルツ超六六ギガヘルツ以下であって、実効輻ふく射電力（ＥＲＰ）が二四ディービーエム（等価等方輻ふく射電力（ＥＩＲＰ）が二六・一五ディービーエム）以上のもの

ハ周波数が六六ギガヘルツ超九〇ギガヘルツ以下であって、実効輻ふく射電力（ＥＲＰ）が二〇ディービーエム（等価等方輻ふく射電力（ＥＩＲＰ）が二二・一五ディービーエム）以上のもの

ニ周波数が九〇ギガヘルツを超えるもの

ホ民生用のセルラー無線通信又は無線ローカルエリアネットワーク

ヘＩＥＥＥ八〇二・一五又は無線化された高精細度マルチメディアインターフェース

ト商用民生通信の固定又は移動の衛星通信地球局

五の二動作周波数が三〇メガヘルツを超える監視用の方向探知機であって、次のイ及びロに該当するもの又はその部分品

イ一〇メガヘルツ以上の瞬時帯域幅を有するもの

ロ一ミリ秒未満の信号時間で、連携していない無線送信機に対する方位線を見つけることができるもの

五の三無線通信傍受装置若しくは通信妨害装置若しくはこれらの作動を監視する装置であって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの部分品

イ無線通信により送信される音声又はデータを抽出するように設計された無線通信傍受装置

ロ無線通信により送信される移動体通信機器又は加入者を特定するために必要な識別情報、制御信号、他のメタデータを抽出するように設計された無線通信傍受装置

ハ移動体通信に意図的かつ選択的に干渉し、若しくはこれを意図的かつ選択的に阻害し、途絶させ、減退させ、若しくは誘引するように設計した通信妨害装置のうち、次のいずれかに該当するもの

（一）無線アクセスネットワークの機能を装うもの

（二）使用されている移動体通信プロトコルを探知し、かつ、これを利用するもの

（三）使用されている移動体通信プロトコルを利用するもの（（二）に該当するものを除く。）

ニイからハまでのいずれかに該当する装置の作動を監視するために設計された装置

五の四電波その他の電磁波を発信することなく、電波その他の電磁波の干渉を観測することにより位置を探知することができる装置であって、非レーダー発信機により周囲に発信された無線周波数放射の反射を測定することにより移動している目標物を探知し、及び追跡するように設計したもの

五の五インターネットを利用する方法による通信の内容を監視するための装置又はその部分品であって、次のイ及びロに該当するもの（マーケティング活動、ネットワークのサービス品質管理又は利用者の体感品質管理のために設計された装置を除く。）

イキャリアクラスのＩＰネットワーク上で次の（一）から（三）までの全ての機能を実現するもの

（一）アプリケーション層の分析

（二）選択されたメタデータ及びアプリケーションの内容の抽出

（三）抽出したデータの指標付け

ロ次の（一）及び（二）を実行するために設計したもの

（一）ハードセレクターに基づく検索

（二）特定の個人又は集団の関係の解析

六第二号イ（二）、第十四条第五号若しくは第五号の二に該当する貨物の設計用の装置、製造用の装置、測定装置若しくは試験装置又はこれらの部分品若しくは附属品

七前号に掲げるもののほか、第一号、第二号、第四号若しくは第五号から第五号の五までのいずれかに該当する貨物の設計用の装置、製造用の装置、測定装置若しくは試験装置（光ファイバーの試験装置及び測定装置を除く。）又はこれらの部分品若しくは附属品

八削除

八の二次のいずれかに該当する伝送通信装置若しくは電子式交換装置の設計用の装置又はその部分品若しくは附属品（第六号に該当するものを除く。）

イレーザー発振器を用いたものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）一、七五〇ナノメートルを超える波長のレーザー光を利用するもの

（二）削除

（三）削除

（四）アナログ伝送方式を用いたものであって、帯域幅が二・五ギガヘルツを超えるもの（テレビジョン放送（有線テレビジョン放送を含む。）用の装置を除く。）

ロ無線送信機又は無線受信機であって、一、〇二四値を超える直交振幅変調技術を用いたもの

九暗号装置又は暗号機能を実現するための部分品であって、次のイからホまでのいずれかに該当するもの（第三条第十九号ハ（二）２、本号ヘ、第十一号又は第十条第五号イに該当するものを除く。）

イ対称アルゴリズムを用いたものであって対称鍵の長さが五六ビットを超えるもの又は非対称アルゴリズム（アルゴリズムの安全性が次の（一）から（六）までのいずれかに該当する困難性に基づくものに限る。以下この号において同じ。）を用いたものであって、データの機密性確保のための暗号機能を有するように設計し、又は改造したもののうち、次の（七）から（十）までのいずれかに該当するもの（（十一）から（十八）までに該当するものを除く。）

（一）五一二ビットを超える整数の素因数分解

（二）有限体上の乗法群における五一二ビットを超える離散対数の計算

（三）（二）に規定するもの以外の群における一一二ビットを超える離散対数の計算

（四）格子に関連する最短ベクトル又は最近接ベクトル問題

（五）超特異楕円曲線間の同種写像の探索

（六）ランダムな符号の復号

（七）情報システムのセキュリティ管理機能を主たる機能として有するもの

（八）デジタル通信装置、有線若しくは無線回線網による電気通信回線を構築、管理若しくは運用するための装置又はこれらの部分品（（七）に該当するものを除く。）

（九）電子計算機若しくは情報の記録及び保存若しくは処理を主たる機能として有するもの又はこれらの部分品（（七）又は（八）に該当するものを除く。）

（十）次の１及び２に該当するもの（（七）から（九）までに該当するものを除く。）

１当該貨物の有する暗号機能が当該貨物の主たる機能以外の機能を支援するために用いられているもの

２当該貨物の有する暗号機能が当該貨物に組み込まれたもの（この号から第十二号までのいずれかに該当するものに限る。）又は第二十一条第一項第七号、第七号の二、第八号の二、第八号の三、第九号、第九号の二若しくは第十七号のいずれかに該当するプログラム（公開されているものを除く。）によって実現されているもの

（十一）暗号機能を有するスマートカード若しくはそのリーダライタであって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの部分品

１スマートカードであって、次のいずれかに該当するもの

一データ機密性確保のための暗号機能が、本号イに該当しない装置又はシステム（本号ヘのみに該当するものを除く。）に限定して使用されるスマートカードであって、かつ、他の用途のためにプログラムの書き換えができないもの

二個人情報（生存する個人に関する情報であって、当該情報に含まれる氏名、生年月日その他の記述等により特定個人を識別することができるもの（他の情報と容易に照合することができ、それにより特定の個人を識別することができることとなるもの（認証及び金銭債権に係るものその他これらに類するものを含む。）を含む。）をいう。（十一）において同じ。）又は団体情報（法人その他の団体の情報であって、認証及び金銭債権に係るものその他これらに類するものを含む。（十一）において同じ。）に係る情報が記録され、又は記録されるように設計したものであって、次のイからハまでの全てに該当するもの

イ暗号機能を専ら当該スマートカードに記録された個人情報又は団体情報の保護のためにのみ使用するもの

ロ専ら公共施設若しくは商業施設において使用し、又は当該スマートカードに記録された個人情報又は団体情報に係る情報の認証のために使用するもの

ハ当該スマートカードを使用する者が当該スマートカードの有するデータの機密性確保のための暗号機能を変更することができないもの

２リーダライタ（電気通信回線を通じて読み取り、又は記録するものを含む。）

（十二）民生用に設計した携帯用電話機端末（携帯回線網用の電話その他の無線回線網用の電話をいう。（十四）において同じ。）若しくは移動用電話機端末（専ら自動車その他の移動体において使用するように設計したものをいう。（十四）において同じ。）であって、次の１及び２に該当するもの（衛星電話を除く。）又はこれらの部分品

１他の電話機端末その他の装置（無線アクセスネットワーク装置を除く。）に暗号化されたデータを直接送信することができないもの

２無線ネットワーク制御装置、基地局制御装置その他の無線アクセスネットワーク装置を経由して暗号化されたデータを伝達することができないもの

（十三）コードレス電話機端末間での暗号化機能を有しないコードレス電話装置であって、コードレス電話機端末と家庭内基地局の間に無線中継器がない場合の一無線区間での電波到達最長実効距離が四〇〇メートル未満のもの又はその部分品

（十四）民生用に設計した携帯用電話機端末若しくは移動用電話機端末又は同等の無線機端末であって、特定の民生産業用途に用いるために設計を変更したもののうち、次の１及び２に該当するもの又はこれらの部分品

１設計を変更する前の端末が、本号ヘに該当するもの

２設計を変更する前の端末のデータの機密性確保のための暗号機能が、設計の変更による影響を受けないものであって、公開された又は商業用の暗号標準のみを用いたもの

（十五）民生用に設計した移動体通信用の無線アクセスネットワーク装置であって、暗号機能が使用者によって変更できず、使用に際して供給者又は販売店の技術支援が不要であるように設計したもののうち、無線周波数の出力が〇・一ワット（二〇ディービーエム）以下で、かつ、同時に接続できるデバイスが三二以下のもの又はその部分品

（十六）ルーター、スイッチ、ゲートウェイ若しくはリレーであって、データの機密性確保のための暗号機能が装置の操作、管理若しくは保守に関するものに限定されており、かつ、公開された若しくは商業用の暗号標準のみを用いたもの又はこれらの部分品

（十七）汎用目的の計算機能を有する装置若しくはサーバーであって、データの機密性確保のための暗号機能が次の１及び２に該当するもの又はこれらの部分品

１公開された又は商業用の暗号標準のみを用いたもの

２次のいずれかに該当するもの

一ヘに該当する中央演算処理装置において実現されているもの

二オペレーティングシステム（第二十一条第一項第七号、第七号の二、第八号の二、第八号の三、第九号、第九号の二又は第十七号のいずれかに該当するものを除く。）において実現されているもの

三装置の操作、管理又は保守に限定されているもの

（十八）ネットワークに接続する民生産業用途のために設計したものであって、次の１及び２に該当するもの又はこれらの部分品

１次のいずれかに該当するもの

一ネットワークに接続可能な端末であって、次のいずれかに該当するもの

イデータの機密性確保のための暗号機能が、任意でないデータの秘匿又は操作、管理若しくは保守に限定されているもの

ロネットワークに接続する特定の民生産業用途に限定されているもの

二ネットワーク装置であって、次のイ及びロに該当するもの

イ一に該当する端末と通信するために設計したもの

ロデータの機密性確保のための暗号機能が、一に該当する端末のネットワークに接続する民生産業用途の支援に限定されているもの、又は当該ネットワーク装置若しくは本号イ（十八）に該当する他の貨物の操作、管理若しくは保守に限定されているもの

２データの機密性確保のための暗号機能が、公開された又は商業用の暗号標準のみを用いたものであって、当該貨物の有する暗号機能が当該貨物を使用する者によって変更できないもの

ロ暗号機能有効化の手段を用いることによってのみ、ある貨物又はあるプログラムの暗号機能を有効化するものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）ある貨物（本号から第十二号までに該当しないものに限る。）を本号イに該当するもの（本号ヘに該当しないものに限る。）に変換し、又はあるプログラム（第二十一条第一項第七号、第七号の二、第八号の二、第八号の三、第九号、第九号の二又は第十七号に該当しないものに限る。）を第二十一条第一項第九号（第八条第九号イ又はハからホまでに係るものに限る。）に該当するものに変換するように設計し、若しくは改造したもの

（二）本号から第十二号までのいずれかに該当するもの又は第二十一条第一項第七号、第七号の二、第八号の二、第八号の三、第九号若しくは第九号の二に該当するプログラムに本号イに該当する貨物の有する機能と同等の機能を追加することができるように設計し、若しくは改造したもの

ハ量子暗号を用いるように設計し、又は改造したもの

ニ次のいずれかに該当するウルトラワイドバンド変調技術のためのチャンネル符号、スクランブル符号又はネットワーク認識符号の生成に暗号処理技術を用いるように設計し、又は改造したもの

（一）帯域幅が五〇〇メガヘルツを超えるもの

（二）瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が二〇パーセント以上のもの

ホスペクトル拡散のための拡散符号の生成（周波数ホッピングのためのホッピング符号の生成を含む。）に暗号処理技術を用いるように設計し、又は改造したもの（ニに該当するものを除く。）

ヘ次の（一）又は（二）のいずれかに該当するもの（該当することが貨物の製造者、販売者又は輸出者によって書面により確認できるものに限る。）

（一）次の１から３までの全てに該当するもの

１購入に際して何らの制限を受けず、店頭において又は郵便、民間事業者による信書の送達に関する法律（平成十四年法律第九十九号）第二条第六項に規定する一般信書便事業者若しくは同条第九項に規定する特定信書便事業者による同条第二項に規定する信書便若しくは公衆電気通信回線に接続した入出力装置（電話を含む。）による注文により、販売店の在庫から販売されるもの

２当該貨物の有する暗号機能を当該貨物を使用する者によって変更できないもの

３当該貨物の有する暗号機能の使用に際して当該貨物の供給者又は販売店による技術支援の必要がないもの

（二）（一）に該当する貨物のために設計された部分品であって、次の１から３までの全てに該当するもの

１情報システムのセキュリティ管理機能が当該部分品の主たる機能ではないもの

２（一）に該当する貨物の有する暗号機能を変更できず、かつ、当該貨物に新しい暗号機能を追加できないもの

３当該部分品の機能が固定されており、特定の使用者のために設計し、又は改造していないもの

十暗号装置又は暗号機能を実現するための部分品以外の情報システムのセキュリティ管理機能を実現する装置又は部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ盗聴の検知機能を有する通信ケーブルシステム又はその部分品（盗聴の検知機能を実現するために設計し、又は改造した部分品に限る。）

ロ情報を伝達する信号の漏えいを防止するように設計し、若しくは改造した装置（電磁波の放射による人体への危害若しくは他の装置の誤動作の誘発を防止することを目的として信号の漏えいを防止するように設計し、若しくは改造したもの又は電磁波妨害防止標準に基づいて信号の漏えいを防止するように設計し、若しくは改造したものを除く。）又はその部分品（情報を伝達する信号の漏えいを防止する機能を実現するために設計し、又は改造した部分品に限る。）

十一暗号装置又は暗号機能を実現するための部分品のうち、情報システムのセキュリティ管理機能を無効化し、機能を低下させ又は迂回させるものであって、次のいずれかに該当するもの

イ暗号解析を行うように設計し、又は改造したもの（リバースエンジニアリングの方法により暗号解析機能を実行するように設計し、又は改造したものを含む。）

ロ電子計算機の端末又は通信端末から生データを抽出するもの（イ又は第七条第五号に該当するものを除く。）であって、その機能実現のために電子計算機の端末又は通信端末の認証又は承認制御を迂回することができるように設計したもの（電子計算機の端末又は通信端末の設計又は製造のために特に設計したシステム又は装置、若しくは次の（一）から（四）に掲げるものを除く。）

（一）デバッガ、ハイパーバイザー

（二）論理データ抽出に限定されたもの

（三）チップオフやＪＴＡＧを使用してデータ抽出するもの

（四）ジェイルブレーキング又はルート化用に特別に設計されたもの

十二第九号から前号までのいずれかに該当する貨物若しくは本号に該当する測定装置の設計用の装置若しくは製造用の装置又は第九号から前号までのいずれかに該当する貨物が有する情報システムのセキュリティ管理機能（第二十一条第一項第七号、第七号の二、第八号の二、第八号の三、第九号又は第九号の二のいずれかのプログラムが有する機能を含む。）を評価し、若しくは検証するための測定装置

第九条輸出令別表第一の一〇の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一音波（超音波を含む。以下この条において同じ。）を利用した水中探知装置、船舶用の位置決定装置又はこれらの部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ送信機能を有するもの又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの（垂直方向にのみ使用することができるものであって、プラスマイナス二〇度を超える走査機能を有していないもののうち、水深の測定、水中にある物体若しくは水底に埋もれた物体までの距離の測定又は魚群探知のみを行うもの及び音響用のビーコンであって、緊急用のもの又は水中の任意の位置に設置することができるように設計したピンガーを除く。）

（一）音波を利用した海底測深機であって、次のいずれかに該当するもの

１海底の地形図を作成するための船舶用測深機であって、次の一から四までの全てに該当するもの

一垂直方向から二〇度を超える角度での測定ができるように設計したもの

二水面下六〇〇メートルを超える海底の地形を測定することができるように設計したもの

三走査を行うときの分解能が二未満のもの

四次のイからハまでに掲げる全てについて自動的に補正を行い、測深の精度を向上させるもの

イセンサーの動作

ロ走査に用いる音波の状態

ハセンサーが感知する音波の速度

２海底の地形図を作成するための水中測深機であって、次のいずれかに該当するもの

一三〇〇メートルを超える水深で作動するように設計又は改造したものであって、走査効率が三、八〇〇メートル毎秒を超えるもの

二次のイからニまでの全てに該当するもの（一に該当するものを除く。）

イ一〇〇メートルを超える水深で作動するように設計又は改造したもの

ロ垂直方向から二〇度を超える角度での測定ができるように設計したもの

ハ動作周波数が三五〇キロヘルツ未満のもの又はセンサーから二〇〇メートルを超える海底の地形を測定することができるように設計したもの

ニ次の（一）から（三）までの全てについて自動的に補正を行い、測深の精度を向上させるもの

（一）センサーの動作

（二）走査に用いる音波の状態

（三）センサーが感知する音波の速度

３海底の画像を作成するために設計したサイドスキャンソナー又は合成開口ソナーであって、次の一から三までの全てに該当するもの又はこれらの装置に使用するように設計した送受信音響アレー

一五〇〇メートルを超える水深で作動するように設計又は改造したもの

二進行方向の分解能が一五センチメートル未満の状態で作動することができる最大レンジで作動しているときの走査範囲が一秒あたり五七〇平方メートルを超えるもの

三進行方向に直交する方向の分解能が一五センチメートル未満のもの

（二）水中探知装置であって、次のいずれかに該当するもの

１送信周波数が五キロヘルツ未満のもの又は動作周波数が五キロヘルツ以上一〇キロヘルツ未満であって、音圧レベル（音源から一メートルの距離で音圧が一マイクロパスカルである場合を〇デシベルとしたときのものをいう。以下同じ。）が二二四デシベルを超えるもの

２動作周波数が一〇キロヘルツ以上二四キロヘルツ以下であって、音圧レベルが二二四デシベルを超えるもの

３動作周波数が二四キロヘルツ超三〇キロヘルツ未満であって、音圧レベルが二三五デシベルを超えるもの

４動作周波数が一〇〇キロヘルツ未満であって、ビーム幅が一度未満の音響ビームを成形することができるもの

５一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

一水圧を補正することができる送受波器を有するもの

二チタン酸ジルコン酸鉛からなる送受信用素子以外の送受信用素子を組み込んだ送受波器を有するもの

６計測距離が五、一二〇メートルを超えるように設計したもの

（三）水中探知装置であって、送信周波数が一〇キロヘルツ未満のもの（（二）に該当するものを除く。）

（四）音響送波器（送受波器を含む。）であって、個々に動作する圧電性物質からなる素子又は磁歪性、電歪性、電気力若しくは液圧力を有する素子を組み込んだもののうち、次のいずれかに該当するもの（音波の発生装置であって、電子式のもの（垂直方向にのみ使用することができるものに限る。）又は機械式若しくは化学式のものを除く。）

１一〇キロヘルツ未満の周波数で使用することができるものであって、次のいずれかに該当するもの

一デューティサイクルが一〇〇パーセントの状態で連続運転するように設計されていないものであって、自由音場における送波器の実効音響中心から基準距離にある主軸上の音圧レベルが次に掲げる式により算定した値を超えるもの

二デューティサイクルが一〇〇パーセントの状態で連続運転するように設計されたものであって、連続する自由音場における送波器の実効音響中心から基準距離にある主軸上の音圧レベルが次に掲げる式により算定した値を超えるもの

２削除

３サイドローブに対するメインローブの出力比が二二デシベルを超えるもの

（五）船舶用の位置決定装置であって、次の１及び２に該当するもの又はその部分品

１船舶の位置を決定するために受信する信号を発信する装置（２において「応答機」という。）を探知することができる距離が一、〇〇〇メートルを超えるもの

２応答機から一、〇〇〇メートル以内の距離において計測し、決定した位置の誤差の二乗平均平方根が一〇メートル未満のもの

（六）水中において活動する人の位置を自動的に探知するために設計したソナーであって、次の１から３までの全てに該当するもののうち、音響アレーの送受信のために設計されたもの

１対象を探知することができる距離が五三〇メートルを超えるもの

２当該装置から五三〇メートル以内の距離にいる人を探知した場合の位置の誤差の二乗平均平方根が一五メートル未満のもの

３送信パルスの帯域幅が三キロヘルツを超えるもの

ロ受信機能を有するもの又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ハイドロホンであって、加速度による影響を補正する機能を有していないもののうち、その音圧感度（一ボルト毎マイクロパスカルである場合を〇デシベルとしたときのものをいう。）がマイナス一八〇デシベルを超えるもの（水上船舶に取り付けるように設計された魚群探知機を除く。）

（二）えい航ハイドロホンアレー用に設計した信号処理装置であって、使用者によるプログラムの書換えが可能なもののうち、時間領域又は周波数領域の処理又は相関（スペクトル分析、デジタルフィルタリング又はビーム成形を含む。）を行うことができるもの（実時間処理できるものを除く。）

（三）えい航ハイドロホンアレー用に設計したヘディングセンサーであって、精度の絶対値が〇・五度未満のもののうち、三五メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの又は三五メートルを超える水深で使用することができるように調整若しくは取り外しをすることができる水深測定装置を有するもの

（四）海底用又は港湾ケーブル用のハイドロホンアレーであって、（六）の水中音波センサーを組み込んだもの

（五）海底用又は港湾用ケーブルシステム用に設計した信号処理装置であって、使用者によるプログラムの書換えが可能なもののうち、時間領域又は周波数領域の処理又は相関（スペクトル分析、デジタルフィルタリング又はビーム成形を含む。）を行うことができるもの（実時間処理できるものを除く。）

（六）加速度計を有する水中音波センサーであって、次の全てに該当するもの（粒子速度センサー又は地中聴音器を除く。）

１三軸の加速度計により構成されるもの

２総加速度感度が四八デシベルを超えるもの

３三五メートルを超える水深で動作するように設計されたもの

４操作周波数が二〇キロヘルツ未満のもの

二船舶用の対地速力の測定装置（音波を利用したものに限る。）であって、次のイ又はロのいずれかに該当するもの（水上船に取り付けるように特に設計したもの又は次のハに掲げるものを除く。）

イ相関速度ログを用いたものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）水底から五〇〇メートルを超える位置で測定を行うことができるように設計したもの

（二）速力の精度が速力の一パーセント未満のもの

ロドップラー速度ログを用いたものであって、速力の精度が速力の一パーセント未満のもの

ハ音響測深器であって、水深の測定、水底若しくは水中に存在する物体までの距離の測定又は魚群探知以外の用に供することができないもの

三光検出器又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ宇宙用に設計した固体の光検出器であって、次のいずれかに該当するもの

（一）一〇ナノメートル超三〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有し、かつ、四〇〇ナノメートルを超える波長における感度が最大感度の〇・一パーセント未満のもの

（二）九〇〇ナノメートル超一、二〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有し、かつ、応答時定数が九五ナノ秒以下のもの

（三）フォーカルプレーンアレーであって、素子の数が二、〇四八を超え、かつ、三〇〇ナノメートル超九〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

ロイメージ増強管であって、次の（一）又は（二）のいずれかに該当するもの（イメージングを行わない光電子増倍管であって、真空中に、単一の金属陽極又は金属陽極であって隣接する二の陽極の中心間の距離が五〇〇マイクロメートルを超えるもののみからなる電子検出素子を有するものを除く。）

（一）イメージ増強管であって、次の１から３のすべてに該当するもの

１四〇〇ナノメートル超一、〇五〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

２電子イメージの増倍機能を有するものであって、次のいずれかを用いたもの

一マイクロチャンネルプレートであって、隣接する二のチャンネルの中心間の距離が一二マイクロメートル以下のもの

二電子検出素子であって、マイクロチャンネルプレート以外の方法で電荷増倍を行うように特に設計又は改造したもののうち、隣接する二の画素の中心間の距離が五〇〇マイクロメートル以下のもの

３次のいずれかに該当する光電陰極を有するもの

一主材料にマルチアルカリを用いたものであって、ルーメン感度が七〇〇マイクロアンペア毎ルーメンを超えるもの

二主材料に砒化ガリウム又は砒化インジウムガリウムを用いたもの

三主材料にⅢ―Ⅴ族化合物半導体（砒化ガリウム又は砒化インジウムガリウムを除く。）を用いたものであって最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

（二）イメージ増強管であって、次の１から３のすべてに該当するもの

１一、〇五〇ナノメートル超一、八〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

２電子イメージの増倍機能を有するものであって、次のいずれかを用いたもの

一マイクロチャンネルプレートであって、隣接する二のチャンネルの中心間の距離が一二マイクロメートル以下のもの

３主材料にⅢ―Ⅴ族化合物半導体（砒化ガリウム又は砒化インジウムガリウムを含む。）を用いた光電陰極又は遷移電子光電陰極であって、最大放射感度が一五ミリアンペア毎ワットを超えるものを有するもの

ハイメージ増強管又はその部分品であって、次の（一）又は（二）のいずれかに該当するもの（イメージングを行わない光電子増倍管であって、真空中に、単一の金属陽極又は金属陽極であって隣接する二の陽極の中心間の距離が五〇〇マイクロメートルを超えるもののみからなる電子検出素子を有するものを除く。）

（一）イメージ増強管であって、次の１から３までのすべてに該当するもの

１四〇〇ナノメートル超一、〇五〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

２電子イメージの増倍機能を有するものであって、次のいずれかを用いたもの

一マイクロチャンネルプレートであって、隣接する二のチャンネルの中心間の距離が一二マイクロメートル以下のもの

３主材料にマルチアルカリを用いた光電陰極を有するものであって、当該光電陰極のルーメン感度が三五〇マイクロアンペア毎ルーメン超七〇〇マイクロアンペア毎ルーメン以下のもの

（二）イメージ増強管の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

１マイクロチャンネルプレートであって、隣接する二のチャンネルの中心間の距離が一二マイクロメートル以下のもの

２電子検出素子であって、マイクロチャンネルプレート以外の方法で電荷増倍を行うように特に設計又は改造したもののうち、隣接する二の画素の中心間の距離が五〇〇マイクロメートル以下のもの

３主材料にⅢ―Ⅴ族化合物半導体（砒化ガリウム又は砒化インジウムガリウムを含む。）を用いた光電陰極（四〇〇ナノメートル超一、〇五〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有する光電陰極であって最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワット以下のもの又は一、〇五〇ナノメートル超一、八〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有する光電陰極であって最大放射感度が一五ミリアンペア毎ワット以下のものを除く。）又は遷移電子光電陰極

ニ宇宙用に設計していないフォーカルプレーンアレーであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）次のいずれかに該当するもの

１熱型でないフォーカルプレーンアレーであって、次のいずれかに該当するもの

一要素素子が九〇〇ナノメートル超一、〇五〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するものであって、次のいずれかに該当するもの

イ応答時定数が〇・五ナノ秒未満のもの

ロ電荷増倍を行うように特に設計又は改造したものであって、最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

二要素素子が一、〇五〇ナノメートル超一、二〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するものであって、次のいずれかに該当するもの

イ応答時定数が九五ナノ秒以下のもの

ロ電荷増倍を行うように特に設計又は改造したものであって、最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

三要素素子を二次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が一、二〇〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

四要素素子を一次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が一、二〇〇ナノメートル超三、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもののうち、次のいずれかに該当するもの（ゲルマニウムのみを用いた要素素子を有するものであって、要素素子の数が三二以下のものを除く。）

イ要素素子の配列方向を基準とする要素素子の縦横比が三・八未満のもの

ロ同一要素素子内に時間遅延及び積分機能を有するもの

五要素素子を一次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が三、〇〇〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

六要素素子が四〇〇ナノメートル超九〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するものであって、次のイ及びロに該当するもの

イ電荷増倍を行うように特に設計又は改造したものであって、七六〇ナノメートルを超える波長における最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

ロ要素素子の数が三二を超えるもの

２要素素子を二次元に配列した赤外線熱型フォーカルプレーンアレーであって、それぞれの要素素子がフィルターのない状態において八、〇〇〇ナノメートル以上一四、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で感度を有するもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１白金シリコンを用いたものであって、要素素子の数が一〇、〇〇〇未満のもの

２イリジウムシリコンを用いたもの

３アンチモン化インジウム又はセレン化鉛を用いたものであって、要素素子の数が二五六未満のもの

４砒ひ化インジウムを用いたもの

５硫化鉛を用いたもの

６砒ひ化インジウムガリウムを用いたもの

７テルル化水銀カドミウムを用いたスキャニングアレーであって、次のいずれかに該当するもの

一同一検出要素素子内に時間遅延及び積分機能を有していないものであって、要素素子の数が三〇以下のもの

二同一検出要素素子内に時間遅延及び積分機能を有するものであって、要素素子の数が二以下のもの

８テルル化水銀カドミウムを用いたステアリングアレーであって、要素素子の数が二五六未満のもの

９砒ひ化ガリウム又は砒ひ化アルミニウムガリウムを用いた量子井戸フォーカルプレーンアレーであって、要素素子の数が二五六未満のもの

１０熱型フォーカルプレーンアレーであって、要素素子の数が八、〇〇〇未満のもの

１１要素素子を一次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が四〇〇ナノメートル超九〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもののうち、要素素子の数が四、〇九六以下のもの

１２要素素子を二次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が四〇〇ナノメートル超九〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもののうち、一方向の最大の要素素子の数が四、〇九六以下であり、かつ、すべての要素素子の数が二五〇、〇〇〇以下のもの

ホ宇宙用に設計していないフォーカルプレーンアレーであって、次のいずれかに該当するもののうち、ニに該当するもの以外のもの

（一）熱型でないフォーカルプレーンアレーであって、次のいずれかに該当するもの

１要素素子が九〇〇ナノメートル超一、〇五〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するものであって、次のいずれかに該当するもの

一応答時定数が〇・五ナノ秒未満のもの

二電荷増倍を行うように特に設計又は改造したものであって、最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

２要素素子が一、〇五〇ナノメートル超一、二〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するものであって、次のいずれかに該当するもの

一応答時定数が九五ナノ秒以下のもの

二電荷増倍を行うように特に設計又は改造したものであって、最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

３要素素子を二次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が一、二〇〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

４要素素子を一次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が一、二〇〇ナノメートル超三、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもののうち、次のいずれかに該当するもの（ゲルマニウムのみを用いた要素素子を有するものであって、要素素子の数が三二以下のものを除く。）

一要素素子の配列方向を基準とする要素素子の縦横比が三・八未満のもの

二同一要素素子内に時間遅延及び積分機能を有するもの

５要素素子を一次元に配列したものであって、それぞれの要素素子が三、〇〇〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

６要素素子が四〇〇ナノメートル超九〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するものであって、次の一及び二に該当するもの

一電荷増倍を行うように特に設計又は改造したものであって、七六〇ナノメートルを超える波長における最大放射感度が一〇ミリアンペア毎ワットを超えるもの

二要素素子の数が三二を超えるもの

（二）要素素子を二次元に配列した赤外線熱型フォーカルプレーンアレーであって、それぞれの要素素子がフィルターのない状態において八、〇〇〇ナノメートル以上一四、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で感度を有するもの

四リモートセンシング用に設計したモノスペクトルイメージセンサー又はマルチスペクトルイメージセンサーであって、次のいずれかに該当するもの

イ瞬時視野が二〇〇マイクロラジアン未満のもの

ロ四〇〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、イメージデータをデジタル形式で出力するもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）宇宙用に設計したもの

（二）航空機搭載用に設計したものであって、シリコンを用いた検出器以外の検出器を用いたもののうち、瞬時視野が二・五ミリラジアン未満のもの

五光検出器を用いた装置であって、直視型のもののうち、次のいずれかに該当するもの（医療用装置であって、主材料に砒ひ化ガリウム又は砒ひ化インジウムガリウムを用いた光電陰極を組み込んでいないものを除く。）

イ次のいずれかに該当する光検出器を組み込んだもの

（一）第三号ロに該当するイメージ増強管

（二）第三号ホに該当するフォーカルプレーンアレー

（三）第三号イ又は第十四条第七号に該当する固体の光検出器

ロ次のいずれかに該当する光検出器を組み込んだもの（イに該当するものを除く。）

（一）第三号ハ（一）に該当するイメージ増強管

（二）第三号ニに該当するフォーカルプレーンアレー

六光検出器用の冷却器であって、次のいずれかに該当するもの

イ宇宙用に設計したもの

ロ宇宙用に設計していないものであって、冷却のための接触面の温度が零下五五度未満のもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）循環式のものであって、平均故障寿命又は平均故障間隔が二、五〇〇時間を超えるもの

（二）ジュールトムソン自己制御冷却器であって、直径が八ミリメートル未満のもの

七センサー用の光ファイバーであって、音響、温度、加速度、電磁気又は放射線の測定用のもの

七の二第三号ニ又はホのいずれかに該当するフォーカルプレーンアレーのために特に設計した読み出し集積回路（民生用の自動車のために特に設計したものを除く。）

八電子式のカメラ又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ次のいずれかに該当するもの

（一）第三号ロに該当するイメージ増強管を組み込んだものであって、次のいずれかに該当するもの

１水中用に設計していないもの

２水中用に設計したもの

（二）第三号ホに該当するフォーカルプレーンアレーを組み込んだものであって、次のいずれかに該当するもの

１水中用に設計していないもの

２水中用に設計したもの

（三）第三号イ又は第十四条第七号に該当する固体の光検出器を組み込んだもの

ロ次のいずれかに該当するもの（イに該当するものを除く。）

（一）削除

（二）削除

（三）電子式のストリークカメラであって、時間分解能が五〇ナノ秒未満のもの

（四）電子式のフレーミングカメラであって、撮影速度が一秒につき一、〇〇〇、〇〇〇こまを超えるもの

（五）電子式のカメラであって、次の１及び２に該当するもの

１シャッター速度が一マイクロ秒未満のもの

２信号の読出速度が一秒につき一二五こまを超えるもの

（六）モジュール式の構造を有する電子式のカメラ（（三）から（五）までに該当するものに限る。）のために特に設計したプラグインユニットであって、（三）から（五）までのいずれかに該当するものが有する機能に到達させることができるもの

（七）固体撮像素子を組み込んだビデオカメラであって、一〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもののうち、次の１から３までのいずれかに該当し、かつ、４から６までのいずれかに該当するもの

１白黒撮影用のものであって、固体撮像素子の有効画素数が四、〇〇〇、〇〇〇を超えるもの

２三の固体撮像素子を組み込んだカラー撮影用のものであって、それぞれの固体撮像素子の有効画素数が四、〇〇〇、〇〇〇を超えるもの

３一の固体撮像素子を組み込んだカラー撮影用のものであって、当該固体撮像素子の有効画素数が一二、〇〇〇、〇〇〇を超えるもの

４第九号イに該当する反射鏡を有するもの

５第九号ニに該当する光学器械又は光学部品の制御装置を有するもの

６カメラの被写体追跡データを内部処理して画像情報に注記できる機能を有するもの

（八）スキャニングカメラ又はスキャニングカメラ装置であって、次の１から３までのすべてに該当するもの

１一〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

２画素が線状に並んだ固体撮像素子を組み込んだものであって、当該画素の数が、八、一九二を超えるもの

３一方向に機械的に走査を行うもの

（九）第三号ハ（一）に該当するイメージ増強管を組み込んだもの

（十）第三号ニに該当するフォーカルプレーンアレーを組み込んだもの

九光学器械又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ反射鏡であって、次のいずれかに該当するもの

（一）鏡面の形状を変化させることができるものであって、能動開口の口径が一〇ミリメートルを超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの又はその部分品

１機器の共振周波数が七五〇ヘルツ以上であって、二〇〇個を超える作動器を有するもの

２レーザー損傷閾値が次のいずれかに該当するもの

一持続波レーザー発振器を使用した場合に一平方センチメートル当たり一キロワットを超えるもの

二パルス繰り返し周波数が二〇ヘルツで、パルス幅が二〇ナノ秒のレーザーパルスを使用した場合に一平方センチメートル当たり二ジュールを超えるもの

（二）複合材料又は発泡体の部分を有していないものであって、鏡面の一平方メートル当たりの質量が三〇キログラム未満のもののうち、全重量が一〇キログラムを超えるもの（太陽放射を追従するために地上に設置されたヘリオスタット用に設計した反射鏡を除く。）

（三）複合材料又は発泡体の部分を有するものであって、鏡面の一平方メートル当たりの質量が三〇キログラム未満のもののうち、全重量が二キログラムを超えるもの（太陽放射を追従するために地上に設置されたヘリオスタット用に設計した反射鏡を除く。）

（四）ニ（二）１に該当する光の走査用の反射鏡ステージのために設計された反射鏡であって、平面度が六三・三ナノメートル以下のもののうち、次のいずれかに該当するもの

１直径又は長軸の長さが一〇〇ミリメートル以上のもの

２次の一及び二に該当するもの

一直径又は長軸の長さが五〇ミリメートル超一〇〇ミリメートル未満のもの

二レーザー損傷閾値が次のいずれかに該当するもの

イ持続波レーザー発振器を使用した場合に一平方センチメートル当たり一〇キロワットを超えるもの

ロパルス繰り返し周波数が二〇ヘルツで、パルス幅が二〇ナノ秒のレーザーパルスを使用した場合に一平方センチメートル当たり二〇ジュールを超えるもの

ロセレン化亜鉛又は硫化亜鉛からなる光学部品であって、三、〇〇〇ナノメートル超二五、〇〇〇ナノメートル以下の波長の光を透過するもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）体積が一〇〇立方センチメートルを超えるもの

（二）直径又は長軸の長さが八〇ミリメートルを超え、かつ、厚さが二〇ミリメートルを超えるもの

ハ宇宙用に設計した光学部品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）全体が稠ちゆう密な状態である場合に比し二〇パーセント未満の重量に軽量化したもの

（二）基板（コーティングしたもの又は保護膜を有するものを含む。）

（三）宇宙空間で組み立てるように設計した反射鏡であって、組み立てた場合の受光面積の和が口径一メートル以上の反射鏡と同等になるものの部分品

（四）すべての方向について線膨張係数が温度一度当たり一〇〇万分の五以下の複合材料からなるもの

ニ光学器械又は光学部品の制御装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）ハ（一）又は（三）に該当する宇宙用に設計した光学部品の表面形状又は方向を維持するように設計したもの

（二）光の走査、追尾若しくは安定化又は光共振器の調整を行うものであって、次のいずれかに該当するもの

１直径又は長軸の長さが五〇ミリメートルを超える反射鏡を支えるように設計された光の走査用の反射鏡ステージであって、次の一から三までの全てに該当するもの又はそのために設計した電子制御装置

一最大移動角距離がプラスマイナス二六ミリラジアン以上のもの

二機器の共振周波数が五〇〇ヘルツ以上のもの

三角精度が一〇マイクロラジアン以下のもの

２光共振器の調整を行う装置であって、一〇〇ヘルツ以上の帯域幅及び一〇マイクロラジアン以下の精度を有するもの

（三）最大振れ角が五度を超え、かつ、一〇〇ヘルツ以上の帯域幅で使用することができるジンバルであって、次のいずれかに該当するもの

１直径又は長軸の長さが〇・一五メートル超一メートル以下のものであって、角加速度が二ラジアン毎秒毎秒を超え、かつ、精度が二〇〇マイクロラジアン以下のもの

２直径又は長軸の長さが一メートルを超えるものであって、角加速度が〇・五ラジアン毎秒毎秒を超え、かつ、精度が二〇〇マイクロラジアン以下のもの

九の二非球面光学素子であって、次のイからハまでのすべてに該当するもの

イ光学的開口の最大寸法が四〇〇ミリメートルを超えるもの

ロ一ミリメートル以上のサンプリング長さにおける表面粗さの二乗平均が一ナノメートル未満のもの

ハ摂氏二五度の温度における線膨張係数の絶対値が一〇〇万分の三未満のもの

九の三波面測定装置であって、次のイ及びロに該当するもの

イフレーム速度が一キロヘルツ以上のもの

ロ波面精度が設計された波長において二〇分の一以下のもの

十レーザー発振器又はその部分品、附属品若しくは試験装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ波長可変レーザー発振器以外の持続波レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの（ニに該当するものを除く。）

（一）一五〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、定格出力が一ワットを超えるもの

（二）一五〇ナノメートル以上五一〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、定格出力が三〇ワットを超えるもの（アルゴンレーザー発振器であって定格出力が五〇ワット以下のものを除く。）

（三）五一〇ナノメートル超五四〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、定格出力が五〇ワットを超えるもの

２多重横モードで発振するものであって、定格出力が一五〇ワットを超えるもの

（四）五四〇ナノメートル超八〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、定格出力が三〇ワットを超えるもの

（五）八〇〇ナノメートル超九七五ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、定格出力が五〇ワットを超えるもの

２多重横モードで発振するものであって、定格出力が八〇ワットを超えるもの

（六）九七五ナノメートル超一、一五〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一定格出力が一、〇〇〇ワットを超えるもの

二次のイ及びロに該当するもの

イ定格出力が五〇〇ワットを超えるもの

ロスペクトルバンド幅が四〇ギガヘルツ未満のもの

２多重横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの（産業用レーザー発振器であって、定格出力が二キロワット超六キロワット以下のもののうち、総重量が一、二〇〇キログラムを超えるものを除く。）

一ウォールプラグ効率が一八パーセントを超えるものであって、定格出力が一、〇〇〇ワットを超えるもの

二定格出力が二キロワットを超えるもの

（七）一、一五〇ナノメートル超一、五五五ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、定格出力が五〇ワットを超えるもの

２多重横モードで発振するものであって、定格出力が八〇ワットを超えるもの

（八）一、五五五ナノメートル超一、八五〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、定格出力が一ワットを超えるもの

（九）一、八五〇ナノメートル超二、一〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、定格出力が一ワットを超えるもの

２多重横モードで発振するものであって、定格出力が一二〇ワットを超えるもの

（十）二、一〇〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、定格出力が一ワットを超えるもの

ロ波長可変レーザー発振器以外のパルスレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの（ニに該当するものを除く。）

（一）一五〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり五〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの

２平均出力が一ワットを超えるもの

（二）一五〇ナノメートル以上五一〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が三〇ワットを超えるもの

２平均出力が三〇ワットを超えるもの（アルゴンレーザー発振器であって、平均出力が五〇ワット以下のものを除く。）

（三）五一〇ナノメートル超五四〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五〇ワットを超えるもの

二平均出力が八〇ワットを超えるもの

２多重横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一五〇ワットを超えるもの

二平均出力が一五〇ワットを超えるもの

（四）五四〇ナノメートル超八〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一ピコ秒未満のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり〇・〇〇五ジュールを超えるパルスを発振するものであって、ピーク出力が五ギガワットを超えるもの

二平均出力が二〇ワットを超えるもの

２一ピコ秒以上のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振するものであって、ピーク出力が三〇ワットを超えるもの

二平均出力が三〇ワットを超えるもの

（五）八〇〇ナノメートル超九七五ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一ピコ秒未満のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり〇・〇〇五ジュールを超えるパルスを発振するものであって、ピーク出力が五ギガワットを超えるもの

二単一横モードで発振するものであって、平均出力が二〇ワットを超えるもの

２一ピコ秒以上一マイクロ秒以下のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり〇・五ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五〇ワットを超えるもの

二単一横モードで発振するものであって、平均出力が二〇ワットを超えるもの

三多重横モードで発振するものであって、平均出力が五〇ワットを超えるもの

３一マイクロ秒を超えるパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり二ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五〇ワットを超えるもの

二単一横モードで発振するものであって、平均出力が五〇ワットを超えるもの

三多重横モードで発振するものであって、平均出力が八〇ワットを超えるもの

（六）九七五ナノメートル超一、一五〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一ピコ秒未満のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一ピーク出力が一パルス当たり二ギガワットを超えるもの

二平均出力が三〇ワットを超えるもの

三一パルス当たり〇・〇〇二ジュールを超えるパルスを発振するもの

２一ピコ秒以上一ナノ秒未満のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一ピーク出力が一パルス当たり五ギガワットを超えるもの

二平均出力が五〇ワットを超えるもの

三一パルス当たり〇・一ジュールを超えるパルスを発振するもの

３一ナノ秒以上一マイクロ秒以下のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一単一横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

イピーク出力が一〇〇メガワットを超えるもの

ロ平均出力が二〇ワットを超えるものであって、最大パルス繰り返し周波数が一キロヘルツ以下になるように設計したもの

ハウォールプラグ効率が一二パーセントを超えるものであって、平均出力が一〇〇ワットを超えるもののうち、パルス繰り返し周波数が一キロヘルツを超えて作動するもの

ニ平均出力が一五〇ワットを超えるものであって、パルス繰り返し周波数が一キロヘルツを超えて作動するもの

ホ一パルス当たり二ジュールを超えるパルスを発振するもの

二多重横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

イピーク出力が四〇〇メガワットを超えるもの

ロウォールプラグ効率が一八パーセントを超えるものであって、平均出力が五〇〇ワットを超えるもの

ハ平均出力が二キロワットを超えるもの

ニ一パルス当たり四ジュールを超えるパルスを発振するもの

４一マイクロ秒を超えるパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一単一横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

イピーク出力が五〇〇キロワットを超えるもの

ロウォールプラグ効率が一二パーセントを超えるものであって、平均出力が一〇〇ワットを超えるもの

ハ平均出力が一五〇ワットを超えるもの

二多重横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

イピーク出力が一メガワットを超えるもの

ロウォールプラグ効率が一八パーセントを超えるものであって、平均出力が五〇〇ワットを超えるもの

ハ平均出力が二キロワットを超えるもの

（七）一、一五〇ナノメートル超一、五五五ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一マイクロ秒以下のパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり〇・五ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五〇ワットを超えるもの

二単一横モードで発振するものであって、平均出力が二〇ワットを超えるもの

三多重横モードで発振するものであって、平均出力が五〇ワットを超えるもの

２一マイクロ秒を超えるパルス幅のパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり二ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五〇ワットを超えるもの

二単一横モードで発振するものであって、平均出力が五〇ワットを超えるもの

三多重横モードで発振するものであって、平均出力が八〇ワットを超えるもの

（八）一、五五五ナノメートル超一、八五〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり一〇〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの

２平均出力が一ワットを超えるもの

（九）一、八五〇ナノメートル超二、一〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一〇〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの

二平均出力が一ワットを超えるもの

２多重横モードで発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一〇〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一〇キロワットを超えるもの

二平均出力が一二〇ワットを超えるもの

（十）二、一〇〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり一〇〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの

２平均出力が一ワットを超えるもの

ハ波長可変レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの（ニに該当するものを除く。）

（一）六〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり五〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの

２平均出力又は持続波の定格出力が一ワットを超えるもの

（二）六〇〇ナノメートル以上一、四〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり一ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が二〇ワットを超えるもの

２平均出力又は持続波の定格出力が二〇ワットを超えるもの

（三）一、四〇〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり五〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの

２平均出力又は持続波の定格出力が一ワットを超えるもの

ニレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

（一）半導体レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

１単一横モードで発振する単一の半導体レーザーダイオードであって、次のいずれかに該当するもの

一一、五七〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二・〇ワットを超えるもの

二一、五七〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が五〇〇ミリワットを超えるもの

２多重横モードで発振する単一の半導体レーザーダイオードであって、次のいずれかに該当するもの

一七八〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二五ワットを超えるもの

二七八〇ナノメートル以上一、一〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が三〇ワットを超えるもの

三一、一〇〇ナノメートル以上一、四〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二五ワットを超えるもの

四一、四〇〇ナノメートル以上一、九〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二・五ワットを超えるもの

五一、九〇〇ナノメートル以上の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が一ワットを超えるもの

３単一の半導体レーザーバーであって、次のいずれかに該当するもの（４又は５の半導体レーザースタックアレーに組み込まれたものを除く。）

一一、四〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が一〇〇ワットを超えるもの

二一、四〇〇ナノメートル以上一、九〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二五ワットを超えるもの

三一、九〇〇ナノメートル以上の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が一〇ワットを超えるもの

４半導体レーザースタックアレーであって、次のいずれかに該当するもの

一一、四〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

イ総平均出力又は持続波の総定格出力が三キロワット未満であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が五〇〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの

ロ総平均出力又は持続波の総定格出力が三キロワット以上五キロワット以下であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が三五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの

ハ総平均出力又は持続波の総定格出力が五キロワットを超えるもの

ニピークパルス出力密度が二、五〇〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの（エピタキシャル成長によって形成されたモノリシック型のものを除く。）

ホ空間的に干渉し得る波の総平均出力又は持続波の総定格出力が一五〇ワットを超えるもの

二一、四〇〇ナノメートル以上一、九〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

イ総平均出力又は持続波の総定格出力が二五〇ワット未満であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が一五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの

ロ総平均出力又は持続波の総定格出力が二五〇ワット以上五〇〇ワット以下であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの

ハ総平均出力又は持続波の総定格出力が五〇〇ワットを超えるもの

ニピークパルス出力密度が五〇〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの（エピタキシャル成長によって形成されたモノリシック型のものを除く。）

ホ空間的に干渉し得る波の総平均出力又は持続波の総定格出力が一五ワットを超えるもの

三一、九〇〇ナノメートル以上の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

イ平均出力密度又は持続波の定格出力密度が五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの

ロ総平均出力又は持続波の総定格出力が十ワットを超えるもの

ハ空間的に干渉し得る波の総平均出力又は持続波の総定格出力が一・五ワットを超えるもの

四３に該当する半導体レーザーバーを一以上含むもの

５半導体レーザースタックアレーであって、他の半導体レーザースタックアレーと結合するように設計したもののうち、他の半導体レーザースタックアレーと電子回路及び冷却ユニットを共有するための接合部を有するもの（４に該当するものを除く。）

（二）一酸化炭素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

１一パルス当たり二ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五キロワットを超えるもの

２平均出力又は持続波の定格出力が五キロワットを超えるもの

（三）二酸化炭素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

１持続波の定格出力が一五キロワットを超えるもの

２一〇マイクロ秒を超えるパルス幅でパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一平均出力が一〇キロワットを超えるもの

二ピーク出力が一〇〇キロワットを超えるもの

３一〇マイクロ秒以下のパルス幅でパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり五ジュールを超えるパルスを発振するもの

二平均出力が二・五キロワットを超えるもの

（四）エキシマレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

１一五〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり五〇ミリジュールを超えるパルスを発振するもの

二平均出力が一ワットを超えるもの

２一五〇ナノメートル超一九〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振するもの

二平均出力が一二〇ワットを超えるもの

３一九〇ナノメートル超三六〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一〇ジュールを超えるパルスを発振するもの

二平均出力が五〇〇ワットを超えるもの

４三六〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

一一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振するもの

二平均出力が三〇ワットを超えるもの

（五）化学レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

１ふっ化水素レーザー発振器

２ふっ化重水素レーザー発振器

３トランスファーレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

一酸素からの励起移動によって励起するように設計したよう素レーザー発振器

二ふっ化重水素からの励起移動によって励起するように設計した二酸化炭素レーザー発振器

（六）非繰返しパルスを発振するネオジムガラスレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの

１一マイクロ秒以下のパルス幅でパルスを発振し、かつ、一パルス当たり五〇ジュールを超えるパルスを発振するもの

２一マイクロ秒を超えるパルス幅でパルスを発振し、かつ、一パルス当たり一〇〇ジュールを超えるパルスを発振するもの

ホレーザー発振器の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）反射鏡であって、ヒートパイプを用いることにより又は鏡面下一ミリメートル未満の位置に流体を流すことにより冷却するように設計したもの

（二）反射鏡又は透過性を有する（部分的に透過する場合を含む。）光学部品若しくは電気光学部品であって、イからニまでのいずれかに該当するレーザー発振器に使用するように設計したもの（融着型テーパーファイバーコンバイナー及び多層膜誘電体グレーティングを除く。）

（三）ファイバーレーザー発振器の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

１入出力ともにマルチモードファイバーを用いた融着型テーパーファイバーコンバイナーであって、次の一及び二に該当するもの

一一、〇〇〇ワットを超える総定格平均出力又は持続波の総定格出力（シングルモードコアを通って伝送される出力を除く。）における挿入損失が〇・三デシベル以下に維持されるもの

二入力ファイバーの数が三以上のもの

２入力にシングルモードファイバーを、出力にマルチモードファイバーを用いた融着型テーパーファイバーコンバイナーであって、次の全てに該当するもの

一四、六〇〇ワットを超える総定格平均出力又は持続波の総定格出力における挿入損失が〇・五デシベル未満に維持されるもの

二入力ファイバーの数が三以上のもの

三次のいずれかに該当するもの

イ入力ファイバーの数が五以下であって、出力におけるビームパラメータ積が一・五ミリメートル・ミリラジアン以下のもの

ロ入力ファイバーの数が五を超えるものであって、出力におけるビームパラメータ積が二・五ミリメートル・ミリラジアン以下のもの

３多層膜誘電体グレーティングであって、次の一及び二に該当するもの

一五以上のファイバーレーザー発振器のビームをスペクトル的又はコヒーレント的に結合するために設計されたもの

二持続波レーザー損傷閾値が一平方センチメートル当たり一〇キロワット以上のもの

ヘレーザー発振器の試験装置又は附属品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）削除

（二）レーザー発振器の試験装置であって、超高出力レーザー発振器（五〇ミリ秒間に一キロジュールを超えるエネルギーを出力できる又は平均出力若しくは持続波の定格出力が二〇キロワットを超えるレーザー発振器をいう。以下同じ。）のビームの振れ角の誤差を測定するために特に設計したもののうち、精度が一〇マイクロラジアン以下のもの

（三）フェーズドアレー型の超高出力レーザー発振器の附属品であって、コヒーレント光を合成するために特に設計したもののうち、次のいずれかに該当するもの

１一マイクロメートル超の波長における精度が〇・一マイクロメートル以下のもの

２一マイクロメートル以下の波長における精度が使用する波長の一〇分の一以下のもの

（四）プロジェクションテレスコープであって、超高出力レーザー発振器と組み合わせて使用するように設計したもの

十の二レーザー光を利用して音声を探知する装置であって、次のイからホまでの全てに該当するもの

イレーザー発振器の持続波の定格出力が二〇ミリワット以上のもの

ロレーザー発振器の周波数の安定度が一〇メガヘルツ以下のもの

ハレーザー発振器の波長範囲が一、〇〇〇ナノメートル以上二、〇〇〇ナノメートル以下のもの

ニ光学系の分解能が一ナノメートル未満のもの

ホ信号対雑音比が一、〇〇〇以上のもの

十一磁力計、磁場勾こう配計（医療用に設計したものを除く。）若しくは水中電場センサー（漁業用を除く。）若しくはこれらの校正装置又はこれらの部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ超電導の技術を利用した磁力計であって、次のいずれかに該当するもの

（一）静止状態で操作するように設計したものであって、運動中に生じるノイズを減少させるために設計した装置を有しないもののうち、一ヘルツの周波数における感度（帯域周波数の平方根当たりで表した実効値をいう。以下同じ。）が五〇フェムトテスラ以下のもの

（二）運動中に生じるノイズを減少させるために設計した装置を有するものであって、一ヘルツの周波数において運動中の感度が二〇ピコテスラ未満のもの

ロ光ポンプ又は核磁気共鳴の技術を利用した磁力計であって、一ヘルツの周波数における感度が二ピコテスラ未満のもの

ハ光ポンプ又は核磁気共鳴の技術を利用した磁力計であって、一ヘルツの周波数における感度が二ピコテスラ以上二〇ピコテスラ未満のもの

ニ三軸フラックスゲートの技術を利用した磁力計であって、一ヘルツの周波数における感度が一〇ピコテスラ以下のもの

ホ誘導コイルを用いた磁力計であって、次のいずれかに該当するもの

（一）一ヘルツ未満の周波数における感度が〇・〇五ナノテスラ未満のもの

（二）一ヘルツ以上一〇ヘルツ以下の周波数における感度が〇・〇〇一ナノテスラ未満のもの

（三）一〇ヘルツを超える周波数における感度が〇・〇〇〇一ナノテスラ未満のもの

ヘ光ファイバーを用いた磁力計であって、感度が一ナノテスラ未満のもの

ト水中電場センサーであって、一ヘルツの周波数で測定した場合の感度が八ナノボルト毎メートル未満のもの

チ磁場勾配計であって、イからヘまでのいずれかに該当する磁力計を二以上用いたもの

リ光ファイバーを用いた磁場勾配計であって、イントリンシック型のもの（一軸当たりの検出素子の数が一のものをいう。以下この号において同じ。）のうち、感度が〇・三ナノテスラ毎メートル未満のもの

ヌ光ファイバーを用いていない磁場勾配計であって、イントリンシック型のもののうち、感度が〇・〇一五ナノテスラ毎メートル未満のもの

ル磁力計、磁場勾こう配計又は水中電場センサーの校正装置であって、イからヌまでのいずれかに該当する貨物の有する機能と同等以上の機能を有する磁力計、磁場勾こう配計又は水中電場センサー用に設計したもの（ヲに該当するものを除く。）

ヲ磁力計、磁場勾こう配計又は水中電場センサーの校正装置であって、次のいずれかに該当する貨物用に設計したもの

（一）ハに該当する磁力計であって、感度が二ピコテスラ未満を実現する光ポンプ又は核磁気共鳴の技術を利用したもの

（二）トに該当する水中電場センサー

（三）チからヌまでのいずれかに該当する磁場勾こう配計であって、感度が三ピコテスラ毎メートル未満を実現するもの

ワ磁場勾配計であって、イ又はロに該当する磁力計を用いたもの

十一の二水中において磁場又は電場を検知する装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ第十一号イ又はロに該当する磁力計を組み込んだもの

ロ第十一号ハからヘまでのいずれかに該当する磁力計又は同号トに該当する水中電場センサーを組み込んだもの

十二重力計であって、次のいずれかに該当するもの又は重力勾こう配計

イ地上用に設計した重力計であって、静止状態において重力を測定する場合の精度が一〇マイクロガル未満のもの（ウォルドン型のものを除く。）

ロ移動体搭載用に設計した重力計であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）静止状態において重力を測定する場合の精度が〇・七ミリガル未満のもの

（二）変動状態において重力を測定する場合の精度が〇・七ミリガル未満で、かつ、測定所要時間が二分未満のもの

十三レーダーであって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品（二次監視レーダー、民生用自動車レーダー、気象レーダー、国際民間航空機関の定める標準に準拠した精測進入レーダー及びこれらの部分品（レーダーの部分品であって航空管制用の表示装置を含む。）を除く。）

イ四〇ギガヘルツ以上二三〇ギガヘルツ以下の周波数範囲で使用することができるレーダーであって、次のいずれかに該当するもの

（一）平均出力が一〇〇ミリワットを超えるもの

（二）距離の位置精度が一メートル以下であって、方位角の位置精度が〇・二度以下のもの

ロ同調可能な帯域の幅が中心周波数の一二・五パーセントを超えるもの

ハ三以上の搬送周波数を同時に使用することができるもの

ニ合成開口レーダー、逆合成開口レーダー又は側方監視レーダーとして使用することができるもの

ホ電子的に走査が可能なアレーアンテナを組み込んだもの

ヘ目標の高度を測定することができるもの

ト気球又は航空機に搭載するように設計したものであって、移動する目標を検出するためにドップラー効果を利用するもの

チ次のいずれかの技術を利用するもの

（一）スペクトル拡散

（二）周波数アジリティー

リ地上用のものであって、計測距離が一八五キロメートルを超えるもの（漁場監視レーダー、航空管制用に設計した地上レーダー及び気象用気球追尾レーダーを除く。）

ヌレーザーレーダー（ライダーを含む。）であって、次のいずれかに該当するもの

（一）宇宙用に設計したもの

（二）ヘテロダイン検波又はホモダイン検波の技術を利用し、かつ、角度分解能が二〇マイクロラジアン未満のもの

（三）航空機を使用して測深による沿岸測量を実施するように設計したものであって、国際水路機関が定める水路測量に係る基準に照らして十分な精度を有し、かつ、四〇〇ナノメートル超六〇〇ナノメートル以下の波長範囲で使用する一以上のレーザー発振器を用いるもの

ル次のいずれかに該当するパルス圧縮技術を利用するもの

（一）パルス圧縮比が一五〇を超えるもの

（二）圧縮パルス幅が二〇〇ナノ秒未満のもの（航海用二次元レーダー又は船舶航行サービス用二次元レーダーであって、次の１から５までの全てに該当するものを除く。）

１パルス圧縮比が一五〇以下のもの

２圧縮パルス幅が三〇ナノ秒を超えるもの

３単一の回転する機械式走査アンテナを有するもの

４ピーク出力が二五〇ワット以下のもの

５周波数ホッピング能力を有していないもの

ヲ次のいずれかに該当するデータ処理技術を利用するもの（船舶航行サービスのために設計された装置又はその部分品を除く。）

（一）自動目標追尾の技術であって、次回のアンテナビームが通過する時点より先の時点における目標の未来位置を予測することができるもの（航空管制用又は航海用レーダーの衝突防止機能を除く。）

（二）削除

（三）第十三号ヘ又はリに該当する一のレーダーを単独で使用するときよりも性能が向上するよう、互いの距離が一、五〇〇メートル以上離れている二以上のレーダーから得られる目標データの重ね合わせ、相関又はデータフュージョンを六秒以内で行う技術

（四）第十三号ヘ又はリに該当する一のレーダーを単独で使用するときよりも性能が向上するよう、車両、船舶、航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体に搭載したレーダーを含む二以上のレーダーから得られる目標データの重ね合わせ、相関又はデータフュージョンを六秒以内で行う技術

十三の二第三号イ（二）又は（三）のいずれかに該当する光センサーの製造用に特別に設計されたマスク又はレチクル

十四光学の測定装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ光の反射率の測定装置（反射率の絶対値を測定するものに限る。）であって、その精度が〇・一パーセント以下のもの

ロレンズ又は反射鏡の表面の形状の測定装置（非接触型のものに限る。）であって、光散乱の計測以外の方法を用いるもののうち、開口の直径が一〇センチメートルを超え、かつ、平面でない面形状を二ナノメートル以下の精度で測定するように設計したもの

十五地上用の重力計（静止状態において重力を測定する場合の精度が〇・一ミリガル未満のものに限る。）の製造用の装置又は校正装置

十六光検出器その他の光学部品の材料となる物質又はレーザー発振器用の結晶であって、次のいずれかに該当するもの

イテルルであって、純度が九九・九九九五パーセント以上のもの

ロ次のいずれかに該当するものの単結晶又はエピタキシャル成長結晶を有するウエハー

（一）テルル化亜鉛のテルル化カドミウム及びテルル化亜鉛に対するモル比が六パーセント未満のテルル化亜鉛カドミウム

（二）テルル化カドミウム

（三）テルル化水銀カドミウム

ハセレン化亜鉛又は硫化亜鉛からなる基板材料であって、化学的気相成長法により製造したもののうち、次のいずれかに該当するもの

（一）体積が一〇〇立方センチメートルを超えるもの

（二）直径が八〇ミリメートルを超え、かつ、厚さが二〇ミリメートル以上のもの

ニ電気光学材料又は非線形光学材料であって、次のいずれかに該当するもの

（一）砒ひ素酸チタニルカリウム

（二）セレン化ガリウム銀

（三）セレン化タリウム砒ひ素

（四）リン化亜鉛ゲルマニウム

（五）セレン化ガリウム

ホ非線形光学材料であって、次のいずれかに該当するもの（ニに該当するものを除く。）

（一）動的な三次の非線形感受率が一〇〇万分の一平方メートル毎ボルト毎ボルト以上であって、応答時間が一ミリ秒未満のもの

（二）メートル毎ボルトで表した二次の非線形感受率が一兆分の三三以上のもの

ヘベリリウム上にベリリウムを堆積した材料又は炭化けい素からなる基板材料であって、直径又は長軸の長さが三〇〇ミリメートルを超えるもの

ト光学ガラスであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの

（一）水酸化物イオンの含有量が全重量の〇・〇〇〇五パーセント未満のもの

（二）金属不純物の含有量が全重量の〇・〇〇〇一パーセント未満のもの

（三）屈折率の変動が一〇〇万分の五未満のもの

チ人工ダイヤモンドであって、二〇〇ナノメートル超一四、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲における吸収係数が一センチメートル当たり一〇万分の一未満のもの

リレーザー発振器用の人工の結晶であって、未完成のもののうち、チタンを添加したサファイア

ヌ希土類元素を添加したダブルクラッドファイバーであって、次のいずれかに該当するもの

（一）レーザー波長の公称値が九七五ナノメートル以上一、一五〇ナノメートル以下であって、次の１及び２に該当するもの（インナーガラスクラッドの直径が一五〇マイクロメートル超三〇〇マイクロメートル以下のものを除く。）

１コアの直径の平均値が二五マイクロメートル以上のもの

２コアの開口数が〇・〇六五未満のもの

（二）レーザー波長の公称値が一、五三〇ナノメートルを超えるものであって、次の１及び２に該当するもの

１コアの直径の平均値が二〇マイクロメートル以上のもの

２コアの開口数が〇・一未満のもの

第十条輸出令別表第一の一一の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一加速度計であって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品

イ直線加速度計であって、次のいずれかに該当するもの

（一）一四七・一五メートル毎秒毎秒以下の直線加速度で使用することができるように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

１バイアスの安定性（校正後のものをいう。以下この条において同じ。）が一年間につき〇・〇〇一二八メートル毎秒毎秒未満のもの

２スケールファクターの安定性が一年間につき〇・〇一三パーセント未満のもの

（二）一四七・一五メートル毎秒毎秒超九八一メートル毎秒毎秒以下の直線加速度で使用することができるように設計したものであって、次の１及び２に該当するもの

１バイアスの再現性が一年間につき〇・〇一二二六二五メートル毎秒毎秒未満のもの

２スケールファクターの再現性が一年間につき〇・一二五パーセント未満のもの

（三）慣性航法装置又は慣性誘導装置に使用するように設計したものであって、九八一メートル毎秒毎秒を超える直線加速度で使用することができるように設計したもの

ロ角加速度計又は回転加速度計であって、九八一メートル毎秒毎秒を超える直線加速度で使用することができるように設計したもの

二ジャイロスコープ若しくは角速度センサーであって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品

イ九八一メートル毎秒毎秒以下の直線加速度で使用することができるように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）角速度の測定範囲が一秒当たり五〇〇度未満のものであって、次のいずれかに該当するもの

１バイアスの安定性が、九・八一メートル毎秒毎秒の状態で一月間測定した場合に、一時間あたり〇・五度未満のもの

２角度のランダムウォークを時間の平方根当たりで表した実効値が〇・〇〇三五度以下のもの（スピニングマスジャイロを除く。）

（二）角速度の測定範囲が一秒当たり五〇〇度以上のものであって、次のいずれかに該当するもの

１バイアスの安定性が、九・八一メートル毎秒毎秒の状態で三分間測定した場合に、一時間につき四度未満のもの

２角度のランダムウォークを時間の平方根当たりで表した実効値が〇・一度以下のもの（スピニングマスジャイロを除く。）

ロ九八一メートル毎秒毎秒を超える直線加速度で使用することができるように設計したもの

三慣性航法装置その他の慣性力を利用する装置（姿勢方位基準装置、ジャイロコンパス、慣性計測装置及び慣性基準装置を含む。）であって、次のいずれかに該当するもの（本邦又は別表第二に掲げる地域のいずれかの政府機関が民間航空機用であることを証明したものを除く。）

イ航空機用、陸上車両用又は船舶用に設計されたものであって、位置参照情報によらずに位置情報を提供するもののうち、ノーマルアライメント後の精度が次のいずれかに該当するもの

（一）平均誤差半径が一時間につき〇・八海里以下のもの

（二）平均誤差半径が移動距離の〇・五パーセント以下のもの

（三）平均誤差半径が二四時間で総ドリフト一海里以下のもの

ロ航空機用、陸上車両用又は船舶用に設計され、位置参照情報を内蔵するものであって、全ての位置参照情報の喪失後四分以内に位置情報を提供し、平均誤差半径が一〇メートル未満のもの

ハ航空機用、陸上車両用又は船舶用に設計され、真北方向を示すものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）最大動作角速度が一秒当たり五〇〇度未満であって、位置参照情報を用いない機首方位精度が〇・〇七度を測定地点の緯度の余弦で除した値以下又は緯度四五度の地点において六分以下のもの

（二）最大動作角速度が一秒当たり五〇〇度以上であって、位置参照情報を用いない機首方位精度が〇・二度を測定地点の緯度の余弦で除した値以下又は緯度四五度の地点において一七分以下のもの

ニ二次元以上において、加速度測定値又は角速度測定値を提供するものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）任意の軸に沿って、いかなる参照情報も使用することなく、第一号又は前号に規定する仕様のもの

（二）宇宙用に設計したものであって、任意の軸に沿った角度のランダムウォークを時間の平方根当たりで表した実効値が〇・一度以下で、かつ、角速度の測定値を与えるもの（スピニングマスジャイロのみを組み込んだ慣性航法装置その他の慣性力を利用する装置を除く。）

四ジャイロ天測航法装置、天体若しくは人工衛星の自動追跡により位置若しくは針路を測定することができる装置又はこれらの部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イジャイロ天測航法装置又は天体若しくは人工衛星の自動追跡により位置若しくは針路を測定することができる装置であって、方位精度が二〇秒以下のもの

ロイに該当するジャイロ天測航法装置又は天体若しくは人工衛星の自動追跡により位置若しくは針路を測定することができる装置のために設計した部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）光学ヘッド又はバッフル

（二）データ処理ユニット

五衛星航法システムからの電波を受信する装置であって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品

イ位置及び時刻に関するレンジングコードにアクセスするための暗号の復号アルゴリズムを有するもの（民生用に設計されたものを除く。）

ロアダプティブアンテナシステムを構成するもの

六航空機用の高度計であって、四・四ギガヘルツを超える周波数又は四・二ギガヘルツより低い周波数で使用することができるように設計したもののうち、次のいずれかに該当するもの

イ送信出力制御機能を有するもの

ロ位相偏移変調機能を有するもの

七水中ソナー航法装置であって、方位情報を用い、かつ、ドップラー速度ログ若しくは相関速度ログを用いるもののうち、位置精度が平均誤差半径で移動した距離の三パーセント以下のもの又はその部分品

八第一号から第七号までのいずれかに該当するものの試験装置、校正装置、心合わせ装置又は製造用の装置

九リングレーザージャイロの鏡面の特性確認のために設計した装置であって、次のいずれかに該当するもの

イスキャッタロメータであって、測定精度が〇・〇〇一パーセント以下のもの

ロプロフィロメータであって、測定精度が〇・五ナノメートル以下のもの

第十一条輸出令別表第一の一二の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一有人式であり、かつ、繋索式の潜水艇であって、一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの

一の二無人式の潜水艇であって、次の全てに該当するもの

イ繋索式で使用することができるように設計したもの

ロ一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの

ハ次のいずれかに該当するもの

（一）直流の推進電動機又はスラスターを使用して、独力で潜航することができるように設計したもの

（二）光ファイバーによってデータを送受することができるもの

二二五〇メートルを超える水深にある物体を回収するための装置であって、五メガニュートンを超える揚荷能力を有し、かつ、次のいずれかに該当するもの

イ航法装置によって設定した点から二〇メートル以内の範囲に位置を保持することができる自動船位保持装置を有するもの

ロ一、〇〇〇メートルを超える水深において、あらかじめ定められた点から一〇メートルの範囲に位置を保持することができるもの

三削除

四潜水艇の部分品又は附属装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計した潜水艇の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

（一）最大の内のり寸法が一・五メートルを超える耐圧容器又は耐圧殻

（二）直流の電気推進スラスター及びそのために特別に設計された電動機（ブラシレス直流電動機及び永久磁石交流（ＰＭＡＣ）電動機を含む。）

（三）光ファイバー及び合成材のテンションメンバを使用したアンビリカルケーブル又はそのコネクタ

（四）第十二号に該当する材料を用いた部分品

ロ潜水艇に使用することができるように設計した自動制御装置であって、航法データを使用し、かつ、サーボ制御方式であるもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）第一号の二又は第十四条第九号に該当する潜水艇に使用することができるもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１水中のあらかじめ定められた点を中心とする半径一〇メートルの水柱内に潜水艇を移動することができるもの

２水中のあらかじめ定められた点を中心とする半径一〇メートルの水柱内に潜水艇を保持することができるもの

３海底又は海底下にあるケーブルに沿って移動する際に、ケーブルから一〇メートル以内に潜水艇を保持することができるもの

ハ潜水艇に使用することができるように設計した自動制御装置であって、航法データを使用し、かつ、サーボ制御方式であるもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの（ロに該当するものを除く。）

（一）第一号に該当する潜水艇に使用することができるように設計したもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１水中のあらかじめ定められた点を中心とする半径一〇メートルの水柱内に潜水艇を移動することができるもの

２水中のあらかじめ定められた点を中心とする半径一〇メートルの水柱内に潜水艇を保持することができるもの

３海底又は海底下にあるケーブルに沿って移動する際に、ケーブルから一〇メートル以内に潜水艇を保持することができるもの

ニ光ファイバーを船体内に引き込むための耐圧殻の貫通金物

ホ水中用の観測装置であって、次の全てに該当するもの

（一）潜水艇に搭載して遠隔操作することができるように設計又は改造したもの

（二）次のいずれかに該当する後方散乱による影響を減少させる機能を有するもの

１レンジゲートイルミネーター

２レーザー発振器を使用した装置

五水中用の照明装置であって、次のいずれかに該当するもの

イストロボ法を用いたものであって、一回のフラッシュ当たりのエネルギーが三〇〇ジュールを超えるもののうち、一秒間に五回を超えて発光することができるもの

ロアルゴンのアークを用いたものであって、一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの

六水中用のロボット（操縦ロボット及びシーケンスロボットを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ外部物体に加えた力若しくはトルク、外部物体までの距離又は触覚を測定するセンサーからの情報を用いて制御するもの

ロ構造材にチタン合金又は繊維強化複合材料を用いたものであって、二五〇ニュートン以上の力又は二五〇ニュートンメートル以上のトルクで作業することができるもの

七潜水艇とともに使用することができるように設計した遠隔操作のマニピュレーター（関節を有するものに限る。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ外部物体に加えた力若しくはトルク又は外部物体との触覚を測定するセンサーからの情報を用いて制御するもの

ロマスタースレーブ方式によって制御するものであって、動作自由度が五以上のもの

八大気から遮断された状態で使用することができる動力装置であって、次のいずれかに該当するもの

イブレイトンサイクルエンジン又はランキンサイクルエンジンであって、次のいずれかに該当する装置を有するもの

（一）循環する排気から一酸化炭素、二酸化炭素及び微粒子を除去することができるように設計した装置

（二）単原子で構成される気体を利用することができるように設計した装置

（三）一〇キロヘルツ未満の周波数の水中ノイズを減少させることができるように設計した防音装置若しくはエンクロージャ又は衝撃を緩和することができるように設計した装置

（四）反応生成物を圧縮又は燃料として再生することができ、反応生成物を貯蔵することができ、かつ、一〇〇キロパスカル以上の圧力下で反応生成物を排出することができるように設計した装置

ロディーゼルエンジンであって、次の（一）から（四）までのすべてに該当する装置を有するもの

（一）循環する排気から一酸化炭素、二酸化炭素及び微粒子を除去することができるように設計した装置

（二）単原子で構成される気体を利用することができるように設計した装置

（四）燃焼生成物を断続的に排出することができるように設計した装置

ハ出力が二キロワットを超える燃料電池であって、次のいずれかに該当する装置を有するもの

（一）一〇キロヘルツ未満の周波数の水中ノイズを減少させることができるように設計した防音装置若しくはエンクロージャ又は衝撃を緩和することができるように設計した装置

（二）反応生成物を圧縮又は燃料として再生することができ、反応生成物を貯蔵することができ、かつ、一〇〇キロパスカル以上の圧力下で反応生成物を排出することができるように設計した装置

ニスターリングサイクルエンジンであって、次の（一）及び（二）に該当する装置を有するもの

（二）一〇〇キロパスカル以上の圧力下で反応生成物を排出することができるように設計した装置

九削除

十船舶の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ可変ピッチプロペラ又はそのハブであって、定格入力が三〇メガワットを超えるもの

ロ内部液冷式の電気推進機関であって、出力が二・五メガワットを超えるもの

ハ超電導式推進機関であって、出力が〇・一メガワットを超えるもの

ニ複合材料を用いた軸を組み込んだ伝動装置であって、十メガワットを超える出力を伝達するように設計したもの

ホスクリュープロペラ装置であって、プロペラから空気を噴き出すように設計したもの又はプロペラに空気を供給するように設計したもののうち、定格入力が二・五メガワットを超えるもの

ヘ排水量が一、〇〇〇トン以上の船舶に使用することができる防音装置であって、ディーゼルエンジン、ディーゼル発電機、ガスタービンエンジン、ガスタービン発電機、推進電動機又は減速装置から発生する五〇〇ヘルツ未満の周波数の音響又は振動を減少するもののうち、複合型の防音台からなり、かつ、中間のマスの重量がその上に設置される装置の重量の三〇パーセントを超えるもの

トスクリュープロペラの推進力の向上又はその水中ノイズの減少を図るために末広ノズル又は整流ベーンに関する技術を用いた装置であって、出力が二・五メガワットを超えるもの

チ潜水艇用に特に設計した永久磁石を用いた電気推進機関であって、出力が〇・一メガワットを超えるもの

十一推進器の模型の周辺の水流から生じるノイズを音場において計測するために設計した回流水槽であって、基準音圧が一マイクロパスカル及び周波数幅が一ヘルツの場合において、〇ヘルツ超五〇〇ヘルツ以下の周波数範囲での暗騒音が一〇〇デシベル未満のもの

十二浮力材であって、次のイ及びロに該当するもの

イ一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの

ロ密度が五六一キログラム毎立方メートル未満のもの

十三閉鎖回路式又は半閉鎖回路式の自給式潜水用具

十四音波を利用して人の水中における活動を妨害する装置であって、当該利用する音波が二〇〇ヘルツ以下の周波数において音圧レベルが一九〇デシベル以上となるように設計したもの

第十二条輸出令別表第一の一三の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一航空機用のガスタービンエンジンであって、第二十五条第三項第二号イからホまで、ト若しくはヌ、同項第三号若しくは第四号のいずれかに該当する技術（プログラムを除く。）又は第二十七条第六項第一号に該当する技術を用いたもの。ただし、次のいずれかに該当するものを除く。

イ次の全てに該当するもの

（一）本邦又は別表第二に掲げる地域の政府機関が証明したもの

（二）民生用有人航空機の動力供給用ガスタービンエンジンであって、当該エンジンを搭載する航空機に対して、本邦又は別表第二に掲げる地域の政府機関から次のいずれかの文書を発行されたもの

１型式証明

２型式証明と同等の文書であって、国際民間航空機関の承認を受けたもの

ロ補助動力装置のために設計された航空機用ガスタービンエンジンであって、本邦又は別表第二に掲げる地域の政府機関が証明したもの

二液体燃料を使用するように設計した船舶用のガスタービンエンジン（船舶の発電若しくは推進に適合したガスタービンエンジンであって、産業用のもの又は航空機用ガスタービンエンジンから派生したものを含む。）であって、次のイ及びロに該当するもの又はそのために特に設計した組立品若しくは部分品

イ国際規格ＩＳＯ三九七七／二（一九九七）が定める比較基準条件での定常状態で動作する場合の最大連続出力が二四、二四五キロワット以上のもの

ロ液体燃料の使用時の補正燃料消費率が最大連続出力の三五パーセントにおいて一キロワット時当たり〇・二一九キログラム以下のもの

三ガスタービンエンジンの組立品又はその部分品であって、第二十五条第三項第二号イからホまで、ト若しくはヌ若しくは同項第三号から第五号までのいずれかに該当する技術（プログラムを除く。）又は第二十七条第六項第一号に該当する技術を用いたもののうち、次のいずれかに該当する航空機用のガスタービンエンジンに使用するように設計したもの

イ第一号に該当するもの

ロ設計した又は製造する地域が本邦若しくは別表第二に掲げる地域以外の地域であるもの又は特定できないもの

四宇宙空間用の飛しょう体若しくはその打上げ用の飛しょう体若しくはこれらの部分品又は準軌道用の飛しょう体であって、次のいずれかに該当するもの

イ宇宙空間用の飛しょう体の打上げ用の飛しょう体

ロ宇宙空間用の飛しょう体

ハ宇宙空間用の飛しょう体のバス

ニ宇宙空間用の飛しょう体のミッション機器であって、第六条第二号イ（一）４若しくは第十六号、第八条第一号イ、第二号イ（二）若しくは第九号ハ若しくはホ、第九条第三号イ若しくはロ、第四号、第六号、第八号、第九号ハ、第九号の二、第十三号ニ、ホ、ル若しくはヲ又は第十号のいずれかに該当する貨物が組み込まれたもの

ホ宇宙空間用の飛しょう体に搭載するように設計した装置であって、次のいずれかの機能を有するもの

（一）遠隔指令又は遠隔測定データ処理

（二）ペイロードデータ処理

（三）姿勢及び軌道の制御

ヘ準軌道用の飛しょう体

四の二航空機であって、宇宙空間用の飛しょう体の打上げ用の飛しょう体又は準軌道用の飛しょう体を空中で発射させるために特別に設計し、又は改造したもの

四の三宇宙空間用の飛しょう体若しくはその打上げ用の飛しょう体の制御又はこれらの作動状態の監視のために必要な装置であって、地上に設置するように設計したもののうち、次のいずれかに該当するもの（宇宙空間用の飛しょう体若しくはその打上げ用の飛しょう体の制御又はこれらの作動状態の監視に使用するように設計したものに限る。）

イ無線遠隔制御装置又は無線遠隔測定装置であって、次のいずれかに掲げるデータ処理機能を有するように特に設計したもの

（一）宇宙空間用の飛しょう体のバスの稼働状況を監視するための無線遠隔測定データのフレーム同期及びエラー訂正処理

（二）宇宙空間用の飛しょう体のバスを制御するために宇宙空間用の飛しょう体に送られる指令データのフォーマッティング処理

ロ宇宙空間用の飛しょう体の運用手順の検証用に特に設計したシミュレーター

五次号に該当するものを内蔵する液体ロケット推進装置

六液体ロケット推進装置の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ極低温用の冷却装置、デュワー瓶、ヒートパイプその他の極低温用装置であって、極低温状態にある液体の損失が一年間につき三〇パーセント未満となるように設計したもの

ロ零下一七三・一五度以下の温度を維持又は生成するように設計された極低温用容器又は閉サイクル冷却装置

ハスラッシュ水素の貯蔵装置又は移送装置

ニ一七・五メガパスカルを超える吐出圧のターボポンプ若しくはその部分品又は当該ターボポンプのためのガス発生器若しくはエクスパンダーサイクルタービン駆動装置

ホ一〇・六メガパスカルを超える推力発生器又はそのノズル

ヘ推進薬貯蔵装置であって、毛細管現象を利用したもの又はフレキシブルブラダーを用いたもの

ト液体燃料噴射器であって、個々のオリフィスの面積が〇・一一四平方ミリメートル以下のもの

チ炭素及び炭素繊維を用いた複合材料により一体成形された推力室又はイグジットコーンであって、密度が一・四グラム毎立方センチメートルを超えるもののうち、引張強さが四八メガパスカルを超えるもの

七固体ロケット推進装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ全力積が一・一メガニュートン秒を超えるもの又は燃焼器内の圧力を七メガパスカルにした状態でノズルの出口圧力を海面レベルの大気圧にした時の比推力が二・四キロニュートン秒毎キログラム以上のもの

ロステージのマスフラクションが八八パーセントを超えるものであって、推進薬固体比率が八六パーセントを超えるもの

ハ次号に該当するものを内蔵したもの

ニ断熱材と推進薬を接合するためのものであって、推進薬の強度以上の機械的接合強度を得るため又は固体推進薬とモータケースの断熱材の間の化学的移行に対するバリヤーとするためにダイレクトボンディングモータ設計法を用いたもの

八固体ロケット推進装置の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ断熱材と推進薬を接合するためのものであって、推進薬の強度以上の機械的接合強度を得るため又は固体推進薬とモータケースの断熱材の間の化学的移行に対するバリヤーとするためにライナーを用いたもの

ロフィラメントワインディング法で成形された複合材を用いたモータケースであって、直径が〇・六一メートルを超えるもの又は構造効率比が二五キロメートルを超えるもの

ハノズルであって、推力が四五キロニュートンを超えるもの又はノズルのスロートの侵食率が〇・〇七五ミリメートル毎秒未満のもの

ニ可動ノズル又は二次噴射推力方向制御装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）推力方向の偏向範囲の絶対値が五度を超えるもの

（二）推力方向を変化させる際の角速度が二〇度毎秒以上のもの

（三）推力方向を変化させる際の角加速度が四〇度毎秒毎秒以上のもの

九ハイブリッドロケット推進装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ全力積が一・一メガニュートン秒を超えるもの

ロ出口が真空になっている状態での推力が二二〇キロニュートンを超えるもの

十打上げ用の飛しょう体若しくはその推進装置又は宇宙空間用の飛しょう体の部分品であって、次のいずれかに該当するもの

イ打上げ用の飛しょう体の部分品（ノーズコーン以外のものにあっては、重量が一〇キログラムを超えるものに限る。）であって、次のいずれかを用いたもの

（一）第四条第十五号ホに該当する繊維からなる複合材料又は同条第十三号若しくは第十四号ロに該当する樹脂

（二）金属マトリックス複合材料であって、次のいずれかで補強されたもの

１第四条第十二号に該当する物質

２第四条第十五号に該当する繊維

３第四条第七号イに該当するアルミニウムの化合物

（三）第四条第十二号に該当するセラミックマトリックス複合材料

ロ打上げ用の飛しょう体の推進装置の部分品であって、第五号、第七号又は前号のいずれかに該当する推進装置に使用するように設計したものであって、次のいずれかを用いたもの

（一）第四条第十五号ホに該当する繊維又は同条第十三号若しくは第十四号ロに該当する樹脂

（二）金属マトリックス複合材料であって、次のいずれかで補強されたもの

１第四条第十二号に該当する物質

２第四条第十五号に該当する繊維

３第四条第七号イに該当するアルミニウムの化合物

（三）第四条第十二号に該当するセラミックマトリックス複合材料

ハ宇宙空間用の飛しょう体の部分品であって、構造体の動的応答又はねじれを能動的に制御するもの

ニ液体パルスロケットエンジンであって、推力重量比が一キロニュートン毎キログラム以上のもののうち、応答時間が〇・〇三〇秒未満のもの

十の二無人航空機又はその部分品若しくは附属装置であって、次のイ又はロに該当するもの

イ無人航空機であって、操縦者の視覚に頼ることなく制御された飛行を行うよう設計したものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）次の１及び２に該当するもの

１最大航続時間が三〇分以上一時間未満のもの

２一時間当たり四六・三キロメートル（二五ノット）の速度以上の突風の中で離陸し安定した制御飛行が可能なもの

（二）最大航続時間が一時間以上のもの

ロ無人航空機の部分品又は附属装置であって、次のいずれかに該当するもの

（一）削除

（二）削除

（三）有人航空機をイに該当する無人航空機に変換するように設計したもの

（四）無人航空機を一五、二四〇メートルの高度を超えて飛行させることができるように設計又は改造された空気吸入式のレシプロエンジン又は内燃式のロータリーエンジン

十一次のいずれかに該当する装置又は工具（型を含む。）

イ超合金用に設計した一方向性凝固又は単結晶の鋳造のための装置

ロガスタービンエンジンのブレード、ベーン又はチップシュラウドを製造するために設計した耐熱金属製又はセラミック製の鋳造用の工具であって、次のいずれかに該当するもの

（一）コア

（二）シェル

（三）（一）又は（二）を組み合わせたもの

ハ超合金用に設計した一方向性凝固又は単結晶の積層造形を行う装置

十二実時間で制御する装置、計測器（センサーを含む。）又は自動的にデータを収集し、解析する装置であって、次のイ及びロに該当するもの

イガスタービンエンジン又はその部分品を設計するために特に設計したもの

ロ第二十五条第三項第三号又は第四号に該当する技術（プログラムを除く。）を用いたもの

十三チップにおける周速が三三五メートル毎秒を超えるものであって、五〇〇度を超える温度において運転できるように設計したガスタービンエンジンのブラシシールの製造用の装置若しくは試験装置又はこれらの部分品

十四金属間化合物、超合金又はチタンからなるガスタービンエンジンの翼部とディスク部を固相接合するための工具

十五次のいずれかに該当する風洞又は装置とともに使用するように設計したものであって、実時間で制御する装置、計測器（センサーを含む。）又は自動的にデータを収集し、解析する装置

イマッハ数が一・二以上の速度の状態を作ることができる風洞

ロマッハ数が五を超える流れの環境をシミュレートすることができる装置

ハ二五、〇〇〇、〇〇〇を超えるレイノルズ数の流れをシミュレートすることができる風洞又は装置。ただし、試験用のモデルが二次元断面のものに限られるものを除く。

十六音響振動試験装置であって、次のイからハまでのすべてに該当するもの又はその石英加熱器

イ基準音圧を二〇マイクロパスカルとしたときの音圧が一六〇デシベル以上のもの

ロ定格出力が四キロワット以上のもの

ハ試験室の温度が一、〇〇〇度を超えるもの

十七非破壊検査技術を用いてロケットモータを検査するための装置

十八よどみ点における温度が五六〇度を超える流れの壁面摩擦を直接計測することができるように設計した変換器

十九ガスタービンエンジンの回転部分に用いられる部分品であって粉末冶や金によって製造されるもののうち極限引張強さの六〇パーセント以上の応力を加えた状態で六〇〇度以上の温度で使用することができるものを製造するための工具（粉体を製造するための工具を除く。）

二十第十号の二に該当するものの製造用の装置

第十三条輸出令別表第一の一四の項（一）の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一粒子が球形で、かつ、その径が六〇マイクロメートル以下のアルミニウムの粉であって、アルミニウムの純度が九九パーセント以上のものからなるもの

二粒子の径が三マイクロメートル以下の鉄（水素で酸化鉄を還元する方法を用いて製造したものに限る。）の粉であって、鉄の純度が九九パーセント以上のものからなるもの

２輸出令別表第一の一四の項（二）の経済産業省令で定めるものは、次のいずれかに該当するものとする。

一火薬又は爆薬の主成分となる物質であって、次のいずれかに該当するもの（共結晶したものを含む。）

イ硝酸トリアミノグアニジン

ロチタニウムサブヒドリドであって、化学量論比が〇・六五以上一・六八以下のもの

ハジニトログリコルリル

ニ三―ニトロ―一・二・四―トリアゾール―五―オン

ホ削除

ヘ削除

ト硝酸ヒドロキシルアンモニウム

チ過塩素酸ヒドロキシルアンモニウム

リ二―（五―シアノテトラゾレート）ペンタアミンコバルト（Ⅲ）パークロレート

ヌシスービス（五―ニトロテトラゾレート）テトラアミンコバルト（Ⅲ）パークロレート

ルアミノジニトロベンゾフロキサン

ヲジアミノジニトロベンゾフロキサン

ワビス（２・２・２―トリニトロエチル）ニトラミン

カジヒドロキシルアンモニウム＝五・五′―ビステトラゾール―一・一′―ジオラート（ＴＫＸ）

二火薬若しくは爆薬の添加剤又は前駆物質となる物質であって、次のいずれかに該当するもの（共結晶したものを含む。）

イアジドメチルメチルオキセタン又はその重合体

ロ塩基性サリチル酸銅

ハサリチル酸鉛

ニ削除

ホ削除

ヘビス（二・フルオロ―二・二―ジニトロエチル）フォルマール

トビス（二―ヒドロキシエチル）グリコルアミド

チビス（二―メチルアジリジニル）メチルアミノホスフィンオキシド

リ３・３―ビス（アジドメチル）オキセタン又はその重合体

ヌ３・３―ビス（クロロメチル）オキセタン

ルブタジエンニトリルオキシド

ヲ一・二・三―ブタントリオールトリナイトレート

ワジニトロアゼチジンターシャリーブチル塩

カニトロ基、アジド基、ニトレート基、ニトラザ基又はジフルオロアミノ基を有する高エネルギーモノマー、可塑剤及び重合体

ヨポリ―二・二・三・三・四・四―ヘキサフルオロペンタン―一・五―ジオールフォルマール

タポリ―二・四・四・五・五・六・六―ヘプタフルオロ―二―トリフルオロメチル―三―オキサヘプタン―一・七―ジオールフォルマール

レグリシジルアジドの重合体の誘導体

ソヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタン

ツ超微粉酸化第二鉄であって、表面積が一グラム当たり二五〇平方メートルを超え、かつ、粒子の径の平均が〇・〇〇三マイクロメートル以下のもの

ネベーターレゾルシン酸鉛又はベーターレゾルシン酸銅

ナすず酸鉛

ラマレイン酸鉛

ムクエン酸鉛

ウベーターレゾルシン酸鉛又はサリチル酸鉛の鉛―銅のキレート

ヰニトラトメチルメチルオキセタン又は三―ニトラトメチル―三―メチルオキセタンの重合体

ノ三―ニトラザ―一・五―ペンタンジイソシアネート

オ推進薬の添加剤となる有機金属のカップリング剤

クポリシアノジフルオロアミノエチレンオキシド

ヤポリグリシジルニトレート又はニトラトメチルオキシランの重合体

マポリニトロオルトカーボネート

ケプロピレンイミン

フテトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチタン

コシアノエチル化ポリアミン（第三条第七号ツに掲げるものを除く。）又はシアノエチル化ポリアミンの塩

エグリシドールを付加したシアノエチル化ポリアミン（第三条第七号ソに掲げるものを除く。）又はグリシドールを付加したシアノエチル化ポリアミンの塩

テトリス―一―（二―メチル）アジリジニルホスフィンオキシドの誘導体

ア一・二・三―トリス（一・二―ビス（ジフルオロアミノ）エトキシ）プロパン又はトリスビノキシプロパンの付加物

サ一・三・五―トリクロロベンゼン

キ一・二・四―ブタントリオール

ユ一・三・五・七―テトラアセチル―一・三・五・七―テトラアザシクロオクタン

メ一・四・五・八―テトラアザデカリン

ミ低分子量（分子量が一〇、〇〇〇以下のものをいう。）で、かつ、アルコール官能基を有するポリエピクロロヒドリン、ポリエピクロロヒドリンジオール又はポリエピクロロヒドリントリオール

３輸出令別表第一の一四の項（三）の経済産業省令で定める仕様のものは、出力が三七・三キロワット以上のディーゼルエンジンであって、非磁性材料で構成されている部分の重量が全重量の七五パーセント以上のもの又はその部分品とする。

４輸出令別表第一の一四の項（五）の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一閉鎖回路式自給式潜水用具又はその部分品

二半閉鎖回路式自給式潜水用具又はその部分品

三自給式潜水用具の部分品であって、開放回路式自給式潜水用具を閉鎖回路式自給式潜水用具又は半閉鎖回路式自給式潜水用具に変換するために使用するように設計したもの

５輸出令別表第一の一四の項（七）の経済産業省令で定める仕様のものは、ロボット（操縦ロボット及びシーケンスロボットを除く。以下この項において同じ。）若しくはロボット用の制御装置若しくはエンドエフェクターであって、次のいずれかに該当するもの又はこれらの部分品（ロボット用のエンドエフェクターであるものを除く。）とする。

一引火点が五六六度を超える圧力油を使用することができるように設計したもの

二電磁パルスによる影響を防止するように設計したもの

６輸出令別表第一の一四の項（九）の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一ブロモベンジルシアニド

二クロロベンザルマロノニトリル

三クロロアセトフェノン

四ジベンズ―（ｂ・ｆ）―一・四―オキサゼビン

五Ｎ―ノナノイルモルホリン

六ジフェニルクロロアルシン

七ジフェニルアミンクロロアルシン（アダムサイト）

八ジフェニルシアノアルシン

九前各号のいずれかに該当する物質の散布、防護、探知若しくは識別のための装置又はその部分品

７輸出令別表第一の一四の項（十）の経済産業省令で定める仕様のものは、簡易爆発装置を除去又は処理するために特に設計した装置であって、次のいずれかに該当するもの又はその部分品若しくは附属品

一遠隔操作が可能な車両であるもの

二投射物により簡易爆発装置の作動を防止するもの

８爆発物を自動的に探知し、又は識別するように設計した電子式の装置であって、表面弾性波の測定、イオン移動度分光分析、微分型移動度分析又は質量分析のいずれかの方法によって爆発物の痕跡を探知するもの（濃度一ピーピーエム未満の蒸気又は質量一ミリグラム未満の固体若しくは液体の探知が可能なものに限り、専ら実験用機器として利用することを目的として設計したもの又は歩行して当該装置を通過する対象が当該装置に接触することなく爆発物を探知するように設計したものを除く。）

第十四条輸出令別表第一の一五の項の経済産業省令で定める仕様のものは、次のいずれかに該当するものとする。

一第四条第十五号ハ又はニに該当する繊維を用いて製造した成型品（半製品を含む。）であって、有機物をマトリックスとするもの

二電波若しくは赤外線の吸収材又は導電性高分子であって、次のいずれかに該当するもの

イ電波の吸収材として使用するように特に設計したものであって、周波数が二〇〇メガヘルツ超三テラヘルツ未満のもの。ただし、次のいずれかに該当するものであって、塗料に混入したときに吸収性能を備える磁性材料でないものを除く。

（一）磁性を有していない繊維状の吸収材

（二）磁気損失により電波を吸収するものでないものであって、入射面が平面状でない吸収材

（三）平面状の吸収材であって、次の１から３までのすべてに該当するもの

１次のいずれかに該当するものからなるもの

一炭素を含有するプラスチックの発泡体を用いた材料又は有機物を用いた材料であって、次のイ及びロに該当するもの

イ吸収率が最大である電波の周波数を中心としたプラスマイナス一五パーセントの周波数範囲以外の周波数において測定した当該吸収材の電波の反射率が金属板の電波の反射率の五パーセント以上のもの

ロ一七七度を超える温度で使用することができないもの

二セラミックを用いた材料であって、次のイ及びロに該当するもの

イ吸収率が最大である電波の周波数を中心としたプラスマイナス一五パーセントの周波数範囲以外の周波数において測定した当該吸収材の電波の反射率が金属板の電波の反射率の二〇パーセント以上のもの

ロ五二七度を超える温度で使用することができないもの

２引張強さが七メガニュートン毎平方メートル未満のもの

３圧縮強さが一四メガニュートン毎平方メートル未満のもの

（四）焼結したフェライトからなる平面状の吸収材であって、次の１及び２に該当するもの

１比重が四・四を超えるもの

２二七五度を超える温度で使用することができないもの

（五）連続気泡発泡体のプラスチック材料から製造された平面状の吸収材であって、密度が〇・一五グラム毎立方センチメートル以下のもののうち、磁気損失により電波を吸収するものでないもの

ロ近赤外線の吸収材として使用するように特に設計したものであって、波長が八一〇ナノメートル超二、〇〇〇ナノメートル未満のもの（周波数が一五〇テラヘルツ超三七〇テラヘルツ未満のものをいう。）のうち、可視光を透過しないもの

ハ導電性高分子であって、体積導電率が一〇キロジーメンス毎メートルを超えるもの又は表面抵抗率が一〇〇オーム未満のもののうち、次のいずれかの重合体からなるもの

（一）ポリアニリン

（二）ポリパイロール

（三）ポリチオフェン

（四）ポリフェニレンビニレン

（五）ポリサイニレンビニレン

三あらかじめ分離されたネプツニウム二三七であって、重量が一グラムを超えるもの

四削除

五チャネルの数が一、〇〇〇を超えるデジタル制御方式の無線受信機（民生用のセルラー無線通信に使用するように設計したものを除く。）又はその部分品若しくは附属品であって、次のイからハまでの全てに該当するもの

イ電磁波スペクトラムを自動的に走査することができるもの

ロ受信信号又は送信波の種類を特定することができるもの

ハチャネル切換え所要時間が一ミリ秒未満のもの

五の二簡易爆発装置を妨害する装置又はその附属装置であって、次のいずれかに該当するもの

イ簡易爆発装置を事前に爆発させ、又はその爆発を防止するように設計した無線送信装置（第八条第五号の三に該当するものを除く。）

ロイに掲げる装置と共に使用され、当該装置と同じ周波数の無線回線の維持が可能となるように設計した技術を用いた装置

六音波（超音波を含む。）を利用した水中探知装置又はその部分品のうち、次のいずれかに該当するもの

イハイドロホンであって、次のいずれかに該当するもの

（一）可撓とう性を有するセンサーを組み込んだもの

（二）可撓とう性を有し、直径又は長さが二〇ミリメートル未満であるセンサーを二〇ミリメートル未満の間隔で結合したものを組み込んだもの

（三）次のいずれかの検出素子を有するもの

１光ファイバー

２圧電高分子膜（ふっ化ビニリデン樹脂又はその共重合体を除く。）

３可撓とう性を有する圧電複合材料

４ニオブ酸鉛マグネシウム・チタン酸鉛の圧電性単結晶（固溶体から成長したもの）

５ニオブ酸鉛インジウム・ニオブ酸鉛マグネシウム・チタン酸鉛の圧電性単結晶（固溶体から成長したもの）

（四）加速度による影響を補正する機能を有するものであって、三五メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの

（五）一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したものであって、四キロヘルツ以下における音圧感度がマイナス二三〇デシベルを超えるように設計したもの

ロえい航ハイドロホンアレーであって、次のいずれかに該当するもの

（一）ハイドロホングループの間隔（隣接する二のハイドロホングループの中心間の距離をいう。以下この号において同じ。）が一二・五メートル未満のもの又は一二・五メートル未満に変更できるもの

（二）三五メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの又は改造できるもの

（三）第九条第一号ロ（三）に該当するヘディングセンサーを有するもの

（四）長軸方向に強化したアレーホースを有するもの

（五）アレーの直径が四〇ミリメートル未満のもの

（六）削除

（七）イ又は第九条第一号ロ（一）に該当するハイドロホンを有するもの

（八）第九条第一号ロ（六）の水中音波センサー

ハえい航ハイドロホンアレー用に設計した信号処理装置であって、使用者によるプログラムの書換えが可能なもののうち、時間領域又は周波数領域の処理又は相関（スペクトル分析、デジタルフィルタリング又はビーム成形を含む。）を実時間処理できるもの

ニ海底用又は港湾ケーブル用のハイドロホンアレーであって、次のいずれかに該当するもの

（一）イ又は第九条第一号ロ（一）に該当するハイドロホンを組み込んだもの

（二）ハイドロホングループの信号を多重化して処理することができるものであって、次の１及び２に該当するもの

１三五メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの又は三五メートルを超える水深で使用することができるように調整若しくは取り外しをすることができる水深測定装置を有するもの

２えい航ハイドロホンアレーとして転用できるもの

ホ海底用又は港湾用ケーブルシステム用に設計した信号処理装置であって、使用者によるプログラムの書換えが可能なもののうち、時間領域又は周波数領域の処理又は相関（スペクトル分析、デジタルフィルタリング又はビーム成形を含む。）を実時間処理できるもの

ヘ送信機能を有する水中探知装置であって、動作周波数が三〇ヘルツ以上二キロヘルツ以下のもののうち、音圧レベルが二一〇デシベルを超えるもの

七宇宙用に設計した固体の光検出器であって、一、二〇〇ナノメートル超三〇、〇〇〇ナノメートル以下の波長範囲で最大感度を有するもの

八パルスレーダー断面積計測装置であって、送信するパルス幅が一〇〇ナノ秒以下のもの又はその部分品

九繋けい索式でない潜水艇であって、次のいずれかに該当するもの

イ有人式の潜水艇であって、次のいずれかに該当するもの

（一）自律的に潜航することができるように設計した潜水艇であって、次の１及び２の揚荷能力を有するもの

１当該潜水艇の空中重量の一〇パーセント以上

２十五キロニュートン以上

（二）一、〇〇〇メートルを超える水深で使用することができるように設計したもの

（三）次の１及び２に該当するもの

１連続して一〇時間以上自律的に潜航することができるように設計したもの

２潜航可能な距離が五〇海里以上のもの

ロ無人式の潜水艇であって、次のいずれかに該当するもの

（一）あらゆる地形に対して自動的に針路を決定することができるように設計したもの

（二）音波によってデータ又は指令を送受することができるもの

十排水量が一、〇〇〇トン以上の船舶に使用することができる防音装置又は磁気軸受であって、伝動装置に使用できるように設計したもの

十一ラムジェットエンジン、スクラムジェットエンジン若しくは複合サイクルエンジン又はこれらの部分品

第十四条の二輸出令別表第一の一六の項（一）の経済産業省令で定めるものは、次に掲げるものとする。

一関税定率法（明治四十三年法律第五十四号）別表（以下「関税率表」という。）第八四・五六項、第八四・五七項、第八四・五八項、第八四・五九項、第八四・六〇項又は第八四・六一項に該当するもの

二関税率表第八五・二六項に該当するもの

三関税率表第八五・四二項（第八五四二・九〇号を除く。）に該当するもの

四関税率表第八八〇二・六〇号、第八八・〇六項又は第八八・〇七項（第八八〇二・六〇号又は第八八・〇六項の物品の部分品に係るものに限る。）に該当するもの

五関税率表第九〇一四・二〇号又は第九〇一四・八〇号に該当するもの

六関税率表第九〇二七・五〇号、第九〇三〇・二〇号、第九〇三〇・三二号又は第九〇三〇・三九号に該当するもの

（外国為替令別表関係）

第十五条外国為替令（以下「外為令」という。）別表の二の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第一条第一号から第五号まで、第六号（核燃料物質の成型加工用の装置に限る。）、第七号、第八号イ、第十号イ、第十号の二又は第十号の三のいずれかに該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術

二第一条第八号ロ、第十一号、第十七号、第十八号ロからヘまで、第十九号、第二十号、第二十一号イ若しくはロ（一）若しくは（三）、第三十四号若しくは第三十五号のいずれかに該当する貨物を使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）のうち当該貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要な技術

三第一条第十四号に該当する貨物を設計し、製造し、若しくは使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）のうち当該貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要な技術（数値制御コードを生成するパートプログラム作成用のプログラムであって、種々の部品を加工するために装置を直接使用することができないものを除く。）

四第一条第八号ロ、第九号、第十号ロ、第十一号、第十四号、第十七号から第二十四号まで、第二十六号から第二十八号まで、第三十号から第五十二号まで、第五十四号から第五十八号まで又は第六十号から第六十二号までのいずれかに該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術（プログラムを除く。）のうち当該貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要な技術

五第一条第六号（リチウムの同位元素の分離用の装置に限る。）、第二十五号、第二十九号、第五十三号又は第五十九号のいずれかに該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術（プログラムを除く。）

六周波数変換器（第一条第八号ロに該当するものを除く。）の性能の特性を拡張し、又は機能を解除することにより、同号ロに該当するように設計したプログラム又は暗号鍵若しくは暗号コード

七第一条第八号ロに該当する周波数変換器の性能の特性を拡張し、又は解放するために設計したプログラム

八高速度の撮影が可能なカメラ又はその部分品（第一条第四十四号に該当するものを除く。）の性能の特性を拡張し、又は機能を解除することにより、同号に該当するように設計したプログラム又は暗号鍵若しくは暗号コード

九高速度の撮影が可能なカメラ又はその部分品（第一条第四十四号に該当するものに限る。）の性能の特性を拡張し、又は解放するために設計したプログラム又は暗号鍵若しくは暗号コード

２外為令別表の二の項（二）の経済産業省令で定める技術は、工作機械のための数値制御装置として機能することを可能にするプログラムであって輪郭制御をすることができる軸数が五以上のもの又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）のうち、輪郭制御をすることができる軸数が五以上の数値制御を可能にするために必要な技術とする。

第十五条の二外為令別表の三の項（二）の経済産業省令で定める技術は、第二条第二項又は第三項に該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術のうち、当該貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要な技術とする。

第十五条の三外為令別表の三の二の項（二）の経済産業省令で定める技術は、第二条の二第二項に該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術のうち、当該貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要な技術とする。

第十六条外為令別表の四の項（一）の経済産業省令で定める技術は、第三条に該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術のうち、次のいずれかに該当するものであって、当該貨物の有する機能若しくは特性に到達し、又はこれらを超えるために必要な技術とする。

一五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは第三条第二号ロに該当する貨物の製造用の装置若しくは工具（型を含む。以下この条において同じ。）若しくは試験装置若しくはこれらの部分品若しくは同号イ（二）若しくは（三）のいずれかに該当する貨物を使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

一の二第三条第二号ロ（四）から（六）までのいずれかに該当する貨物を操作、保守若しくは点検するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

二五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットを使用するために設計したプログラムであって、二つ以上の貨物（第三条第二号イ又はロに該当するものに限る。）の機能を調整することができるもの又はその設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

三第三条第二号イに該当する貨物の製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品を設計し、製造し、若しくは使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

四五〇〇キログラム以上のペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機若しくはこれらの製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品又は第三条第二号に該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術（プログラムを除く。）

五第三条第三号イからリまでのいずれかに該当する貨物の製造用の装置若しくは工具若しくは試験装置若しくはこれらの部分品若しくは同号イ、ロ、ト、チ若しくはヌ、第四号から第六号まで、第十七号から第十九号まで、第二十一号イ、第二十二号、第二十二号の二若しくは第二十五号のいずれかに該当する貨物を使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

五の二第三条第十一号に該当する貨物を操作、保守若しくは点検のために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

六ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機（五〇〇キログラム以上のペイロードを運搬することができるものを除く。）又は第三条第三号から第六号まで若しくは第七号から第二十七号までのいずれかに該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術（プログラムを除く。）

七第三条第三号ロ、ハ、ホ若しくはヘ若しくは第四号に該当する貨物を設計するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

八第三条第八号から第十号の二までのいずれかに該当する貨物の操作、保守又は点検のために設計したプログラム

九第三条第十三号から第十五号まで若しくは第二十六号のいずれかに該当する貨物を設計し、製造し、若しくは使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

十第三条第十七号イ若しくはヘ若しくは第十七号の二に該当する貨物を設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

十一ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット、第三条第二号イに該当する貨物若しくは同号ロに該当する貨物を設計するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

十二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機を使用するために設計したプログラム（無人航空機を使用するために設計したプログラムにあっては、有人航空機を無人航空機として運用するために設計又は改造したものを含む。）であって、二つ以上の貨物（第三条第二号イ又はロに該当するものに限る。）の機能を調整することができるもの（第二号に該当するものを除く。）

２外為令別表の四の項（二）の経済産業省令で定める技術は、ロケット用のアビオニクス装置又はその部分品の設計に係る技術であって、電磁パルス又は電磁障害の影響を防止するためのもの（プログラムを除く。）とする。

３外為令別表の四の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができる無人航空機の飛行中の空力性能を最適化するために、機体、推進装置及び揚力制御面を統合するための技術（プログラムを除く。）

二ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケットの軌道を最適化するために、飛行制御、誘導又は推進に係るデータを飛行管理装置に統合するための技術（プログラムを除く。）

三飛行時に記録されたデータを処理して飛行時の全経路にわたる機体の位置決定を可能にするプログラム（ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット又は無人航空機に使用することができるものに限る。）又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に係る技術（プログラムを除く。）

４外為令別表の四の項（四）の経済産業省令で定める技術は、オートクレーブの使用に係る技術であって、オートクレーブ内部の環境を規定するためのデータ又は手順（第三条第十六号に該当する貨物を使用するためのものに限る。）とする。

５外為令別表の四の項（五）の経済産業省令で定める技術は、原料ガスの熱分解（一、三〇〇度以上二、九〇〇度以下の温度範囲において、かつ、一三〇パスカル以上二〇、〇〇〇パスカル以下の絶対圧力の範囲において行うものに限る。）により生成する物質を基材に定着させるための技術とする。

第十七条外為令別表の五の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第四条第四号から第六号までのいずれかに該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム

二第四条第十二号ハ若しくはニ又は第十五号ハ若しくはニに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三第四条第二号から第十七号までのいずれかに該当するもの（前号に該当するものを除く。）の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

２外為令別表の五の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第四条第四号から第六号までのいずれかに該当するものを使用するために設計したプログラム

二第四条第二号若しくは第十二号ハ若しくはニ又は第十四条第一号に該当するものの使用（修理に係るものに限る。）に係る技術（プログラムを除く。）

３外為令別表の五の項（三）の経済産業省令で定める技術は、セラミック粉末又はセラミック（複合型のものを除く。）であって、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

一セラミック粉末であって、次のイからハまでの全てに該当するもの

イ次のいずれかに該当するものからなるもの

（一）ジルコニウムの単一又は複合酸化物及びシリコン又はアルミニウムの複合酸化物

（二）ほう素の単一窒化物（立方晶窒化ほう素に限る。）

（三）シリコン又はほう素の単一又は複合炭化物

（四）シリコンの単一又は複合窒化物

ロ金属不純物の含有量の全重量に占める割合が、次の数値未満のもの

（一）単一酸化物又は単一炭化物にあっては、〇・一パーセント

（二）複合化合物又は単一窒化物にあっては、〇・五パーセント

ハ次のいずれかに該当するもの

（一）酸化ジルコニウムであって、粒子の径の平均値が一マイクロメートル以下のもののうち、径が五マイクロメートルを超える粒子の重量の合計が全重量の十パーセント以下であるもの

（二）粒子の径の平均値が五マイクロメートル以下であって、径が十マイクロメートルを超える粒子の重量の合計が全重量の十パーセント以下であるもの（（一）に該当するものを除く。）

二前号の物質からなるセラミック（研磨材を除く。）

４外為令別表の五の項（四）の経済産業省令で定める技術は、ポリベンゾチアゾール又はポリベンゾオキサゾールの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

５外為令別表の五の項（五）の経済産業省令で定める技術は、ビニルエーテルのモノマーを含むゴム状のふっ素化合物の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

６外為令別表の五の項（七）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第四条第十二号ハ若しくはニ若しくは第十五号ハ若しくはニ又は第十四条第一号に該当するものを設計するためのプログラム

二有機物、金属又は炭素をマトリックスとする複合材料を設計するためのプログラム（前号に該当するものを除く。）

７外為令別表の五の項（八）の経済産業省令で定める技術は、第十四条第二号に該当する電波若しくは赤外線の吸収材又は導電性高分子の使用（据付、保守又は修理に係るものに限る。）に係る技術（プログラムを除く。）とする。

第十八条外為令別表の六の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

イ第五条第二号イ又は同号ロ（一）若しくは（二）のいずれかに該当するものであって、いずれか一軸以上の直線軸の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇〇九ミリメートル以下のもの

ロ第五条第二号ロ（三）若しくはニ、第三号又は第五号のいずれかに該当するもの

二前号に掲げるもののほか、第五条に該当する貨物の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三次のいずれかに該当するものを設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

ロ第五条第二号ロ（三）若しくはニ、第三号又は第五号のいずれかに該当するもの

四前号に掲げるもののほか、第五条に該当する貨物を設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

２外為令別表の六の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第五条第一号ハ、第二号、第三号又は第五号から第十一号までのいずれかに該当するものを使用するために設計したプログラム

二第五条第四号に該当するものを操作するために設計又は改造したプログラムであって、工作物を任意の形状に加工するために光学設計、工作物の寸法及び材料除去機能を数値制御コマンドに変換するもの

三前二号に掲げるプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

３外為令別表の六の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一数値制御装置として機能することを可能にするプログラムであって、輪郭制御をすることができる軸数が五以上のもの又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

二削除

三削除

四意思決定を支援するエキスパートシステムを数値制御装置に組み込むためのプログラムの設計に係る技術（プログラムを除く。）

五別表第三の第二欄に掲げるコーティング方法を用いる非電子的基板用コーティング技術であって、同表の第三欄に掲げる基材に対して行う同表の第四欄に掲げるコーティングに係るもの（プログラムを除く。）

４外為令別表の六の項（四）の経済産業省令で定める技術は、超塑性成形、拡散接合又は直圧式液圧プレスによる金属の加工用の工具（型を含む。）の設計に係る技術（プログラムを除く。）とする。

５外為令別表の六の項（五）の経済産業省令で定める技術は、航空機材の製造用の液圧式引張成形機（その型を含む。）の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

６外為令別表の六の項（六）の経済産業省令で定める技術は、次の各号の全てに該当するコーティングシステムの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

一第四条第十二号に該当するセラミックマトリックス複合材料の腐食を防ぐために設計したもの

二一、一〇〇度を超える温度で使用することができるように設計したもの

第十九条外為令別表の七の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第六条第二号ハ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくはニ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくは４又は第十六号ロに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二第六条に該当するもの（同条第二号ハ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくはニ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくは４又は第十六号ロに該当するものを除く。）の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれにも該当しないもの

イ同条第十六号の二に該当するものの製造に必要な技術

ロ同条第一号ハからルまでのいずれかに該当する集積回路のうち、次の（一）及び（二）に該当するものの設計又は製造に必要な技術

（一）最小線幅が〇・一三〇マイクロメートル以上のもの

（二）多層構造を有するもの（金属層が三層以下のものに限る。）

ハプロセスデザインキット（同条第一号から第八号の四までのいずれかに該当する貨物に係る機能又は技術を実装するライブラリが含まれているものを除く。）

三第六条第十六号ロに該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム

四第六条第十六号の二に該当するものを設計するために設計したプログラム

五第六条に該当するもの（前二号又は同条第一号、第十号の二、第十六号の三若しくは第十八号から第二十六号までのいずれかに該当するものを除く。）を設計し、又は製造するために設計したプログラム

２外為令別表の七の項（二）の経済産業省令で定める技術は、第六条第十七号イ、ロ、ホ、ヘ又はヌからシまでのいずれかに該当するものを使用するために設計したプログラムとする。

３外為令別表の七の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用のマスク又はレチクルのパターンを設計するために特に設計したコンピューテーショナル・リソグラフィ・プログラム

二絶縁体が二酸化けい素からなる集積回路の基板であって、シリコンオンインシュレータ構造を有するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

三マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ又はマイクロコントローラのコアであって、論理演算ユニットのアクセス幅のビット数が三二以上のもののうち、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

イベクトル演算器であって、浮動小数点ベクトル演算処理を同時に二を超えて実現できるように設計したもの

ロ六四ビット以上の浮動小数点演算処理を一サイクル当たり四を超えて実現できるように設計したもの

ハ一六ビットの固定小数点積和演算処理を一サイクル当たり八を超えて実現できるように設計したもの

四電磁パルス又は静電放電による中断から一ミリ秒以内に動作の連続性を失うことなくマイクロコンピュータ又はマイクロプロセッサを正常状態に回復するように特に設計したプログラム

五直径三〇〇ミリメートルのシリコンウエハーの外周の除外領域を二ミリメートル以下としたウエハーの表面に対するスライス、研削及び研磨の技術のうち、長さ二六ミリメートル、幅八ミリメートルの長方形に分割されたいずれの領域における平坦度が二〇ナノメートル以下を達成するために必要な技術（プログラムを除く。）

六ゲートオールアラウンド電界効果トランジスタ（ＧＡＡＦＥＴ）の構造を有する集積回路を設計するために特に設計したＥＣＡＤプログラムであって、次のいずれかに該当するもの

イレジスタ転送レベル（ＲＴＬ）をＧＤＳⅡ又はこれと同等のデータベースファイル形式に実装するために特に設計したもの

ロ設計する集積回路内のデータ処理における消費電力又はデータを転送するまでに要する時間を最適化するために特に設計したもの

七走査型電子顕微鏡により取得した画像からＧＤＳⅡデータ又はこれと同等の標準レイアウトデータを抽出し、当該データの層間位置合わせ機能を実行し、多層のＧＤＳⅡデータ又は回路のネットリストを生成するために設計したプログラム

八ゲートオールアラウンド電界効果トランジスタ（ＧＡＡＦＥＴ）の構造を有する集積回路又は半導体素子の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれにも該当しないもの

イプロセスデザインキット（第六条第一号から第八号の四までのいずれかに該当する貨物に係る機能又は技術を実装するライブラリが含まれているものを除く。）

ロツールの認定又は保守に用いるもの

九複数のチップをマルチチップ集積回路に統合するために設計した電子コンピュータ支援設計プログラムであって、次の全てに該当するもの

（一）フロアプランニングを有するもの

（二）チップとパッケージの協調設計又は協調シミュレーションを有するもの

十マルチパターニングを使用した集積回路を設計し、又は製造するために設計し、又は改造した電子コンピュータ支援設計プログラム

十一深紫外リソグラフィのマスク又はレチクル上のパターンを設計し、又は製造するために設計し、又は改造した計算機リソグラフィ用のプログラム

４外為令別表の七の項（四）の経済産業省令で定める技術は、超電導材料を用いた電子素子の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

５外為令別表の七の項（五）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一削除

二真空マイクロエレクトロニクス装置の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

三ヘテロ接合の半導体素子（動作周波数が三一・八ギガヘルツ未満の高電子移動度トランジスタ又はヘテロ接合バイポーラトランジスタを除く。）の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

四電子機器の部分品として用いる基板であって、ダイヤモンド、炭化けい素又は酸化ガリウムを用いたものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

五動作周波数が三一・八ギガヘルツ以上の真空電子デバイス（クライストロン、進行波管及びこれらから派生したものを含む。）の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

第二十条外為令別表の八の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するもの（セキュリティの脆弱性の開示又はサイバー攻撃の対応に係る技術（プログラムを除く。）を除く。）とする。

一第七条第一号から第五号まで又は第七号のいずれかに該当するものの設計、製造又は使用に必要な技術（プログラムを除く。）

二第七条第一号から第五号まで又は第七号のいずれかに該当するものを設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に必要な技術（プログラムを除く。）

三第七条第六号ロ若しくはハに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

四第七条第六号ロ若しくはハに該当するものを設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に必要な技術（プログラムを除く。）

２外為令別表の八の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するもの（第三号から第七号までに該当する技術（プログラムを除く。）であって、セキュリティの脆弱性の開示又はサイバー攻撃の対応に係るものを除く。）とする。

一加重最高性能が二四実効テラ演算超七〇実効テラ演算以下のデジタル電子計算機の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二デジタル電子計算機の機能を向上するように設計した電子組立品であって、計算要素を集合させることにより、加重最高性能が二四実効テラ演算超七〇実効テラ演算以下になるものに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三加重最高性能が二四実効テラ演算超七〇実効テラ演算以下のデジタル電子計算機を設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計若しくは製造に必要な技術（プログラムを除く。）

四前号のプログラムの使用に必要な技術（プログラムを除く。）

五デジタル電子計算機の機能を向上するように設計した電子組立品であって、計算要素を集合させることにより、加重最高性能が二四実効テラ演算超七〇実効テラ演算以下になるものを設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に必要な技術（プログラムを除く。）

六侵入プログラムの作成、指揮統制又は配信を行うように設計若しくは改造されたプログラム（プログラムの更新又は改良を行うために特に設計したものであって、これを受け取るシステムの所有者又は管理者の許可を得た場合にのみ動作するもののうち、更新又は改良されるプログラムを本号に該当するプログラム又は侵入プログラムに変更しないように設計したものを除く。）又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に必要な技術（プログラムを除く。）

七侵入プログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

第二十一条外為令別表の九の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第八条第二号イ（二）に該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二第八条第一号、第二号又は第四号から第五号の五までのいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラム及び前号に該当するものを除く。）

二の二第八条第九号から第十二号までのいずれかに該当するもの（同条第十一号ロに該当するものを除く。）の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三第八条第九号から第十二号までのいずれかに該当するもの（同条第十一号ロに該当するものを除く。）の使用に必要な技術（プログラムを除く。）

四第八条第一号、第二号又は第四号から第五号の五までのいずれかに該当するものの使用（操作に係るものを除く。）に必要な技術（プログラムを除く。）

五第八条第二号イ（二）に該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム

六第八条第一号、第二号又は第四号から第五号の五までのいずれかに該当するものを設計し、又は製造するために設計し、又は改造したプログラム（前号に該当するものを除く。）

七第八条第九号から第十一号イまで又は本項第九号のいずれかに該当するものを設計し、又は製造するために設計し、又は改造したプログラム

七の二第八条第十一号ロ又は本項第九号の二に該当するものを設計し、又は製造するために設計し、又は改造したプログラム

八第八条第一号、第二号又は第四号から第五号の五までのいずれかに該当するものを使用するために設計し、又は改造したプログラム

八の二第八条第九号から第十一号イまで又は本項第九号のいずれかに該当するものを使用するために設計し、又は改造したプログラム

八の三第八条第十一号ロ又は本項第九号の二に該当するものを使用するために設計し、又は改造したプログラム

九プログラムであって、第八条第九号イ若しくはハからホまで、第十号又は第十一号イのいずれかに該当する貨物の有する機能と同等の機能を有するもの、当該機能を実現するためのもの又は当該機能のシミュレーションを行うことができるもの（第八条第九号イ又はハからホまでに係るものにあっては、公開された又は商業用の暗号標準のみを用いたもののうち、その機能が、操作、管理又は保守に関するものに限定されているものを除く。）

九の二プログラムであって、第八条第十一号ロに該当する貨物の有する機能と同等の機能を有するもの、当該機能を実現するためのもの又は当該機能のシミュレーションを行うことができるもの（侵入プログラムを除く。）

十削除

十一第五号のプログラムの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

十一の二第五号のプログラムの使用（操作に係るものを除く。）に必要な技術（プログラムを除く。）

十二第七号、第八号の二又は第九号のプログラムの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

十二の二第七号、第八号の二又は第九号のプログラムの使用に必要な技術（プログラムを除く。）

十三第六号又は第八号のプログラムの設計、製造又は使用（操作に係るものを除く。）に必要な技術（プログラムを除く。）

十四削除

十五削除

十六第八条第九号ロに該当する機能を有する技術（プログラムを除く。）であって、暗号機能有効化の手段を用いることによってのみ、ある貨物又はあるプログラムの暗号機能を有効化するもの

十七第八条第九号ロに該当する機能を有するプログラムであって、暗号機能有効化の手段を用いることによってのみ、ある貨物又はあるプログラムの暗号機能を有効化するもの

２外為令別表の九の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一削除

二第八条第一号、第二号、第四号から第七号まで又は第八号の二のいずれかに該当する貨物の有する機能と同等の機能を提供するために設計したプログラム

三削除

三の二伝送通信装置又は電子式交換装置であって、ロ（一）若しくは（五）若しくはニ（一）に該当するものを設計するためのプログラム又は次のいずれかに該当するものの設計若しくは製造に必要な技術（プログラムを除く。）

イ削除

ロレーザー発振器を用いたものであって、次のいずれかに該当するもの

（一）一、七五〇ナノメートルを超える波長のレーザー光を利用するもの

（二）削除

（三）削除

（四）光波長多重化技術を用いたものであって、光搬送波の間隔が一〇〇ギガヘルツ未満のもの

（五）アナログ伝送方式を用いたものであって、帯域幅が二・五ギガヘルツを超えるもの（テレビジョン放送（有線テレビジョン放送を含む。）用の装置を除く。）

ハ光交換機能を有するものであって、光信号の交換所要時間が一ミリ秒未満もの

ニ無線送信機又は無線受信機であって、次のいずれかに該当するもの

（一）一、〇二四値を超える直交振幅変調技術を用いたもの

（二）三一・八ギガヘルツを超える周波数で使用することができるもの（国際電気通信連合が無線通信用に割り当てた周波数帯域（無線測位用に割り当てた周波数帯域を除く。）で使用するように設計したものを除く。）

（三）一・五メガヘルツ以上八七・五メガヘルツ以下の周波数範囲で使用することができるものであって、適応型の干渉信号抑圧技術を用いたもののうち、干渉信号を一五デシベルを超えて抑圧することができるように設計したもの

ホ削除

ヘ専ら移動体において使用するように設計したものであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）光波長が二〇〇ナノメートル以上四〇〇ナノメートル以下で使用することができるもの。

（二）ローカルエリアネットワークにおいて用いられるもの

四削除

五宇宙空間用の飛しょう体に搭載することができるように設計した伝送通信装置の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

六レーザーを用いた通信技術であって、信号を自動的に受信及び追跡し、かつ、大気圏外又は水中との通信を行うことができるものの設計又は使用に係る技術（プログラムを除く。）

七から十まで削除

十一プログラムの交換により、マルチバンド、マルチチャンネル、マルチモード、マルチコーディングアルゴリズム又はマルチプロトコルの動作が可能となるように、その信号受信機能が変更可能なデジタル方式のセルラー無線通信に用いる無線基地局受信装置の設計に係る技術（プログラムを除く。）

十二及び十三削除

十四伝送通信装置の設計に係る技術（プログラムを除く。）であって、スペクトル拡散（周波数ホッピングを含む。）の設計に係るもの

十五法執行による監視又は分析を行うために特別に設計又は改造したプログラムであって、次のイ及びロの機能を実現するもの（第一項第五号、同項第六号、同項第八号若しくは本項第二号又は本号ハからトのいずれかに該当するもののために専用に設計又は改造したプログラムを除く。）

イ通信サービスプロバイダから、ハンドオーバーインターフェースを用いて取得した通信内容又はメタデータに対して、ハードセレクターに基づいて検索を実行するもの

ロ通信内容若しくはメタデータ又はイの検索に基づき、関係する人的ネットワークの解析又は狙った個人の動きを追跡するもの

ハ課金目的

ニネットワークのサービス品質管理（ＱｏＳ）

ホ利用者の体感品質管理（ＱｏＥ）

ヘ仲介装置

トモバイル決済又は銀行業務

十六第十五号のプログラムの設計、製造又は使用（操作に係るものを除く。）に必要な技術（プログラムを除く。）

３外為令別表の九の項（三）の経済産業省令で定める技術は、通信用に設計したモノリシックマイクロ波集積回路増幅器であって、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）とする。

一動作周波数が二・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一五パーセントを超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの

イ動作周波数が二・七ギガヘルツ超二・九ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が七五ワット（四八・七五ディービーエム）を超えるもの

ロ動作周波数が二・九ギガヘルツ超三・二ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五五ワット（四七・四ディービーエム）を超えるもの

ハ動作周波数が三・二ギガヘルツ超三・七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が四〇ワット（四六ディービーエム）を超えるもの

ニ動作周波数が三・七ギガヘルツ超六・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が二〇ワット（四三ディービーエム）を超えるもの

二動作周波数が六・八ギガヘルツ超一六ギガヘルツ以下であって、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの

イ動作周波数が六・八ギガヘルツ超八・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一〇ワット（四〇ディービーエム）を超えるもの

ロ動作周波数が八・五ギガヘルツ超一六ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が五ワット（三七ディービーエム）を超えるもの

三動作周波数が一六ギガヘルツ超三一・八ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が三・〇ワット（三四・七七ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

四動作周波数が三一・八ギガヘルツ超三七ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が〇・一ナノワット（マイナス七〇ディービーエム）を超えるもの

五動作周波数が三七ギガヘルツ超四三・五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一・〇ワット（三〇ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

六動作周波数が四三・五ギガヘルツ超七五ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が三一・六二ミリワット（一五ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が一〇パーセントを超えるもの

七動作周波数が七五ギガヘルツ超九〇ギガヘルツ以下であって、ピーク飽和出力値が一〇ミリワット（一〇ディービーエム）を超えるもののうち、瞬時帯域幅を中心周波数で除した値が五パーセントを超えるもの

八動作周波数が九〇ギガヘルツを超えるものであって、ピーク飽和出力値が〇・一ナノワット（マイナス七〇ディービーエム）を超えるもの

４外為令別表の九の項（四）の経済産業省令で定める技術は、超電導材料を用いた通信装置であって、使用する超電導材料の臨界温度より低い温度で使用することができるように設計し、かつ、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）とする。

一超電導ゲートを有するデジタル回路用の電流スイッチングの機能を有するものであって、ゲート当たりの遅延時間にゲート当たりの電力消費を乗じて得た値が一〇〇、〇〇〇、〇〇〇、〇〇〇分の一ミリジュール未満のもの

二周波数を分離する機能を有するものであって、キュー値が一〇、〇〇〇を超える共振回路を有するもの

第二十二条外為令別表の一〇の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第九条に該当するものの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

二第九条第一号イ（二）、（六）若しくはロ（三）、第三号イ、ロ若しくはホ、第四号、第五号イ、第八号イ（一）１、（二）１若しくは（三）、第九号ハ若しくはニ、第十一号イ、ロ、ヲ若しくはワ、第十一号の二イ又は第十三号ニ、チ若しくはルに該当するものの製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三第九条に該当するもの（前号に該当するものを除く。）の製造に必要な技術（プログラムを除く。）

四第九条第九号ハ若しくはニ又は第十三号ニ、チ若しくはルに該当するものを設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

五第九条第九号から第十号の二まで又は第十三号に該当するもの（前号に該当するものを除く。）を設計し、又は製造するために設計したプログラム

六前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

七第九条第三号ニ（一）２又はホ（二）に該当するフォーカルプレーンアレーを組み込んだカメラのために設計又は改造したプログラムであって、当該カメラのフレーム速度の制限を取り外し、かつ、最大フレーム速度が九ヘルツを超えるように設計又は改造したもの

２外為令別表の一〇の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第九条第四号若しくは第十三号又は第十四条第八号に該当するものを使用するために設計したプログラム

二前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

三プログラムであって、次のいずれかに該当するもの

イ磁力計、水中電場センサー又は磁場勾こう配計の校正装置であって、車両、船舶、航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体に搭載するように設計したもののために設計したプログラム

ロ車両、船舶、航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体上で磁気又は水中電場の異常を検出するために設計したプログラム

ハ重力計又は重力勾こう配計に対する運動の影響を補正するために設計したプログラム

ニ航空管制のために用いられるプログラムであって、五以上の一次レーダーから目標データを受信することができるもの

ホ第九条第十一号の二に該当するものを用いることによって、磁場若しくは電場に係るデータを実時間処理するために設計したプログラム又はソースコード

四前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

３外為令別表の一〇の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一光学的被膜であって、直径又は長軸の長さが五〇〇ミリメートル以上で、かつ、吸収及び散乱による損失が〇・〇〇五未満のもののうち、光学的被膜の厚さに係る均一度が九九・五パーセント以上のものの製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二シングルポイントダイヤモンド工具を用いた旋削に係る技術（プログラムを除く。）であって、面積が〇・五平方メートルを超える曲面を、面精度の二乗平均平方根が一〇ナノメートル未満となるように仕上げるためのもの

三直径又は長軸の長さが一メートル以上の複数の反射鏡からなる反射鏡システムの角度と位相を維持するために設計したプログラム

４外為令別表の一〇の項（四）の経済産業省令で定める技術は、超高出力レーザー発振器の試験装置の設計、製造又は使用に必要な技術（プログラムを除く。）とする。

５外為令別表の一〇の項（六）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一次のイ及びロに該当するレードームを製造するためのプログラム

イ電子的に走査が可能なアレーアンテナを保護するために設計したもの

ロ平均サイドローブに対するメインビームのピーク値の出力比が四〇デシベルを超えるアンテナパターンを生じるもの

二前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

６外為令別表の一〇の項（七）の経済産業省令で定める技術は、超高出力レーザー発振器が出力したレーザー光に対する物質の耐久性の試験を行うための装置又はその試験に用いる標的の設計、製造又は使用に必要な技術（プログラムを除く。）とする。

第二十三条外為令別表の一一の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第十条に該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二第十条に該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム

三前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

２外為令別表の一一の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一姿勢方位基準装置（ジンバル方式のものを除く。）、慣性航法装置その他の慣性装置を使用（操作又は保守（点検）に係るものに限る。）するためのプログラム（ソースコードのものに限る。）又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

二第十条の第一号から第四号までのいずれかに該当するものの使用（修理又はオーバーホールに係るものに限る。）に必要な技術（プログラムを除く。）

三第二十七条第三項から第五項までのいずれかに該当するプログラムの設計に係る技術（プログラムを除く。）

四衛星航法システムのレンジングコード（民生用を除く。）を解読するために設計されたプログラム

３外為令別表の一一の項（四）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一次のいずれかに該当するもののためのプログラム（ソースコードのものに限る。）であって、第二号イからニまで又は第三号イからニまで、ト若しくはチのいずれかに該当するものの設計に係る技術（プログラムを除く。）を用いたもの

イ飛行の全行程を管理するためのデジタル飛行管理装置

ロ推進制御と飛行制御を統合するための装置

ハフライバイワイヤシステム又はフライバイライトシステム

ニ故障許容機能又は自己再構成機能をもつアクティブ飛行制御装置

ホ機体表面の静的データを基準とするエアーデータ装置

ヘ三次元ディスプレイ

二次のいずれかに該当するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

イ機体表面の静的データを基準とするエアーデータ装置

ロ航空機用の三次元ディスプレイ

ハ飛行制御のために設計した電気アクチュエーター

ニアクティブ飛行制御を行うために設計した飛行制御用光センサーアレー

ホデータベース参照航法装置であって、水中での航行で使用することができるように設計したもののうち、〇・四海里以下の位置精度を提供するソナー又は重力データベースを利用するもの

三アクティブ飛行制御装置の設計に係る技術であって、次のいずれかに該当するもの

イ航空機の機体若しくは飛行制御系統機器の作動状態の探知、飛行制御データの送信又はアクチュエーターの動作に対する指令のための光通信に係る技術（プログラムを除く。）であって、フライバイライトシステムのアクティブ飛行制御装置の設計に必要なもの

ロアクティブ飛行制御装置内の部分品の性能の低下及び故障を予測し、その度合いを緩和するため、部分品のセンサーから得られる情報を分析するための実時間のアルゴリズム

ハアクティブ飛行制御装置の性能の低下及び故障の度合いを緩和するため、機器の故障を識別し、力及びモーメントの制御を再構成するための実時間のアルゴリズム

ニ飛行の全行程を管理するためデジタル飛行管理装置にデジタル飛行制御、航法及び推進制御のデータを統合する技術（プログラムを除く。）

ホイからニまで、ト又はチのいずれかに該当する技術を用いたアクティブ飛行制御装置のために設計したＣＡＤプログラム

ヘホのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

トフライバイワイヤシステムの機能要件に到達させるために必要な技術（プログラムを除く。）であって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）内部ループ機体制御であって、四〇ヘルツ以上の閉ループ制御の周波数を必要とするもの

（二）次のいずれかに該当するもの

１飛行包絡線の範囲内において、〇・五秒以内に補正されなければ復元制御力を失う機体の不安定さを補正できるもの

２機体状態の異常変化を補正する際に、二以上の軸の制御を結合するもの

３ニに規定する機能を実施するもの（オートパイロットを除く。）

４迎角一八度以上、横滑り角一五度以上、ピッチレート毎秒一五度以上、ヨー・レート毎秒一五度以上又はロールレート毎秒九〇度以上のとき（離着陸時を除く。）に、機体を安定的で制御された飛行とするための技術

チフライバイワイヤシステムの機能要件に到達させるために必要な技術（プログラムを除く。）であって、次の（一）及び（二）を達成するためのもの

（一）フライバイワイヤシステム内でいずれか二箇所の故障が連続して起きた場合であっても、機体のコントロールが失われないこと

（二）機体の制御が失われる確率が、飛行時間当たりの故障率の十億分の一以下であること

四ヘリコプター用の装置であって、次のいずれかに該当するものの設計に係る技術（プログラムを除く。）又はイ若しくはロに該当するもののために設計したＣＡＤプログラム

イ多軸のフライバイワイヤシステム又はフライバイライトシステムであって、次に該当する機能のうち二以上を統合したもの

（一）コレクティブ制御機能

（二）サイクリック制御機能

（三）ヨー制御機能

ロ反トルク又は方向を制御する装置であって、循環制御方式によるもの

ハ各翼を個別に制御するための可変形状翼を用いた回転翼

五前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

第二十四条外為令別表の一二の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第十一条第一号の二、第四号ロ、第六号、第八号又は第十号ヘ若しくはトに該当するものの設計又は製造に必要な技術

二第十一条に該当するもの（前号に該当するものを除く。）の設計又は製造に必要な技術

三エアクッション船、水中翼船又は水線面積を小さくすることによって造波抵抗を減少させるように設計した船舶であって、次のいずれかに該当するものの設計若しくは製造に必要な技術（プログラムを除く。）

イスカート型のエアクッション船（船体の全周にフレキシブルスカートを取り付けたものに限る。）であって、次の全てに該当するもの

（一）有義波高が一・二五メートル以上の場合における満載状態の速力の最大値が三〇ノットを超えるように設計されたもの

（二）クッションの圧力が三、八三〇パスカルを超えるもの

（三）満載排水量に対する軽荷排水量の比率が七〇パーセント未満のもの

ロ側壁型のエアクッション船であって、有義波高が三・二五メートル以上の場合における満載状態の速力の最大値が四〇ノットを超えるもの

ハ水中翼船であって、有義波高が三・二五メートル以上の場合における満載状態の速力の最大値が四〇ノット以上になるように設計したもののうち、船体の揺れ、波の状態その他のデータを測定することによって水中翼を自動的に制御する装置を有するもの

ニ水線面積を小さくすることによって造波抵抗を減少させるように設計した船舶であって、次のいずれかに該当するもの

（一）満載排水量が五〇〇トンを超えるものであって、有義波高が三・二五メートル以上の場合における満載状態の速力の最大値が三五ノットを超えるように設計したもの

（二）満載排水量が一、五〇〇トンを超えるものであって、有義波高が四メートル以上の場合における満載状態の速力の最大値が二五ノットを超えるように設計したもの

２外為令別表の一二の項（二）の経済産業省令で定める技術は、第十一条若しくは第十四条第九号若しくは第十号に該当する貨物を使用するために設計したプログラム又は第十一条第一号、第一号の二、第二号、第四号ロ若しくはハ、第八号若しくは第十号若しくは第十四条第九号若しくは第十号に該当する貨物の使用（修理又はオーバーホールに係るものに限る。）に係る技術（プログラムを除く。）とする。

３外為令別表の十二の項（三）の経済産業省令で定める技術は、水中ノイズを減少させるために設計したプロペラの設計、製造又は使用（修理又はオーバーホールに係るものに限る。）に係る技術とする。

第二十五条外為令別表の一三の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第十二条第四号から第二十号までのいずれかに該当するものの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

一の二第十二条第四号から第十号まで又は第十一号から第二十号までのいずれかに該当するものの製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二第十二条第十一号ロに該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム

三前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

四第十二条に該当するもの（第二号に該当するものを除く。）を設計し、又は製造するために設計したプログラム

五前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

２外為令別表の一三の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第三項第三号に該当する技術（プログラムを除く。）を組み込んだプログラムであって、第十二条に該当する貨物のためのフルオーソリティーデジタルエンジン制御システムに使用されるもの

二前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

三プログラムであって、次のいずれかに該当するもの

イ風洞試験又は飛行試験のデータにより検証された二次元又は三次元の粘性流れのためのプログラムであって、エンジン内の流れをモデリングするためのもの

ロ航空機用ガスタービンエンジン又はその組立品若しくは部分品の試験のためのプログラムであって、次の（一）及び（二）に該当するもの（試験装置を運用するためのもの、作業者の安全を確保するためのもの又は製造、修理若しくは保守の領収試験（製品が適切に組み立てられ、若しくは修理されたかどうかの判断を行うものをいう。）のためのものを除く。）

（一）次のいずれかに該当するものの試験のために特に設計したもの

１航空機用ガスタービンエンジン又はその組立品若しくは部分品であって、次項第二号イからトまで若しくはヌ若しくはヲ、同項第三号若しくは第四号又は第二十七条第六項第一号のいずれかに該当する技術を用いたもの

２バイパス流路又はコア流路を提供する多段圧縮機であって、次項第二号イからトまで若しくはヌ若しくはヲ、同項第三号又は第二十七条第六項第一号のいずれかに該当する技術を用いた航空機用ガスタービンエンジンのために特に設計したもの

（二）次の１及び２を行うように特に設計したもの

１実時間でのデータの収集及び処理

２試験中における試験物又は試験条件のフィードバック制御

ハ第十二条第十一号イ又はハに該当する貨物に使用されるプログラムであって、一方向性凝固の材料又は単結晶の材料の成長を制御するために設計したもの

ニ削除

ホ第十二条第十号の二に該当するものを使用（操作に係るものに限る。）するために設計したプログラム

ヘ航空機用ガスタービンエンジンのブレード、ベーン又はチップシュラウドの内部冷却通路を設計するように設計したプログラム

ト次の（一）及び（二）に該当するプログラム

（一）航空機用ガスタービンエンジンの空気の熱的状態、空気力学的状態又は燃焼状態を予測するように設計されたもの

（二）実際の航空機用ガスタービンエンジンの性能データに基づき、空気の熱的状態、空気力学的状態又は燃焼状態を理論的にモデル予想するもの

四前号のプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

五第十二条第四号ホ又は同条第四号の三に該当するものを使用（操作に係るものに限る。）するために設計又は改造したプログラム

３外為令別表の一三の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第十二条第四号から第二十号までのいずれか又は第十四条第十一号に該当するガスタービンエンジン又はその部分品の使用（修理又はオーバーホールに係るものに限る。）に係る技術（プログラムを除く。）

二ガスタービンエンジンの部分品であって、次のいずれかに該当するものの設計若しくは製造に必要な技術（プログラムを除く。）又はその設計のためのプログラム

イ燃焼器であって、次のいずれかに該当するものを有するもの

（一）熱遮蔽ライナーであって、燃焼器出口温度が一、六一〇度を超えるもの

（二）非金属ライナー

（三）非金属シェル

（四）ルに該当する冷却孔を有するライナーであって、燃焼器の出口温度が一、六一〇度を超えるもの

（五）プレッシャーゲイン燃焼

ロ第四条第十二号に該当する物質、同条第十五号に該当する繊維、同条第七号イに該当するアルミニウムの化合物で補強された金属マトリックス複合材料又は同条第十二号に該当するセラミックマトリックス複合材料を原材料として製造されたもの

ハ無冷却式のタービンブレード、ベーン又はチップシュラウドであって、一、一〇〇度以上のガス流路温度で使用するように設計されたもの

ニ冷却式のブレード、ベーン又はチップシュラウドであって、一、四二〇度以上のガス流路温度で作動するように設計したもの（第二十七条第六項第一号に該当するものを除く。）

ホ固相接合法を用いて翼部とディスク部を接合したもの

ヘ削除

ト損傷許容設計された回転部分品であって、粉末冶や金材料（第四条第七号ロに該当するものに限る。）を用いたもの

チ削除

リ削除

ヌファンブレードであって、次の（一）及び（二）に該当するもの

（一）真空又はガスのみからなる閉鎖キャビティを一以上有し、閉鎖キャビティの体積の合計がファンブレードの総体積の二〇パーセント以上のもの

（二）体積が五立方センチメートル以上の閉鎖キャビティを一以上有するもの

ル本号イ、ニ又は第二十七条第六項第一号に該当するいずれかの技術（プログラムを除く。）を用いたガスタービンエンジンの部分品における冷却孔であって、次のいずれかに該当するものの穴あけ加工に必要な技術

（一）最小断面積が〇・四五平方ミリメートル未満であって、アスペクト比が四・五二を超えるもののうち、穴あけ角度が二五度以下のもの

（二）最小断面積が〇・一二平方ミリメートル未満であって、アスペクト比が五・六五を超えるもののうち、穴あけ角度が二五度を超えるもの

ヲステーター、ベーン、ブレード、チップシール、チップシュラウド、回転ブリング、回転ブリスク又はスプリッターダクトのいずれかであって、次の全てに該当するもの

（一）第二十七条第六項第一号ロに該当しないもの

（二）圧縮機又はファンのために設計されたもの

（三）第四条第十五号ホに該当する物質及び同条第十三号に該当する樹脂を原料として製造されたもの

三ガスタービンエンジンのフルオーソリティーデジタルエンジン制御システムの設計若しくは製造に係る技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの又はその設計のためのプログラム

イガスタービンエンジンの部分品の設計に係る技術であって、エンジンの推力又は軸出力を制御する機能をガスタービンエンジンの部分品に付与するためのもの

ロエンジンの推力や軸出力を調整するために用いられるエンジンの制御及び診断を行う部分品の設計又は製造に係る技術

ハエンジンの推力や軸出力を調整するために用いられる制御則アルゴリズム（ソースコードを含む。）の設計に係る技術

四ガスジェネレータータービン、ファンタービン、パワータービン、若しくはプロペリングノズルに係るエンジンの安定性を維持するために設計したガスタービンエンジンの流路の形状を可変にするための装置の設計若しくは製造に係る技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの又はその設計のためのプログラム

イエンジンの安定性を維持する部分品の機能を発揮させるための設計に係る技術

ロ流路の形状を可変にするための装置のための部分品であって、エンジンの安定性を維持するものの設計又は製造に係る技術

ハ流路の形状を可変にするための装置のための制御則アルゴリズム（ソースコードを含む。）であって、エンジンの安定性を維持するものの設計に係る技術

五マッハ数が一以上の速度における巡航時間が三〇分を超えることを可能とする航空機用ガスタービンエンジンのために特に設計した部分品であって、次のいずれかに該当するものの設計に必要な技術

イ推進力を得るための吸気系統に係る装置

ロ推進力を得るための排気系統に係る装置

ハ再熱燃焼器

ニエンジンのロータ支持部の潤滑又は冷却に使用する液体を調整するための能動的な熱管理装置

ホ潤滑油を用いないエンジンのロータ支持部

ヘ圧縮系統のコアガス流路の熱を除去する装置

４外為令別表の一三の項（四）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するもの又はその設計のためのプログラムとする。

一風洞用の模型であって、流れの状態に影響を与えない形のセンサーを用いたもののうち、センサーからデータ収集装置にデータを送信できるものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二複合材料を用いたプロペラブレード又はプロップファンであって、マッハ数が〇・五五を超える速度において二、〇〇〇キロワットを超える負荷を吸収することができるものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三ヘリコプター又はチルトローター若しくはチルトウィングを用いた航空機の動力伝達装置の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

四ガスタービンエンジンを装備した固定翼航空機のために設計された翼折りたたみシステムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

５外為令別表の一三の項（五）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するもの又はその設計のためのプログラムとする。

一車両用の往復動ディーゼルエンジンであって、次のイからハまでのすべてに該当するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）

イエンジン体積が一・二立方メートル以下のもの

ログロス軸出力が七五〇キロワットを超えるもの

ハキロワットで表したグロス軸出力を立方メートルで表したエンジン体積で除した値が七〇〇を超えるもの

二高出力ディーゼルエンジン（定格回転数が一分につき二、三〇〇回以上であって、かつ、回転数が一分につき二、三〇〇回の時の正味平均有効圧力が一・八メガパスカル以上のディーゼルエンジンをいう。以下この条において同じ。）の部分品の製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの

イ次の（一）から（三）までのすべての部分品が第四条第十二号に該当するセラミックで作られたエンジン（これらの部分品以外のすべての部分品が当該セラミック以外のもので作られているものを除く。）の製造に必要な技術

（一）シリンダーライナ

（二）ピストン

（三）シリンダーヘッド

ロターボ過給機であって、その圧縮機が次の（一）から（三）までのすべてに該当するものの製造に必要な技術

（一）一段当たりの圧力比が四以上のもの

（二）流量が一分につき三〇キログラム以上一三〇キログラム以下のもの

（三）圧縮機又はそのタービン部分の流路面積を変えることができるもの

ハ燃料噴射装置であって、三七・八度における動粘度が〇・五センチストークス以上二・五センチストークス以下のいずれの燃料にも用いることができるように設計したもののうち、次の（一）及び（二）に該当するものの製造に必要な技術

（一）噴射量が一気筒一噴射当たり二三〇立方ミリメートルを超えるもの

（二）燃料の特性に応じて同じトルク特性を得るように調速機の特性を自動的に切り替えることができるように電子制御するもの

三ピストンのトップリングの上死点位置において計測したシリンダーの壁面温度が四五〇度を超える高出力ディーゼルエンジンであって、シリンダー壁面に固体、気相又は液体の潤滑剤を用いたものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

第二十六条外為令別表の一四の項の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第十三条に該当するものの設計、製造又は使用に必要な技術（プログラムを除く。）

二第十三条に該当するものを設計し、製造し、若しくは使用するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計、製造若しくは使用に必要な技術（プログラムを除く。）

三技術であって、当該技術を用いることによって、ある貨物が第十三条第八項に該当する貨物の有する機能を発揮できるように特に設計したもの

第二十七条外為令別表の一五の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一第十四条第一号から第三号までのいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

二第十四条第六号又は第七号に該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

三第十四条第五号又は第五号の二に該当するものの設計又は製造に必要な技術

四第十四条第九号又は第十号に該当するものの設計又は製造に必要な技術

五第三号に該当するプログラムの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

六第十四条第八号又は第十一号に該当するものの設計又は製造に必要な技術

七前号に該当するプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）

２外為令別表の一五の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するプログラム又はそのプログラムの設計に必要な技術とする。

一えい航ハイドロホンアレーを用いて受信した音響データの実時間処理のための音響ビーム成形を行うために設計したもの

二えい航ハイドロホンアレーを用いて受信した音響データの実時間処理を行うためのソースコード

三海底用又は港湾用ケーブルシステムを用いて受信した音響データの実時間処理のための音響ビーム成形を行うために設計したもの

四海底用又は港湾用ケーブルシステムを用いて受信した音響データの実時間処理を行うためのソースコード

五次のイ及びロに該当するもの（ソースコードを含む。）

イ第九条第一号イ（六）に該当するものからの音響データを実時間で処理するもの

ロ水中において活動する人の位置を自動的に探知するようにデータを処理するもの

３外為令別表の一五の項（四）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するプログラムとする。

一慣性航法装置その他の慣性装置に用いることによって、これらの装置を第十条第三号に該当するようにすることができるように設計したプログラム

二船首データと次のいずれかに該当する航法データを連続的に統合し、慣性航法装置その他の慣性装置に用いることによって、これらの装置を第十条第三号に該当するようにすることができるプログラム（ソースコードのものに限る。）

イドップラー効果を利用するレーダーからの速度データ

ロジーピーエス又はグローナスからの航法データ

ハデータベース参照航法装置からのデータ

４外為令別表の一五の項（五）の経済産業省令で定める技術は、ジャイロ天測航法装置又は天体若しくは人工衛星の自動追跡により位置若しくは針路を測定することができる装置に用いることによって、その装置を第十条第四号に該当するようにすることができるように設計したプログラムとする。

５外為令別表の一五の項（五の二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一水中ソナー航法装置に用いることによって、その装置を第十条第七号に該当するようにすることができるように設計したプログラム

二船首データと次のいずれかに該当する航法データを連続的に統合し、水中ソナー航法装置に用いることによって、その装置を第十条第七号に該当するようにすることができるプログラム（ソースコードのものに限る。）

イドップラー効果を利用するソナーからの速度データ

ロジーピーエス又はグローナスからの航法データ

ハデータベース参照航法装置からのデータ

６外為令別表の一五の項（六）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。

一ガスタービンエンジンの部分品であって、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）

イ一方向性凝固又は単結晶の合金で鋳造されたガスタービンのブレード、ベーン又はチップシュラウドであって、一、〇〇〇度の温度において単結晶に垂直な方向に二〇〇メガパスカルの応力が発生する荷重を加えたときの応力破断時間が四〇〇時間以上のもの

ロ三一五度を超える温度で使用することができるように設計された有機複合材料を原料として製造されるもの

二前号に該当する技術の設計に必要なプログラム

第二十八条外為令別表の一六の項の経済産業省令で定める技術は、専ら関税率表別表第二五類から第四〇類まで、第五四類から第五九類まで、第六三類、第六八類から第九三類まで又は第九五類に該当する貨物の設計、製造又は使用に係る技術とする。

附　則

この省令は、平成三年十一月十四日から施行する。

附　則（平成四年三月二七日通商産業省令第一二号）

この省令は、平成四年四月一日から施行する。

附　則（平成四年一二月九日通商産業省令第八五号）

１この省令は、平成四年十二月三十一日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成五年六月一八日通商産業省令第三〇号）

この省令は、平成五年七月十六日から施行する。ただし、第三条及び第十六条第二項の改正規定は、平成五年七月一日から施行する。

附　則（平成五年一二月一日通商産業省令第八五号）

１この省令中第一条の規定は、公布の日から、第二条の規定は、平成五年十二月二十二日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成六年一月二八日通商産業省令第三号）

この省令は、公布の日から施行する。

附　則（平成六年三月一四日通商産業省令第一〇号）

１この省令は、平成六年三月二十八日から施行する。ただし、第二条の改正規定、第七条の改正規定（同条第三号ニ中「次のいずれかに該当するもの」を「計算要素を集合させることにより、複合理論性能が一秒につき二六〇メガ演算を超えるもの」に改め、（一）及び（二）を削る部分を除く。）及び第八条の改正規定は、公布の日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成六年六月二四日通商産業省令第四九号）

１この省令は、平成六年七月六日から施行する。ただし、第七条の改正規定（同条第五号及び第六号を削る部分に限る。）及び第二十条の改正規定（同条第一項第五号から第九号までを削る部分を除く。）は、公布の日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成七年二月二七日通商産業省令第二号）

１この省令は、公布の日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成七年五月一〇日通商産業省令第四三号）

１この省令は、平成七年五月二十二日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成七年八月九日通商産業省令第六六号）

１この省令は、平成七年八月二十三日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成七年一二月二〇日通商産業省令第一〇六号）

１この省令は、平成八年一月三日から施行する。ただし、第一条の改正規定、第二条の二の改正規定（同条第一項第一号及び第二号中「生ワクチンの成分であるもの」を「ワクチン」に改め、同項第三号中「毒素」の下に「（免疫毒素を除く。）」を加える部分に限る。）、第五条の改正規定、第十五条の改正規定及び第十八条の改正規定は、公布の日から施行する。

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成八年三月二八日通商産業省令第一八号）

この省令は、平成八年十月一日から施行する。

附　則（平成八年八月二八日通商産業省令第六〇号）（抄）

（施行期日）

１この省令は、平成八年九月十三日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成九年四月三日通商産業省令第六五号）

この省令は、平成九年四月二十九日から施行する。

附　則（平成一〇年三月一二日通商産業省令第九号）

この省令は、平成十年四月一日から施行する。

附　則（平成一〇年三月二五日通商産業省令第一三号）

（施行期日）

１この省令は、平成十年四月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一〇年八月二六日通商産業省令第七八号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一〇年一一月五日通商産業省令第八三号）

この省令は、平成十年十一月十二日から施行する。

附　則（平成一一年六月一八日通商産業省令第六四号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から施行する。ただし、次の各号に掲げる規定は、当該各号に定める日から施行する。

一第一条の改正規定、第四条第九号の改正規定、第五条第七号の改正規定、第六条第十七号イ及びヘの改正規定、第九条第十号ロの改正規定、第十四条の二第二号の改正規定、第十九条第三項及び第五項の改正規定、第二十一条第一項第十号の二、第十一号の二、第十三号及び第十五号並びに同条第二項第四号、第四号の二及び第十一号の改正規定、別表第三の改正規定平成十一年七月二日

二第二条第一項の改正規定及び第十四条の二第五十一号の二から第五十一号の四までの追加規定平成十一年七月十八日

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一二年六月二三日通商産業省令第一一五号）

（施行期日）

１この省令は、平成十二年七月七日から施行する。ただし、第一条第八号、第九号、第十一号、第十四号、第十八号、第二十一号、第二十二号、第二十四号イ及びハ、第二十七号及び第三十三号の改正規定、同条第三十四号の改正規定（同号イ（一）及びロ（一）中「七五ミリメートル以上の」を「七五ミリメートルを超える」に改める部分に限る。）、同条第三十五号、第三十六号、第三十八号、第四十号、第四十四号並びに第五十七号、第三条第七号ホ、第十六号イ及びト、第二十号並びに第二十二号の改正規定、第六条第一号の改正規定（同号ハ（三）中「並列プロセッサ」を「並列プロセッサ用に設計したもの」に改める部分を除く。）、同条第二号ロ、第四号及び第八号、第七条、第八条、第九条第一号イ、第十二条、第十三条第五項、第十四条第五号並びに第六号イ及びニ、第十四条の二第七十四号、第十九条、第二十条並びに第二十一条の改正規定並びに第二十五条の改正規定（同条第三項第二号中ヌを削り、ルをヌとし、ヲをルとする部分に限る。）は、公布の日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一二年一〇月三一日通商産業省令第二六五号）

この省令は、平成十三年一月六日から施行する。

附　則（平成一二年一二月二七日通商産業省令第四〇八号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一三年五月一六日経済産業省令第一六三号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から施行する。ただし、第一条第十号ロ、第二条の二、第四条、第五条第二号ロ、第八号及び第十号、第六条第二号、第五号、第十七号及び第十八号の改正規定、第九条第八号の改正規定（同号ロ（六）中「組み込んだもの」を「組み込んだビデオカメラ」に改める部分を除く。）、第十条、第二十一条第二項第三号の二ニ及び別表第三の備考の第十六号の改正規定は、平成十三年五月三十日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一三年一二月二八日経済産業省令第二四七号）

（施行期日）

１この省令は、平成十四年四月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一四年六月一四日経済産業省令第八五号）

（施行期日）

１この省令は、平成十四年七月十五日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一四年一〇月二一日経済産業省令第一〇八号）

（施行期日）

１この省令は、平成十四年十一月一日から施行する。ただし、第二条の改正規定は、平成十五年一月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一五年四月一日経済産業省令第五二号）

この省令は、公布の日から施行する。

附　則（平成一五年一二月二四日経済産業省令第一五九号）

（施行期日）

１この省令は、平成十六年一月二十日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一六年一一月一〇日経済産業省令第一〇四号）

（施行期日）

１この省令は、平成十七年一月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一七年一二月二日経済産業省令第一一六号）

（施行期日）

１この省令は、平成十八年一月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成一八年一一月一七日経済産業省令第九七号）

この省令は、平成十九年一月一日から施行する。

附　則（平成二〇年三月二六日経済産業省令第二一号）

（施行期日）

１この省令は、平成二十年五月十五日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二〇年八月二七日経済産業省令第五五号）

この省令は、平成二十年十一月一日から施行する。

附　則（平成二一年八月二八日経済産業省令第四六号）

この省令は、平成二十一年十月一日から施行する。

附　則（平成二二年三月五日経済産業省令第六号）（抄）

（施行期日）

第一条この省令は、平成二十二年四月一日から施行する。

（経過措置）

第二条この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二三年五月一八日経済産業省令第二六号）

（施行期日）

第一条この省令は、平成二十三年七月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

第二条この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二四年七月一九日経済産業省令第五六号）

（施行期日）

１この省令は、平成二十四年八月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二五年九月二七日経済産業省令第五一号）

（施行期日）

１この省令は、平成二十五年十月十五日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二六年八月一四日経済産業省令第四一号）

（施行期日）

１この省令は、平成二十六年九月十五日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二七年八月一一日経済産業省令第六〇号）

（施行期日）

１この省令は、平成二十七年十月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二八年一一月一八日経済産業省令第一〇七号）

（施行期日）

１この省令は、平成二十九年一月七日から施行する。ただし、第一条中輸出貿易管理令別表第一及び外国為替令別表の規定に基づき貨物又は技術を定める省令第五条第二号及び第十八条の改正規定は、平成二十九年六月一日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令（前項ただし書に規定する改正規定については、当該改正規定）の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成二九年一二月六日経済産業省令第八七号）

（施行期日）

１この省令は、平成三十年一月二十二日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（平成三〇年一一月一六日経済産業省令第六三号）

（施行期日）

１この省令は、平成三十一年一月九日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和元年七月一日経済産業省令第一七号）

この省令は、不正競争防止法等の一部を改正する法律の施行の日（令和元年七月一日）から施行する。

附　則（令和元年一一月二八日経済産業省令第四四号）

（施行期日）

１この省令は、令和二年一月二十二日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和二年一月一四日経済産業省令第二号）

この省令は、令和二年一月二十二日から施行する。

附　則（令和二年二月五日経済産業省令第七号）

この省令は、家畜伝染病予防法の一部を改正する法律の施行の日（令和二年二月五日）から施行する。

附　則（令和二年七月一日経済産業省令第六二号）

この省令は、家畜伝染病予防法の一部を改正する法律（令和二年法律第十六号）の施行の日（令和二年七月一日）から施行する。

附　則（令和二年一二月一〇日経済産業省令第八六号）

（施行期日）

１この省令は、令和三年一月二十七日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和三年一〇月一五日経済産業省令第七四号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から起算して二月を経過した日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和四年一〇月六日経済産業省令第七八号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から起算して二月を経過した日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和五年五月二三日経済産業省令第二五号）

この省令は、公布の日から起算して二月を経過した日から施行する。

附　則（令和五年一二月一日経済産業省令第五三号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から起算して二月を経過した日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和六年七月八日経済産業省令第四四号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から起算して二月を経過した日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和七年四月三日経済産業省令第三四号）

（施行期日）

１この省令は、令和七年五月二十八日から施行する。

（罰則に関する経過措置）

２この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

附　則（令和七年四月九日経済産業省令第三六号）

（施行期日）

この省令は、外国為替令等の一部を改正する政令の施行の日（令和七年十月九日）から施行する。

附　則（令和七年一一月一四日経済産業省令第七二号）

（施行期日）

１この省令は、公布の日から起算して三月を経過した日から施行する。ただし、第二条の二第二項第二号イ、第四号及び第五号の二の改正規定は、公布の日の翌日から施行する。

（準備行為）

２この省令による改正後の輸出貿易管理令別表第一及び外国為替令別表の規定に基づき貨物又は技術を定める省令に規定する貨物又は技術について、外国為替及び外国貿易法（昭和二十四年法律第二百二十八号）第二十五条第一項若しくは第三項又は第四十八条第一項の許可を受けようとする者は、この省令の施行の日前においても、当該許可の申請を行うことができる。

（経過措置）

３この省令の施行前にした行為に対する罰則の適用については、なお従前の例による。

別表第一　削除

別表第二（第十条、第十二条関係）

アルゼンチン、オーストラリア、オーストリア、ベルギー、ブルガリア、カナダ、クロアチア、チェコ、デンマーク、エストニア、フィンランド、フランス、ドイツ、ギリシャ、ハンガリー、インド、アイルランド、イタリア、大韓民国、ラトビア、リトアニア、ルクセンブルク、マルタ、メキシコ、オランダ、ニュージーランド、ノルウェー、ポーランド、ポルトガル、ルーマニア、ロシア、スロベニア、南アフリカ共和国、スペイン、スロバキア、スウェーデン、スイス、トルコ、ウクライナ、英国、アメリカ合衆国

別表第三（第五条、第十八条関係）

	コーティング方法	基材	コーティング
一	原料ガスの化学反応により生成するコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	超合金	アルミニウム化合物
		セラミック又は低熱膨張ガラス	けい素化合物、炭化物、誘電体膜、ダイヤモンド又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
		炭素及び炭素繊維を用いた複合材料（以下「カーボンカーボン」という。）、セラミック複合材料又は金属基複合材料	けい素化合物、炭化物、耐火金属、これらの組合せからなる混合物、誘電体膜、アルミニウム化合物、合金アルミニウム化合物又は窒化ほう素
		炭化タングステン合金又は炭化けい素	炭化物、タングステン、炭化物とタングステンの混合物又は誘電体膜
		モリブデン又はモリブデン合金	誘電体膜
		ベリリウム又はベリリウム合金	誘電体膜、ダイヤモンド又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
		センサー窓材	誘電体膜、ダイヤモンド又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
二	電子ビームにより蒸発させたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	超合金	合金けい素化合物、合金アルミニウム化合物、クロムアルミニウム合金、改良ジルコニア、けい素化合物、アルミニウム化合物又はこれらの組合せからなる混合物
		セラミック又は低熱膨張ガラス	誘電体膜
		耐食性を有する合金鋼	クロムアルミニウム合金、改良ジルコニア又はクロムアルミニウム合金と改良ジルコニアの混合物
		カーボンカーボン、セラミック複合材料又は金属基複合材料	けい素化合物、炭化物、耐火金属、これらの組合せからなる混合物、誘電体膜又は窒化ほう素
		炭化タングステン合金又は炭化けい素	炭化物、タングステン、炭化物とタングステンの混合物又は誘電体膜
		モリブデン又はモリブデン合金	誘電体膜
		ベリリウム又はベリリウム合金	誘電体膜、ほう素化合物又はベリリウム
		センサー窓材	誘電体膜
		チタン合金	ほう素化合物又は窒素化合物
三	電気による抵抗加熱により蒸発させたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法（イオンプレーティング法）	セラミック又は低熱膨張ガラス	誘電体膜又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
		カーボンカーボン、セラミック複合材料又は金属基複合材料	誘電体膜
		炭化タングステン合金又は炭化けい素	誘電体膜
		モリブデン又はモリブデン合金	誘電体膜
		ベリリウム又はベリリウム合金	誘電体膜
		センサー窓材	誘電体膜又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
四	レーザーにより蒸発させたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	セラミック又は低熱膨張ガラス	けい素化合物、誘電体膜又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
		カーボンカーボン、セラミック複合材料又は金属基複合材料	誘電体膜
		炭化タングステン合金又は炭化けい素	誘電体膜
		モリブデン又はモリブデン合金	誘電体膜
		ベリリウム又はベリリウム合金	誘電体膜
		センサー窓材	誘電体膜又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
五	アーク放電により蒸発させたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	超合金	合金けい素化合物、合金アルミニウム化合物又はクロムアルミニウム合金
五	アーク放電により蒸発させたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	重合体又は有機物をマトリックスとする複合材料	ほう素化合物、炭化物、窒素化合物又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
六	粉末状のコーティング材料を基材とともに容器に封入し、七五七度以上の温度で加熱して、基材の表面に定着させる方法	カーボンカーボン、セラミック複合材料又は金属基複合材料	けい素化合物、炭化物又はけい素化合物と炭化物の混合物
		チタン合金	けい素化合物、アルミニウム化合物又は合金アルミニウム化合物
		耐火性を有する金属又はこれらの合金	けい素化合物又は酸化物
七	プラズマ溶射をするもの	超合金	クロムアルミニウム合金、改良ジルコニア、クロムアルミニウム合金と改良ジルコニアの混合物、研磨可能なニッケルグラファイト合金、ニッケルクロムアルミニウムを含む研磨可能な物質、研磨可能なアルミニウムけい素ポリエステル合金又は合金アルミニウム化合物
		アルミニウム合金	クロムアルミニウム合金、改良ジルコニア、けい素化合物又はこれらの組合せからなる混合物
		耐火性を有する金属又はこれらの合金	アルミニウム化合物、けい素化合物又は炭化物
		耐食性を有する合金鋼	クロムアルミニウム合金、改良ジルコニア又はクロムアルミニウム合金と改良ジルコニアの混合物
		チタン合金	炭化物、アルミニウム化合物、けい素化合物、合金アルミニウム化合物、研磨可能なニッケルグラファイト合金、ニッケルクロムアルミニウムを含む研磨可能な物質又は研磨可能なアルミニウムけい素ポリエステル合金
八	スラリー状にしたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	耐火性を有する金属又はこれらの合金	溶融したけい素化合物又は溶融したアルミニウム化合物
八	スラリー状にしたコーティング材料を基材の表面に定着させる方法	カーボンカーボン、セラミック複合材料又は金属基複合材料	けい素化合物、炭化物又はけい素化合物と炭化物の混合物
九	スパッタリング法	超合金	合金けい素化合物、合金アルミニウム化合物、貴金属を用いたアルミニウム化合物、クロムアルミニウム合金、改良ジルコニア、白金又はこれらの組合せからなる混合物
		セラミック又は低熱膨張ガラス	けい素化合物、白金、けい素化合物と白金の混合物、誘電体膜又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
		チタン合金	ほう素化合物、窒素化合物、酸化物、けい素化合物、アルミニウム化合物、合金アルミニウム化合物又は炭化物
		カーボンカーボン、セラミック複合材料又は金属基複合材料	けい素化合物、炭化物、耐火金属、これらの組合せからなる混合物、誘電体膜又は窒化ほう素
		炭化タングステン合金又は炭化けい素	炭化物、タングステン、炭化物とタングステンの混合物、誘電体膜又は窒化ほう素
		モリブデン又はモリブデン合金	誘電体膜
		ベリリウム又はベリリウム合金	ほう素化合物、誘電体膜又はベリリウム
		センサー窓材	誘電体膜又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜
		耐火性を有する金属又はこれらの合金	アルミニウム化合物、けい素化合物、酸化物又は炭化物
十	イオン注入法	高温ベアリング鋼	クロム、タンタル又はニオブの添加物
		チタン合金	ほう素化合物又は窒素化合物
		ベリリウム又はベリリウム合金	ほう素化合物
		炭化タングステン合金	炭化物又は窒素化合物

備考

一コーティング方法には、初期コーティングに加え、補修コーティング及び再生コーティングを含む。

二合金アルミニウム化合物コーティングには、アルミニウム化合物のコーティングに先行してある種の元素を単一若しくは複数工程によりコーティングすることを含む。ただし、合金アルミニウム化合物を得るために、粉末状のコーティング材料を基材とともに容器に封入し、七五七度以上の温度で加熱して、基材の表面に定着させる方法を複数使用することは、合金アルミニウム化合物コーティングに含まれない。

三貴金属を用いたアルミニウム化合物コーティングには、アルミニウム化合物のコーティングに先行して貴金属を複数の工程でコーティングすることを含む。

四混合物とは、含浸材料、傾斜組成物質、共被覆体又は多層被覆体を含むものであって、この表に規定されるコーティング方法により得られるものをいう。

五クロムアルミニウム合金コーティングとは、コバルト、鉄、ニッケル又はこれらの組合せを含み、かつ、ハフニウム、イットリウム、けい素、タンタル又は〇・〇一重量パーセントを超える他の添加物を種々の比率、組合せにより含むものをいう。ただし、次のイからハまでのいずれかに該当するコーティングを除く。

イ二二重量パーセント未満のクロム、七重量パーセント未満のアルミニウム及び二重量パーセント未満のイットリウムを含むコバルト、クロム、アルミニウム及びイットリウムからなる合金のコーティング

ロ二二重量パーセント以上二四重量パーセント以下のクロム、一〇重量パーセント以上一二重量パーセント以下のアルミニウム及び〇・五重量パーセント以上〇・七重量パーセント以下のイットリウムを含むコバルト、クロム、アルミニウム及びイットリウムからなる合金のコーティング

ハ二一重量パーセント以上二三重量パーセント以下のクロム、一〇重量パーセント以上一二重量パーセント以下のアルミニウム及び〇・九重量パーセント以上一・一重量パーセント以下のイットリウムを含むニッケル、クロム、アルミニウム及びイットリウムからなる合金のコーティング

六アルミニウム合金基材とは、温度二〇度で測定した引張強さが一九〇メガパスカル以上のものをいう。

七耐食性を有する合金鋼基材とは、米国鉄鋼学会規格三〇〇番台又はこれと同等規格の鋼をいう。

七の二耐火性を有する金属又はこれらの合金には、ニオブ、モリブデン、タングステン若しくはタンタル又はこれらの合金を含む。

八センサー窓材とは、アルミナ、けい素、ゲルマニウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、砒ひ化ガリウム、ダイヤモンド、りん化ガリウム若しくはサファイヤ又は金属ハロゲン化物のうちふっ化ジルコニウム若しくはふっ化ハフニウムからなるもののうち直径が四〇ミリメートルを超えるものをいう。

九粉末状のコーティング材料を基材とともに容器に封入し、七五七度以上の温度で加熱して、基材の表面に定着させる方法には、中空でない翼に対する単段階の当該コーティング方法は含まない。

十重合体とは、ポリイミド、ポリエステル、ポリスルファイド、ポリカーボネート又はポリウレタンをいう。

十一改良ジルコニアとは、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、希土類酸化物その他の金属酸化物をジルコニアに添加することによって、結晶学的な構造と相の組成を安定化させたものをいう。ただし、酸化カルシウム又は酸化マグネシウムによって改良されたジルコニアによる熱遮へいコーティングを除く。

十二チタン合金基材とは、温度二〇度で測定した引張強さが九〇〇メガパスカル以上の航空宇宙用の合金をいう。

十三低熱膨張ガラス基材とは、温度二〇度で測定した熱膨張率が〇・〇〇〇〇〇〇一以下のガラスをいう。

十四誘電体膜とは、四層を超える誘電体の膜又は誘電体と金属の複合材料の膜をいう。

十五炭化タングステン合金基材には、炭化タングステン及びコバルト若しくはニッケルからなる合金、炭化チタン及びコバルト若しくはニッケルからなる合金、炭化クロム及びニッケルクロム合金からなる合金又は炭化クロム及びニッケルからなる合金の切削工具や塑性加工工具の材料を含まない。

十六非晶質ダイヤモンド状炭素膜のコーティングには、磁気ディスク駆動機構、磁気ヘッド、使い捨て容器の製造に用いられる装置、水道栓、スピーカーに用いられる振動板、自動車に用いられるエンジンの部分品、切削工具、切断若しくは成型用金型、事務機器、マイクロホン、医療機器又はベリリウムの含有率が五パーセント未満の合金で作られた樹脂成型用の金型に対して行うものを含まない。

十七炭化けい素基材には、切削及び塑性加工工具の材料を含まない。

十八セラミック基材には、五重量パーセント以上のクレー又はセメント（これらの化合物を含む。）を含むセラミック材料を含まない。

ホームにもどる